「bipolar diffusion」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A collector 3 made of an N-type diffusion layer, a base 5 made of a P-type diffusion layer, and an emitter 7 made of an N-type diffusion layer are formed in a P-type semiconductor layer 1, to form a bipolar transistor.例文帳に追加

Ｐ型半導体層１に、Ｎ型拡散層からなるコレクタ３、Ｐ型拡散層からなるベース５、Ｎ電型拡散層からなるエミッタ７が形成されてバイポーラトランジスタが形成されている。 - 特許庁

The diode element has a longitudinal bipolar transistor structure, comprising a collector diffusion layer 27, a base diffusion layer 29, and an emitter diffusion layer 31; its base and collector are connected; and is a diode element formed between the emitter and the base.例文帳に追加

ダイオード素子は、コレクタ拡散層２７、ベース拡散層２９及びエミッタ拡散層３１を備えた縦型バイポーラトランジスタ構造からなり、ベースとコレクタが接続され、エミッタとベースとの間で形成されたダイオード素子である。 - 特許庁

The concentration of an N-type intrinsic base diffusion area 23 adjoining to the emitter diffusion area 23 of an L-PNP transistor is made higher than that of a base buried layer 3B adjoining to the collector diffusion area 16B of an L-PNP bipolar transistor.例文帳に追加

Ｌ−ＰＮＰトランジスタのエミッタ拡散領域２３に隣接するＮ型真性ベース拡散領域２２の濃度を、Ｌ−ＰＮＰバイポーラトランジスタのコレクタ拡散領域１６Ｂに隣接するベース埋め込み層３Ｂの濃度より高くする。 - 特許庁

The low-density N-type diffusion region 108, low-density and high-density N-type diffusion regions 109 and 106, and high-density N-type diffusion region 104 form parasitic bipolar transistors 203 and 204.例文帳に追加

前記ゲートＧの近傍には、前記低濃度Ｎ型拡散領域１０８と、前記低濃度及び高濃度Ｎ型拡散領域１０９、１０６と、高濃度Ｎ型拡散領域１０４とにより寄生バイポーラトランジスタ２０３、２０４が形成される。 - 特許庁

This component of the cell is composed by stacking the reaction gas/water diffusing body on the separator/bipolar plate and integrating them with each other by diffusion joining.例文帳に追加

反応ガス／水拡散体とセパレータ／複極板とを積層し、拡散接合によって一体化させてセルの構成部品とする。 - 特許庁

A diffusion suppression layer for suppressing the diffusion of an impurity contained in a base region in a collector region is provided in the connecting surface of a collector region and the base region of the bipolar transistor.例文帳に追加

バイポーラトランジスタのコレクタ領域とベース領域との接合面に、ベース領域に含有させた不純物がコレクタ領域に拡散するのを抑制するための拡散抑制層を設けることとした。 - 特許庁

To improve conduction of a bipolar pole plate, especially, at its surface region and, thereby, minimize the contact resistance between the bipolar pole plate and a gas diffusion layer in the fuel cell assembly.例文帳に追加

双極極板の導電性を特にその表面領域で向上させそしてそれによって燃料電池組立物中の双極極板とガス拡散層との間の接触抵抗を最小化するこである。 - 特許庁

To restrain a vertical bipolar transistor in an element isolating diffusion region from latching up and to prevent a collector current from flowing out to a semiconductor substrate.例文帳に追加

素子分離用の拡散領域内の縦型バイポーラトランジスタにおいて、ラッチアップを回避しつつ、コレクタ電流が半導体基板に流出することを回避する。 - 特許庁

To provide a heterojunction bipolar transistor capable of maintaining high reliability over a long term by effectively suppressing the diffusion of Au to an epitaxial layer.例文帳に追加

Ａｕのエピタキシャル層への拡散を効果的に抑制して、長期間にわたり高い信頼性を維持できるヘテロ接合バイポーラトランジスタを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a bipolar transistor, capable of suppressing misalignment when forming each diffusion region, and reducing variations in electrical characteristics since position accuracy of each diffusion region is high.例文帳に追加

各拡散領域を形成する際のアライメントずれを抑制することができ、各拡散領域の位置精度が高く、電気特性のばらつきを低減することのできるバイポーラトランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for obtaining a complimentary bipolar transistor with a high behavior by maintaining a diffusion depth thereof to be the same degree to form a diffusion layer of a shallow target, and without affecting other diffusion layers, while simultaneously diffusing dopant added from a polycrystalline silicon film in both emitter areas of a PNP transistor and an NPN transistor in the complimentary bipolar transistor.例文帳に追加

相補型バイポーラトランジスタで、ＰＮＰトランジスタとＮＰＮトランジスタの両方のエミッタ領域を多結晶シリコン膜から添加された不純物を同時に拡散させながら、その拡散深さを同程度で目標の浅い拡散層を形成し、しかも他の拡散層に影響を与えることなく、高特性の相補型のバイポーラトランジスタを得るための製造方法を提供する。 - 特許庁

In the semiconductor device 1 wherein the lateral pnp transistor is incorporated in the bipolar IC, a dopant used in a buried diffusion layer 8 immediately below the lateral pnp transistor B has a diffusion coefficient larger than that of a dopant used in a buried diffusion layer 5 immediately below a control circuit A.例文帳に追加

バイポーラＩＣに横型ＰＮＰトランジスタを内蔵する半導体装置１において、横型ＰＮＰトランジスタ部Ｂ直下の埋め込み拡散層８に用いる不純物は、制御回路部Ａ直下の埋め込み拡散層５に用いる不純物よりも大きい拡散係数を有するものとする。 - 特許庁

The ESD protection element includes: a bipolar transistor having a collector diffusion layer 7 connected with a first terminal (Pad), and an emitter terminal; and current control resistors 11 provided on a plurality of current paths from a second terminal (GND) to the collector diffusion layer 7 through an emitter diffusion layer 4, respectively.例文帳に追加

バイポーラトランジスタは、第１端子（Ｐａｄ）に接続されるコレクタ拡散層７とエミッタ端子とを備えるバイポーラトランジスタと、第２端子（ＧＮＤ）からエミッタ拡散層４を介してコレクタ拡散層７に至る複数の電流経路上のそれぞれに設けられた電流制御抵抗１１とを具備する。 - 特許庁

To provide a method for accurately measuring with high precision a diffusion depth of impurities diffused into a silicon substrate from a fine area such as an emitter opening part of a bipolar transistor.例文帳に追加

バイポーラトランジスタのエミッタ開口部のような微小な領域からシリコン基板へ拡散した不純物の拡散深さを高い精度で正確に測定することを目的とする。 - 特許庁

Phosphorus glass (PSG film) 2 containing phosphorus (P) is formed on an Si semiconductor substrate 1, and the formation of an emitter by diffusion is finished for a transistor to be formed on a bipolar IC.例文帳に追加

Ｓｉ半導体基板１の上に、リン（Ｐ）を含んでいるリンガラス（ＰＳＧ膜）２を形成し、バイポーラＩＣ上に形成すべきトランジスタのエミッタ拡散を終了する。 - 特許庁

Thus, it can effectively suppress the diffusion of Au to an epitaxial layer, and to obtain a heterojunction bipolar transistor capable of maintaining high reliability over a long term.例文帳に追加

これにより、Ａｕのエピタキシャル層への拡散を効果的に抑制して、長期間にわたり高い信頼性を維持できるヘテロ接合バイポーラトランジスタを実現することができる。 - 特許庁

In a horizontal bipolar transistor, containing thermally diffused impurities provided on the upper part of a base region, contains a semiconductor layer, and has a collector diffusion layer and an emitter diffusion layer juxtaposed, and a semiconductor device that has such a transistor, the semiconductor layer is laid down to further implant impurities, and then, subjected to heat treatment, to make a collector diffusion layer and an emitter diffusion layer.例文帳に追加

ベース領域の上部に設けた不純物を含有する半導体層の前記不純物を熱拡散させてコレクタ拡散層とエミッタ拡散層とを並設してなる横型バイポーラトランジスタ、およびそれを有する半導体装置において、半導体層を横断させて不純物をさらにイオン注入した後に熱処理することによってコレクタ拡散層とエミッタ拡散層とを設ける。 - 特許庁

To provide a bipolar transistor wherein the device characteristics of the transistor are not deteriorated, while impurity diffusion in the layers in the transistor is inhibited, and moreover by the generation of damage to the transistor due to an ion implantation into the layers or the like.例文帳に追加

不純物拡散を抑制しつつ、しかもイオン注入に基づくダメージの発生などによりデバイス特性が劣化しないバイポーラトランジスタを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a complex of a fluororesin and carbon particles having a low electrical resistance, high hardness, and high strength, without hot pressing; a gas diffusion electrode, without having to use an expensive bipolar plate provided with a gas passage formed therein; and a fuel cell which uses the bipolar plate.例文帳に追加

ホットプレスを用いなくとも、電気抵抗が低く、硬く、強度を有するフッ素樹脂および炭素微粒子の複合体の提供、並びに、ガス通路を形成させた高価なバイポーラプレートを用いる必要がないガス拡散電極およびこれを用いた燃料電池の提供。 - 特許庁

The PNP bipolar transistor 164 is formed by P-type, N-type, and P-type impurity diffusion regions 122, 126, and 128 that are formed in the direction of the depth of a substrate, and the zener diode 150 is formed by the N-type and P-type impurity diffusion regions 126 and 128.例文帳に追加

ＰＮＰバイポーラトランジスタ１６４は、基板の深さ方向に形成したＰ型、Ｎ型及びＰ型不純物拡散領域１２２，１２６，１２８にて形成され、ツェナーダイオード１５０は、Ｎ型及びＰ型不純物拡散領域１２６，１２８にて形成される。 - 特許庁

An npn-type bipolar transistor Bip1 consisting of an epitaxial layer 2, a base diffusion layer 5, a base connection layer 4 and an emitter diffusion layer 6, and a pn-junction diode D1 consisting of the epitaxial layer 2 and an anode layer 3 are formed on a semiconductor substrate 1.例文帳に追加

半導体基板１上に、エピタキシャル層２、ベース拡散層５、ベース接続層４、エミッタ拡散層６からなるｎｐｎ型バイポーラトランジスタＢｉｐ１と、前記半導体基板１上に、前記エピタキシャル層２、アノード層３からなるｐｎ接合ダイオードＤ１とを形成する。 - 特許庁

When the fuel cell set is assembled, an anode gas diffusion layer and a cathode gas diffusion layer are joined on both sides of a membrane electrode of a fuel cell unit cell and then, a matching type bipolar electrode module is arranged on the adjoining interface, and thus a module structure of a plurality of unit cells is completed.例文帳に追加

該燃料電池セットを組み立てる時は、燃料電池単電池の膜電極アセンブリの両側にアノードガス拡散層とカソードガス拡散層を結合させた後、その隣り合う界面に整合式双極板モジュールを配置すれば、複数の単電池をモジュール化した構造が完成する。 - 特許庁

When a base diffusion layer 12 for a bipolar type transistor 10 formed to the semiconductor device 1 is formed, acceleration energy and a dosage are changed to a prearranged region as a base diffusion layer 12 for an n-type epitaxial layer 13, and impurity ions are implanted at a plurality of times.例文帳に追加

半導体装置１に備わるバイポーラ型トランジスタ１０のベース拡散層１２を形成する際に、Ｎ型エピタキシャル層１３のベース拡散層１２となるべく予め定められる領域に対して、加速エネルギとドーズ量とを変化させ、複数回に分けて不純物イオンを注入する。 - 特許庁

In such a structure, hydrogen-containing fuel can be easily moved to a gas diffusion layer of the anode electrode, and water can be easily moved from the cathode electrode to the other face of the bipolar plate.例文帳に追加

かかる構成により、水素含有燃料をアノード電極の気体拡散層に容易に移動させることができ、水をカソード電極からバイポーラプレートの他面に容易に移動することができる。 - 特許庁

The ESD protection circuit 110 includes a bipolar transistor 121 comprising a first diffusion layer 115 of a first conductive type connected to a high potential power supply VDD, a second diffusion layer 114B of a second conductive type connected to a low potential power supply VSS, and a third diffusion layer 14A of the second conductive type connected to an input/output pad 101.例文帳に追加

本発明によるＥＳＤ保護回路１１０は、高電位電源ＶＤＤに接続される第１導電型の第１拡散層１１５と、低電位電源ＶＳＳに接続される第２導電型の第２拡散層１１４Ｂと、入出力パッド１０１に接続される第２導電型の第３拡散層１４Ａとによって形成されるバイポーラトランジスタ１２１を具備する。 - 特許庁

To prevent a part becoming CMOSFET from being exposed to excessive heat in a heat treatment for emitter diffusion in a manufacturing method of a semiconductor device where a bipolar transistor and CMOSFET are formed on one substrate.例文帳に追加

バイポーラトランジスタとＣＭＯＳＦＥＴを一つの基板上に形成する半導体装置の製造方法において、ＣＭＯＳＦＥＴとなる部分をエミッタ拡散のための熱処理によって過剰な熱に晒さないようにする。 - 特許庁

Since diffusion of electrons is not impeded, the heterojunction bipolar transistor capable of sustaining high speed operation even under a heavily doped state can be obtained and the performance of a circuit employing the transistor can be enhanced.例文帳に追加

このため、電子の拡散が阻害されないことから、高注入状態においても、高速動作性能を維持できるヘテロ接合バイポーラトランジスタを実現でき、これを用いた回路の高性能化が可能となる。 - 特許庁

Since a diffusion of electrons is not impeded, the heterojunction bipolar transistor capable of maintaining a high-speed operation even under a heavily injected state can be obtained, so that the performance of a circuit employing the transistor can be enhanced.例文帳に追加

このため、電子の拡散が阻害されないことから、高注入状態においても、高速動作性能を維持できるヘテロ接合バイポーラトランジスタを実現でき、これを用いた回路の高性能化が可能となる。 - 特許庁

To mount a submicron CMOS transistor mixedly with an analog CMOS transistor, a high breakdown strength MOS transistor, a bipolar transistor, a diode or a diffusion resistor on the same substrate without deteriorating the characteristics thereof.例文帳に追加

サブミクロンＣＭＯＳトランジスタを、アナログＣＭＯＳトランジスタ、高耐圧ＭＯＳトランジスタ、バイポーラトランジスタ、ダイオードまたは拡散抵抗などと一緒に、それぞれの特性を劣化させることなく、同一基板上に混載すること。 - 特許庁

To reduce a transistor in parasitic resistance in a state of realizing shallow junction of an emitter base, in a method of manufacturing a bipolar transistor whose emitter diffusion layer is formed by diffusing impurities from an emitter polysilicon electrode.例文帳に追加

エミッタポリシリコン電極からの不純物拡散によってエミッタ拡散層を形成するバイポーラトランジスタの製造方法において、エミッタベースの浅接合を実現した状態でトランジスタの寄生抵抗を低減させる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can easily obtain a structure holding reliability of an npn-type bipolar transistor mounted on a surface of a semiconductor substrate having a diffusion layer as an element isolation layer; and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

素子分離層として拡散層を有する半導体基板の表面に搭載されるＮＰＮ型バイポーラトランジスタの信頼性を確保する構造を容易に得ることのできる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method for a vertical bipolar transistor has the following steps of: implanting impurities over a plurality of times while changing an implantation energy when forming an impurity diffusion region in a semiconductor substrate 4; and subsequently subjecting the semiconductor substrate 4 to heat treatment.例文帳に追加

半導体基板４に不純物拡散領域を形成する際に、注入エネルギーを変えながら複数回に亘って不純物を注入する工程と、その後に半導体基板４を熱処理する工程を備えている。 - 特許庁

In a heterojunction bipolar transistor having a collector layer (12), a base layer (13), and an emitter layer (14), an Au diffusion preventing layer (20) of InP or InGaP is formed between an emitter electrode (19) including gold and the base layer (13).例文帳に追加

コレクタ層（１２）、ベース層（１３）及びエミッタ層（１４）を有するヘテロ接合バイポーラトランジスタにおいて、金を含むエミッタ電極（１９）とベース層（１３）との間に、ＩｎＰ又はＩｎＧａＰのＡｕ拡散防止層（２０）を備える。 - 特許庁

The writing transistor WTr is used to write the data into the memory transistor and is a bipolar transistor where an impurity diffusion area 41 is an emitter area, a drain area 35 is a base area, and the channel body 39 is a collector area.例文帳に追加

書込トランジスタＷＴｒは、記憶トランジスタにデータを書込むために利用され、不純物拡散領域４１をエミッタ領域、ドレイン領域３５をベース領域、チャネルボディ３９をコレクタ領域とするバイポーラトランジスタである。 - 特許庁

At the time of forming a punch through stopper layer on one major surface of a semiconductor substrate 1, ions are implanted while masking a region for forming an analog CMOS transistor, a high breakdown strength MOS transistor, a bipolar transistor, a diode or a diffusion resistor.例文帳に追加

半導体基板１の一主面側にパンチスルーストッパー層を形成する際に、アナログＣＭＯＳトランジスタ、高耐圧ＭＯＳトランジスタ、バイポーラトランジスタ、ダイオードまたは拡散抵抗を形成する領域をマスクしてたとえばイオン注入をおこなう。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing hetero-junction bipolar transistor integration light receiving circuit which prevents diffusion of dopant injected in a light absorption layer of a photodiode and deterioration of a light absorption layer surface, and is excellent in high frequency characteristic and high reliability.例文帳に追加

フォトダイオードの光吸収層に注入されたドーパントの拡散および光吸収層表面の劣化を防止でき、高周波特性および高信頼性に優れたヘテロ接合バイポーラトランジスタ集積化受光回路の製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress a property variation caused by contamination or damage and to improve a reliability by protecting a surface which is in a sensitive state caused by a low impurity concentration of a diffusion layer of an IIL which corresponds to a base region of a PNP bipolar transistor.例文帳に追加

ＩＩＬのＰＮＰバイポーラトランジスタのベース領域に相当する拡散層の不純物濃度が低濃度のために敏感な状態となっている表面を保護して、コンタミネーションやダメージによる特性変動の抑制、信頼性の向上を図る。 - 特許庁

The semiconductor device is characterized in that the insulation region in the internal section of the second well, coupled with the first conductivity-type diffusion region of the first well, makes up a bipolar junction transistor which blocks an electric current from flowing from the first well to the third well.例文帳に追加

前記第２ウェルの内部の前記絶縁領域は、前記第１ウェルの前記第１導電型拡散領域と共にバイポーラジャンクショントランジスタを形成して前記第１ウェルから前記第３ウェルに流れる電流を遮断することを特徴とする。 - 特許庁

A method for manufacturing the semiconductor device comprises a step of forming an epitaxial layer 35a as a base layer of the bipolar transistor, in a state in which a gate electrode 31 of the insulated gate field effect transistor having at least a compound film of a high melting point metal is covered with a diffusion preventive film 57 of the high melting point metal.例文帳に追加

高融点金属の化合物膜を少なくとも含む絶縁ゲート型電界効果トランジスタのゲート電極３１を高融点金属の拡散防止膜５７で覆った状態で、バイポーラトランジスタのベース層としてのエピタキシャル層３５ａを形成する。 - 特許庁

In the reverse-blocking insulated gate bipolar transistor of which the substrate thickness is ≤150 μm, a trench groove 23 for isolation region formation formed on a first principal surface side is used to form an isolation diffusion region 32.例文帳に追加

基板の厚さが１５０μｍ以下の逆阻止型絶縁ゲート形バイポーラトランジスタにおいて、第一主面側に形成した分離領域形成用トレンチ溝２３を利用して分離拡散領域３２が形成されている逆阻止型絶縁ゲート形バイポーラトランジスタとする。 - 特許庁

In the reverse blocking insulated gate type bipolar transistor of which the substrate thickness is equal to 150 μm or less, a trench 23 formed on a first main surface side is used to form an isolation diffusion region 32.例文帳に追加

基板の厚さが１５０μｍ以下の逆阻止型絶縁ゲート形バイポーラトランジスタにおいて、第一主面側に形成した分離領域形成用トレンチ溝２３を利用して分離拡散領域３２が形成されている逆阻止型絶縁ゲート形バイポーラトランジスタとする。 - 特許庁

In the semiconductor device including complementary field effect transistors, a p-type impurity diffusion region 5a to become an emitter electrode of a parasitically formed bipolar transistor and an n-type impurity diffusion region 3 electrically connected to a power supply line 14 are connected by connection wiring 40 formed of a high-melting point metal silicide having n-type impurities.例文帳に追加

相補型電界効果型トランジスタを含む半導体装置において、寄生的に形成されるバイポーラトランジスタのエミッタ電極となるｐ型不純物拡散領域５ａと、電源供給線１４と電気的に接続されているｎ型不純物拡散領域３とを、ｎ型不純物を有する高融点金属シリサイドからなる接続配線４０により接続する。 - 特許庁

The npn bipolar transistor 30 is formed on the surface of the semiconductor substrate 11, and among its base area (P-wel 14b), the p-type diffusion layer 16b is formed on a joint to join with a collector area in such manner that the impurity concentration of the above area is locally elevated.例文帳に追加

こうした半導体基板１１の表面に、上記ＮＰＮ型バイポーラトランジスタ３０を形成し、そのベース領域（Ｐウェル１４ｂ）のうち、コレクタ領域と接合する接合部に同領域の不純物濃度を局所的に高く設定するかたちでＰ型拡散層１６ｂを形成する。 - 特許庁

Consequently, a punch through stopper region 4 is formed in a region for forming a submicron CMOS transistor while preventing formation of the punch through stopper region in a region for forming an analog CMOS transistor, a high breakdown strength MOS transistor, a bipolar transistor, a diode or a diffusion resistor.例文帳に追加

それによって、サブミクロンＣＭＯＳトランジスタの形成領域にパンチスルーストッパー領域４を形成するとともに、アナログＣＭＯＳトランジスタ、高耐圧ＭＯＳトランジスタ、バイポーラトランジスタ、ダイオードまたは拡散抵抗の形成領域にパンチスルーストッパー領域が形成されるのを防ぐ。 - 特許庁

It is preferable that a nonconductor coating film of a metal oxide is formed on surfaces of the reaction gas/water diffusing body and the separator/bipolar plate by executing at least one kind of treatment within an electrolysis anode treatment, a chemical treatment, and a heat treatment in an air or oxygen atmosphere after the diffusion joining.例文帳に追加

拡散接合ののち、電解アノード処理、薬液処理、水蒸気雰囲気処理、空気または酸素雰囲気中の熱処理の少なくとも１種の処理を行なって、反応ガス／水拡散体およびセパレータ／複極板の表面上に、金属酸化物の不導体皮膜を形成させることが好ましい。 - 特許庁