「chemical solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The polishing solution being used for chemical mechanical polishing in the fabrication of a semiconductor device contains a thiosulfate.例文帳に追加

半導体デバイスの製造における化学的機械的研磨に用いる研磨液であって、チオ硫酸塩を含有することを特徴とする金属用研磨液。 - 特許庁

To provide effective solution for preventing slurry leakage in polishing pads used for chemical/mechanical polishing device.例文帳に追加

ケミカルメカニカルポリシング装置に用いられるポリシングパッドのスラリー漏れの防止に対する効果的な解決法を提供する。 - 特許庁

The low concentration chemical solution in the deaerator 14 is supplied to the boiler 17 via the water supply pipe.例文帳に追加

次に、脱気器１４内の低濃度薬剤溶液を給水用配管を介してボイラ１７に供給する。 - 特許庁

An ultraviolet irradiator 4 is provided above the board for irradiating an ultraviolet ray which promotes the generation of an organic oxide seed from the chemical solution.例文帳に追加

基板の上方に、薬液からの有機物酸化種の生成を促進させる紫外線を照射する紫外線照射装置４を有する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus improving the inplane uniformity of substrate processing by a chemical solution.例文帳に追加

薬液による基板処理の面内均一性を向上することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Complicated manufacturing control such as waste solution disposal is not required as compared with a chemical formation method such as etching.例文帳に追加

エッチング等の化学的な形成方法に比べて、廃液処理等の煩雑な製造管理を必要としない。 - 特許庁

RAW MATERIAL FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, SOLUTION RAW MATERIAL CONTAINING THE RAW MATERIAL, AND METAL-CONTAINING THIN FILM例文帳に追加

有機金属化学気相成長法用原料及び該原料を含む溶液原料並びに金属含有薄膜 - 特許庁

The low concentration chemical solution in the condenser 11 is supplied to the deaerator 14 via the condensing pipe.例文帳に追加

次に、復水器１１内の低濃度薬剤溶液を復水用配管を介して脱気器１４に供給する。 - 特許庁

To provide a processing method of a substrate which inhibits a damage caused by a local electrification to a region where a chemical solution is discharged on a substrate surface.例文帳に追加

基板表面の薬液が吐出される領域への局所的な帯電によるダメージを抑制する基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

A method of chemical mechanical planarization of the substrate on the fixed abrasive grain polishing pad to which planarizing solution is dispensed, is disclosed.例文帳に追加

固定砥粒研磨パッド上に平坦化溶液が分配される、固定砥粒研磨パッド上で基板を化学機械的に平坦化する方法を開示する。 - 特許庁

The solution is obtained by dissolving an electroconductive polymer containing a repeating unit comprising a chemical structure represented by general formula (I).例文帳に追加

下記一般式（Ｉ）で表される化学構造からなる繰り返し単位を含む導電性重合体を溶解してなる溶液。 - 特許庁

A chemical solution for detection is impregnated and held in a granular cellulose in the gas-detecting agent for packaging.例文帳に追加

検知するための薬剤溶液を粒状セルロースに含浸し、担持させたことを特徴とする包装用ガス検知剤。 - 特許庁

To provide an etching solution with which the surface of copper or a copper alloy can be subjected to mirror finish treatment by chemical treatment.例文帳に追加

本発明は、薬液処理によって銅及び銅合金の表面を鏡面仕上げ処理することのできるエッチング液を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a metal polishing solution for chemical-mechanical polishing a substrate having less dishing, while working at a high polishing speed.例文帳に追加

本発明は、高速研磨速度でありながらディッシングが少なく、基板を化学的機械的研磨できる金属用研磨液を提供する。 - 特許庁

After that, the spaces 41, 42 are made in the liquid-tight state, and the upper and the lower surface of a wafer W are cleaned by the chemical solution (as shown in Fig.5(d)).例文帳に追加

その後、空間４１，４２が薬液により液密状態にされて、ウエハＷの上面および下面が薬液により洗浄される（（ｄ）参照）。 - 特許庁

ORGANOZIRCONIUM COMPOUND FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND RAW MATERIAL SOLUTION FOR FORMING PZT THIN FILM COMPRISING THE SAME COMPOUND例文帳に追加

有機金属化学蒸着用有機ジルコニウム化合物及び該化合物を含むＰＺＴ薄膜形成用原料液 - 特許庁

The chemical conversion treatment solution comprises bisulfite of 60 to 100 g/L and gelatine of 5 to 30 g/L, and its pH is controlled to 2 to 5.例文帳に追加

６０〜１００ｇ／リットルの重亜硫酸塩と、５〜３０ｇ／リットルのゼラチンとを含み、ｐＨ２〜５に調整された化成処理溶液。 - 特許庁

A chemical liquid containing nickel ions and formic acid is injected into a film forming aqueous solution which flows in a circulation pipe (S4).例文帳に追加

ニッケルイオン及びギ酸を含む薬液を、循環配管内に流れる皮膜形成水溶液に注入する（Ｓ４）。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for supplying a chemical capable of supplying a stable persulfate aqueous solution.例文帳に追加

安定した過硫酸塩水溶液を供給することが出来る、薬液供給方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of shortening time for decomposition in a method of decomposing a reducing agent such as organic acid in a solution after chemical decontamination.例文帳に追加

化学除染後の溶液に含まれる有機酸等の還元剤を分解する方法に関し、分解に要する時間を短縮する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vial whose inside is visible and which has high shielding ability and high processability for filling a radioactive chemical solution.例文帳に追加

放射性薬液を充填するバイアルにおいて、内部が視認でき、遮へい能力が高く、加工性のよいバイアルを提供する。 - 特許庁

To provide a flash setting ground-grouting chemical solution having a gel time (60 seconds or less) suitable as a packer material and appropriate strength when set.例文帳に追加

パッカー材として適切なゲルタイム（６０秒以下）、及び固化した際に適切な強度を有する瞬結性地盤注入用薬液を提供する。 - 特許庁

The invention refers to the treatment solution which is used for inkjet recording and contains cationic phospholipid compound and water (as shown in the chemical formula (1)).例文帳に追加

本発明の処理液は、インクジェット記録に用いる処理液であって、カチオン性リン脂質化合物および水を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To suppress the deterioration of an RO membrane and the lowering of water treatment efficiency to the utmost by reducing the washing frequency of the RO membrane with a chemical solution.例文帳に追加

ＲＯ膜の薬液洗浄頻度を少なくすることにより、ＲＯ膜の劣化及び水処理効率の低下を極力抑制すること。 - 特許庁

To provide a method for simply making a tube rack for use in a chemical experiment which allows the affirmation of a remaining solution volume to simplify the production method.例文帳に追加

化学実験で使用するチューブラックにおいて、小さな体積で、溶液残量確認を簡単にし、簡便に製作する方法を提供する。 - 特許庁

An operator is notified that the treatment of the lot has not been started in the chemical solution treatment section CHB2 within an allowable period of time.例文帳に追加

したがって、許容時間内にロットを薬液処理部ＣＨＢ２で処理開始できなかったことをオペレータは知ることができる。 - 特許庁

This compound is represented by chemical formula shown in the solution, wherein variables Z, X, R_15, R_2, R_3 and Rc are defined elsewhere.例文帳に追加

以下の化学式: で示される化合物が開示されており、ここで、変数Ｚ、Ｘ、Ｒ_１５、Ｒ_２、Ｒ_３、およびＲｃは本明細書に定義されている。 - 特許庁

To provide a chemical analysis chip demonstrating highly accurate test results by controlling the pulsation of a sample solution.例文帳に追加

本発明は、試料液の脈動を抑制し、精度の高い検査結果を示すことのできる化学分析チップを提供する。 - 特許庁

To prevent a splashing of a chemical solution to a face of one side of a substrate when a film to be processed on a face of another side of the substrate is etched for peeling.例文帳に追加

基板の一方の面の被加工膜をエッチングして剥離するときに、薬液が基板の他方の面に飛散することを防止する。 - 特許庁

To provide a chemical polishing solution for a glass substrate, which is used for polishing the surface of the glass substrate to reduce the thickness of the substrate and has a life longer than that of a conventional one.例文帳に追加

従来よりも寿命が長い、ガラス基板表面を薄板化研磨するためのガラス基板用化学研磨液を提供する。 - 特許庁

To solve problems such as tearing during use or during production of thin sanitary paper sheets for household use that are embossed and coated with an aqueous chemical solution.例文帳に追加

エンボス加工及び水系薬液塗布がされた家庭用衛生薄葉紙における、使用時、製造時に破れ等の問題を解決する。 - 特許庁

In addition, the foam water solution with predetermined concentration is obtained by similarly controlling the delivery flow rate of a foam fire-extinguishing chemical agent.例文帳に追加

また、同様に泡消火薬剤の送出流量も制御して、所定の濃度の泡水溶液を得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an aqueous metal nitrite solution as an accelerating agent for phosphate chemical conversion coating, while controlling the formation of impurities.例文帳に追加

リン酸塩化成処理用の促進剤としての亜硝酸金属塩水溶液について、不純物の生成を抑えて製造する方法を提供すること。 - 特許庁

INJECTABLE CHEMICAL SOLUTION COMPOSITION FOR STABILIZING AND STRENGTHENING SOIL OR ARTIFICIAL CONSTRUCTION, AND WATER BARRIER CONSTRUCTING METHOD FOR STABILIZING AND STRENGTHENING SOIL OR ARTIFICIAL CONSTRUCTION USING THE COMPOSITION例文帳に追加

土壌ないし人工構造物用安定強化注入薬液組成物、及びそれを用いた土壌ないし人工構造物の安定強化止水工法 - 特許庁

The aqueous ophthalmic solution comprises a 1-4C monohydric alcohol as a dissolution auxiliary and a chemical stabilizer for the active ingredient.例文帳に追加

有効成分の溶解助剤兼化学的安定化剤として、炭素数が１〜４の１価アルコール類を含有する。 - 特許庁

Further, an excess internal plating or impurities are removed by a chemical polishing solution, or the like, before internal plating to plate the inside more uniformly.例文帳に追加

さらに、内部めっき前に化学研磨液などで内部の余分なめっきや不純物を除去することでより均一に内部めっきを施すことができる。 - 特許庁

Since chemical stability of the anode 22 is improved, decomposition of the electrolyte solution is restrained as compared with the case in which no coatings 22C are provided.例文帳に追加

負極２２の化学的安定性が向上するため、被膜２２Ｃを設けない場合と比較して、電解液の分解が抑制される。 - 特許庁

ACCELERATING AGENT FOR PHOSPHATE CHEMICAL CONVERSION COATING AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND METAL NITRITE SOLUTION AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

リン酸塩化成処理用促進剤およびその製造方法、亜硝酸金属塩溶液およびその製造方法 - 特許庁

A substrate after subjected to surface treatment with use of a chemical, such as a hydrofluoric acid solution, is rinsed and cleaned with an acid-added water.例文帳に追加

フッ酸等の薬液による表面処理が行われた基板に対して酸添加水によるリンス洗浄処理を行う。 - 特許庁

To provide a mounting mechanism for easily and positively mounting a chemical solution feeder for a urinal to the wall surface of the urinal.例文帳に追加

小便器用薬液供給装置を、簡単に且つ確実に、小便器の壁面に取り付けることができる、取付機構を、提供すること。 - 特許庁

A treatment solution is used, in which concentration of NaOH is increased more than its recommended value to be set at a concentration in a range of 25 to 40 g/l, and chemical treatment is applied to a copper foil.例文帳に追加

ＮａＯＨ濃度をその推奨値より上げ，２５〜４０ｇ／ｌの範囲内の濃度とした処理液を用いて銅箔に化学処理を施す。 - 特許庁

A soil-improved area R is formed by injecting a chemical solution into the excavation-direction front section of the shield machine 1.例文帳に追加

シールド掘進機１における掘削方向前方部位に薬液注入を行って地盤改良領域Ｒを形成する。 - 特許庁

During the supply of a first chemical solution, a CPU 61 monitors a detected value output from a revolution sensor 16 (step S7).例文帳に追加

第１薬液の供給中において、ＣＰＵ６１は、回転数センサ１６から出力された検出値を監視している（ステップＳ７）。 - 特許庁

By rotating the wafer 3 at a high speed, the chemical solution 4 dropped on the surface of the wafer 3 is spread and is applied evenly over the surface of the wafer 3.例文帳に追加

ウエハ３を高速回転させることで、ウエハ３表面に滴下した薬液４が広がりウエハ３表面上に均一に塗布される。 - 特許庁

To provide a culturing apparatus constituted so as to able to uniformly and rapidly mix a charged chemical solution in a liquid layer part in a culturing tank.例文帳に追加

培養槽内の液層部において、投入薬液を均一にすばやく混合できるようにした培養装置を提供することにある。 - 特許庁