「chemical solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

CONCENTRATION CONTROLLER FOR TREATMENT SOLUTION FOR DEPOSITING PHOSPHATE FILM, AND APPARATUS AND METHOD FOR PHOSPHORIC CHEMICAL CONVERSION TREATMENT例文帳に追加

リン酸塩皮膜形成用処理液の濃度制御装置、リン酸化成処理装置及びリン酸化成処理方法 - 特許庁

At the tip of the treatment liquid supply pipe, a lower nozzle 27 is provided which discharges the chemical solution or demineralized water toward a vertically upper portion.例文帳に追加

処理液供給管の先端には、鉛直上方に向けて薬液または純水を吐出する下部ノズル２７が設けられている。 - 特許庁

A boring pipe 1 provided with a boring bit 2 is inserted in the pressurized ground G to inject the chemical solution in the double packer system.例文帳に追加

被圧地盤Ｇに、削孔ビット２を具備した削孔管１を挿入し、ダブルパッカ方式で薬液注入を行う。 - 特許庁

To provide a chemical solution injection method for carrying out infiltrating injection over a wide range in a short time without forming cleavage in the ground.例文帳に追加

地盤を割裂させることなく、短時間で広範囲に亘り浸透注入を行える、薬液注入工法を提供すること。 - 特許庁

To prevent malfunction caused by crystallization of adhering chemical solution in a contact-type substrate detecting device.例文帳に追加

接触式の基板検出装置において、付着した薬液が結晶化することによる動作不良を防止する。 - 特許庁

Then, a hollow mullion 3 is arranged in the wire screen P, and an appropriate chemical solution 4 having the noxious insect repellent effect is poured into the hollow mullion 3.例文帳に追加

又、この網戸Ｐに、中空な中柱３を取り付けて害虫忌避効果を有する適宜の薬液４を注入する。 - 特許庁

To provide a system for controlling the electrical conductivity of a chemical solution, and to provide a computer program storage device.例文帳に追加

化学溶液の導電率を制御するシステムおよびコンピュータプログラムストレージ装置を実現する。 - 特許庁

To provide a spin treatment device which prevents smears or a chemical solution on the inner peripheral face of a cup from moving during treating a substrate by drying.例文帳に追加

この発明はカップの内周面の汚れや薬液が基板を乾燥処理時に転移するのを防止したスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a semiconductor device from which a stiffening member does not come free even though there is a deterioration in adhesion caused by an attack of chemical solution, a decrease in stress, or the like.例文帳に追加

薬液のアタックや滅ストレスによる接着力低下があっても、補強部材が外れることはない半導体装置を提供する。 - 特許庁

By rotating the wafer 3, the dropped chemical solution 4 is spread non uniformly from the center to the periphery of the surface of the wafer 3.例文帳に追加

ウエハ３を低速回転させることで、滴下された薬液４はウエハ３表面の中心部から周りに不均一に広がる。 - 特許庁

After the spaces 41, 42 are made in the liquid-tight state by the IPA (as shown in Fig.5(b)), chemical solution is supplied to the spaces 41, 42 (as shown in Fig.5(c)).例文帳に追加

空間４１，４２がＩＰＡ液により液密状態にされた後（（ｂ）参照）、空間４１，４２に薬液が供給される（（ｃ）参照）。 - 特許庁

To provide a solution for substrate spotting and a spotting method for highly densely fixing bio-related substances or various chemical substances onto a substrate.例文帳に追加

生体関連物質又は様々な化学物質を高密度に基盤上に固定化するための基盤スポット用溶液及びスポット方法を提供する。 - 特許庁

In the reaction container 1, the above mixture solution 4 is stored or continuously supplied and the above chemical reaction is caused in the reaction container 1.例文帳に追加

反応容器１は、前記混合液４が貯留され、又は連続的に供給され、この反応容器１内で前記化学反応が起こる。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus, etc. which can raise the temperature on the peripheral part of the substrate to be processed in a short time to heighten the efficiency of processing by a chemical solution.例文帳に追加

短時間で被処理基板の周縁部の温度を上げて薬液による処理効率を高めることが可能な液処理装置などを提供する。 - 特許庁

To provide a biosample analyzer and a means capable of measuring at an optional point of time, relative to solution in which a chemical reaction is generated.例文帳に追加

化学反応が生じている溶液に対して，任意の時点で計測を行うことができる生体試料分析装置，手段を提供する。 - 特許庁

The reaction apparatus is employed for obtaining a reaction product by chemical reaction of a first raw material 5 and a second raw material in a mixture solution 4.例文帳に追加

第一原料５と第二原料とを混合液４中で化学反応させて反応生成物を得るために用いられる。 - 特許庁

In a process of a step S3, the foamed resin material covered with the cement resin layer is removed by injecting chemical solution.例文帳に追加

ステップＳ３の工程において、化学薬液の注入により、上記セメント樹脂層に覆われた発泡樹脂材を除去する。 - 特許庁

To provide equipment for injecting a urethane chemical solution for stabilizing and reinforcing ground for excavation of a tunnel, which can enhance working efficiency.例文帳に追加

作業効率を向上させることのできるトンネル掘削用の地盤安定強化用ウレタン薬液注入装置を提供する。 - 特許庁

A lyophilic surface 13, having affinity for the chemical solution, is provided on the inner surface of the filter housing 5 above the filter 6.例文帳に追加

フィルタ６より上方のフィルタハウジング５の内面には、薬液に対して親和性を有する親液面１３が設けられている。 - 特許庁

After the arc discharge is continued for a while, the solid is withdrawn from the solution and subjected to e.g. a chemical process to extract the sodium-atom-including cluster therefrom.例文帳に追加

しばらくアーク放電した後、溶液から固形物を取り出して化学的方法などを用いてナトリウム原子内包クラスタを抽出する。 - 特許庁

The plashing angle of chemical solution is set in the range of 100° to 120° within the plane direction of a semiconductor wafer 13.例文帳に追加

半導体ウエハ１３の面内方向における薬液の飛散角度を１００〜１２０度の範囲に設定する。 - 特許庁

To provide an apparatus equipped with a reactor for forming insoluble chemical compounds from a salt containing an aqueous solution to be treated.例文帳に追加

処理しようとする水溶液を含有する塩から不溶性化合物を形成するための反応器を備える装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method which can uniformly treat an entire region of a surface of a substrate by using a chemical solution, and to provide a substrate treatment apparatus.例文帳に追加

基板の表面の全域に対して、薬液による処理を均一に施すことができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

According to the tank ground improving method, a layered area under an RC ring 7 and a mound 3 of the existing tank 5 is improved by injecting a chemical solution to form an improved section 11.例文帳に追加

既設のタンク５のＲＣリング７およびマウンド３下方の層状領域を薬液注入で改良し、改良部１１を設ける。 - 特許庁

To easily and surely manage the dosage of the solution of a chemical or the like to a user in a droplet discharge device for pulmonary suction.例文帳に追加

肺吸引用液滴吐出装置において、利用者への薬剤などの液剤の投与量を容易且つ確実に管理できる様にすることである。 - 特許庁

In the preparation, the concentration of the compound expressed by the chemical formula 1 is preferably a 5-10 mass% solution form.例文帳に追加

製剤における、前記化学式１に表される化合物の濃度は５〜１０質量％の溶液形態であることが好ましい。 - 特許庁

Step (2): bringing a transfer cylinder into contact with the plate to transfer the chemical solution in the groove structure portion to the transfer cylinder.例文帳に追加

工程（２） 転写シリンダーと前記版を接触させ、前記溝構造部の薬液を前記転写シリンダーへ転移させる工程。 - 特許庁

The toxic chemical substances in the room are removed and the bacteria infected in the hospital are sterilized by evaporating by heating or fuming a solution of a peroxide.例文帳に追加

過酸化物の水溶液を加熱蒸散又は煙霧することにより、室内の有害化学物質を除去し、また院内感染菌の殺菌を行う。 - 特許庁

To provide a substrate treating apparatus and a substrate treating system capable of executing desired substrate treatment without wasting a chemical solution.例文帳に追加

薬液を浪費することなく、所望の基板処理を実施できる基板処理装置および基板処理システムを提供する。 - 特許庁

To more appropriately perform a rinse treatment of a substrate by improving the reliability in results of measuring the mixing degree of a chemical in a rinse solution.例文帳に追加

リンス液に対する薬液の混入度合いの測定結果の信頼性を高め、基板のリンス処理をより適切に行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a porous structure that prevents a semiconductor substrate and a protecting film from being peeled off by a chemical solution used for anodization.例文帳に追加

陽極酸化処理に用いる薬液により、半導体基板と保護膜との剥離を抑制する多孔質構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

Thereby, the chemical stability of the electrolytic solution is improved and side reaction is suppressed, and the charge and discharge cycle characteristics is improved.例文帳に追加

これにより電解液の化学的安定性が向上し、副反応が抑制され、充放電サイクル特性が改善される。 - 特許庁

Gaseous hydrogen H produced by a chemical reaction of an alkali aqueous solution 3 with a metal 4 is highly pressurized with the advance of the chemical reaction because the pressure vessel 1 in which the alkali aqueous solution 3 and the metal 4 are charged and mixed is hermetically sealed.例文帳に追加

圧力容器１はアルカリ水溶液３及び金属４が投入され混合された状態で密閉状態とされるので、アルカリ水溶液３と金属４との化学反応により生じる水素ガスＨを化学反応の進行に伴い高圧にするものとする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a secondary material roll for tissue paper products with excellent productivity while not requiring a large equipment remodeling, sufficient with a minor remodeling of the existing equipment, and facilitating the switching operation between the tissue paper product with a chemical solution and the tissue paper product without the chemical solution.例文帳に追加

大幅な設備改造を要することなく、既設備のマイナーな改造で足り、薬液を付与したティシュペーパー製品と薬液を付与しないティシュペーパー製品との切り換えが容易である生産性に優れたティシュペーパー製品用二次原反ロールの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the galvanized steel plate manufacturing method in which the steel plate is subjected to temper-rolling and further chemical conversion after galvanizing, the galvanized steel plate is subjected to temper-rolling by using galvanizing solution containing surfactant, cleaned with alkali aqueous solution, rinsed with water, and further subjected to chemical conversion.例文帳に追加

めっき後に調質圧延し、さらに化成処理する溶融亜鉛系めっき鋼板の製造方法において、めっき後の鋼板を、界面活性剤を含む加工液を使用して調質圧延し、次いでアルカリ水溶液で洗浄し、その後水洗し、さらにその後化成処理する。 - 特許庁

To provide a surface treatment solution which has excellent mechanical durability and chemical durability in surface treatment, and imparts slidability, wear resistance, lubricity, water repellency, mold releasability, nonconductivity, chemical resistance or the like to the surface to be treated without depending on the shape thereof, and to provide a surface treatment method using the same surface treatment solution.例文帳に追加

表面処理の機械的耐久性及び化学的耐久性に優れ、また被処理面の形状を問わずその表面に摺動性、耐磨耗性、潤滑性、撥水性、離型性、非導電性、耐薬品性等を付与する表面処理液、及びこの表面処理液を用いた表面処理方法を提供する。 - 特許庁

The spray zone 50 has a high-pressure spray zone 50a for spraying the degreasing and chemical conversion treating solution under high pressure to the automotive body in a fore stage and a low-pressure spray zone 50b for spraying the degreasing and chemical conversion treating solution under low pressure thereto in the ensuing stage of the high-pressure spray zone.例文帳に追加

スプレーゾーン５０は、自動車ボディに脱脂兼化成処理液を高圧で吹き付ける高圧スプレーゾーン５０ａが前段にあり、高圧スプレーゾーンの次段に、脱脂兼化成処理液を低圧で吹き付ける低圧スプレーゾーン５０ｂがある。 - 特許庁

This semiconductor wafer etching apparatus includes a shingle sheet type rotating disk or a batch type rotating disk for two or more wafers, is provided with a supply port and a slit for supplying the chemical solution for etching in a manner to cancel the distribution of pressure of the chemical solution on the rotating disk and also includes a line to pressurize an etching vessel.例文帳に追加

枚葉式または２ウェハース以上のバッチ式の回転ディスクを有し、エッチング薬液の供給を回転ディスク上の薬液圧力の分布を打ち消すような供給口とスリットを有し、さらにエッチング槽を加圧できるようなラインを有する半導体ウェハエッチング装置とする。 - 特許庁

To provide a trench forming method which prevents a phenomenon such that a chemical solution used when removing an SiO_2 film used as a mask for trench formation is repelled when a trench is hydrophobic and the repelled chemical solution holds air in a region surrounded by the trench and an air bubble is produced.例文帳に追加

溝部形成にマスクとして用いたＳｉＯ_２膜を除去する際に用いられた薬液が、溝部が疎水性であるとはじかれてしまい、はじかれた薬液が溝部で囲まれた領域において空気を抱え込み気泡が発生するという現象があり、これをなくす溝部形成方法を提供する。 - 特許庁

The glass substrate is immersed in a chemical processing solution, which is replaced with a new chemical processing solution before its quality is degraded by the increase in the number of reaction products, and a part or the whole of the surface of the substrate is processed at a polishing velocity of 10 μm/min or less.例文帳に追加

ガラス基板を化学加工液に浸漬し、反応生成物の増加により品質が劣化する前の化学加工液を新たな化学加工液に交換すると共に、ガラス基板表面の一部または全部を１０μｍ／分以下の研磨加工速度で加工する。 - 特許庁

The gas generation system (30) includes the chemical reactors (32 and 132) constituted so as to form the gas from the continuous flow of the aqueous solution and the pumps (36, 136 and 236) constituted so as to control the flow of the aqueous solution passing through the chemical reactors (32 and 132) in order to control the gas generating speed.例文帳に追加

ガス発生システム(30)は、水溶液の連続した流れからガスを生成するように構成された化学反応器(32,132)と、ガスの生成速度を制御するために、化学反応器(32,132)を通る水溶液の流れを制御するように構成されたポンプ(36,136,236)とを含む。 - 特許庁

The control unit 60 of a chemical solution application apparatus 1 relatively moves an application head 31 and a substrate sheet 90, while it applies a control signal to the laminated piezoelectric element of the application head 31 to jet a chemical solution from the nozzle of the application head 31 to the substrate sheet 90 to thereby practice an application treatment.例文帳に追加

薬液塗布装置１の制御部６０は、塗布ヘッド３１と基材シート９０とを相対的に移動させつつ、塗布ヘッド３１の積層圧電素子に制御信号を印加して塗布ヘッド３１のノズルから基材シート９０に薬液を吐出させることによって、塗布処理を実行させる。 - 特許庁

To provide a polishing solution capable of achieving a good polishing speed and low dishing of the polished body and suppressing the occurrence of a slit and which is available for chemical-mechanical planarization in manufacturing a semiconductor device, and to provide a chemical-mechanical polishing method capable of achieving excellent uniformity of the polishing using such a polishing solution.例文帳に追加

半導体デバイス製造の化学的機械的平坦化に用いられる、良好な研磨速度と被研磨体の低ディッシングを達成し、スリットの発生を抑制しうる研磨液、及び、そのような研磨液を用いた研磨の均一性に優れる化学的機械的研磨方法。 - 特許庁

In the dry type antifog cloth impregnated with chemical solution in a nonwoven fabric, at least a part of the nonwoven fabric consists of the constitution described in the following (1), and at least part of the chemical solution includes components described in the following (2).例文帳に追加

不織布に薬液を含浸させた曇り止めクロスにおいて、不織布の少なくとも一部が、下記（１）の構成をとる不織布であり、薬液の少なくとも一部が、下記（２）の成分を含む薬液であることを特徴とする、ドライタイプの曇り止めクロス。 - 特許庁

This method for performing the chemical reaction occurring in the solution, in the solid is provided by using a natural or synthetic polymer material capable of becoming a solid containing a large amount of the solvent by cooling after making it a solution under heating as a medium, and performing the chemical reaction in the solid medium.例文帳に追加

加熱下で溶液にした後、冷却するとその溶媒を大量に含んだ含溶媒固体となるような天然又は合成の高分子材料の含溶媒固体を媒体として用い、当該固体媒体中で化学反応を行わせる。 - 特許庁