「chemical solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

An Si wafer 2 and a chemical tank 4 for charging a chemical solution 1 for conducting an anisotropic etching of the Si wafer 2 are arranged in the inside of an etching draft 7 with a pipe 6 for emission connected.例文帳に追加

排気用配管６が接続されたエッチングドラフト７の内部には、Ｓｉウェハ２及び当該Ｓｉウェハ２を異方性エッチングするための薬液１を入れるための薬液槽４が配置されている。 - 特許庁

A transition metal-containing chemical film is formed on the surface of an aluminum material with a nonchromium metal chemical conversion treatment liquid, and thereafter, surface treatment is performed with a polymer treatment liquid composed of an aqueous solution of a copolymer between an amine compound and carboxylic acid.例文帳に追加

アルミ材の表面に、ノンクロム金属化成処理液によって遷移金属を含む化成皮膜を形成したのち、アミン化合物とカルボン酸との共重合体の水溶液からなるポリマー処理液で表面処理する。 - 特許庁

The chemical stream may include components such as ammonium hydroxide for simultaneous particle and organic removal, another chemical to raise the pH of the solution, or other chemical additives designed to accomplish one or more specific cleaning tasks.例文帳に追加

化学的な流れは、粒子及び有機物を同時に除去するための水酸化アンモニウム、溶液のｐＨを高めるためのその他の薬剤、又は１つもしくは複数の特定の洗浄処理を行うようになっているその他の化学添加物などの成分を含んでいてもよい。 - 特許庁

To prepare a chemical polishing solution for aluminum or an alloy thereof which smoothens the surface of aluminum or the alloy thereof by chemical polishing, and can impart sufficient luster to the surface subjected to the chemical polishing without incorporating nitric acid therein.例文帳に追加

硝酸を含有することなく、アルミニウムやその合金の表面を化学研磨により平滑化すると共に化学研磨が施された表面に充分な光沢を付与することができるアルミニウム又はその合金の化学研磨液を提供する。 - 特許庁

In the method for recovering the CaF_2 contained in the alkali solid chemical after detoxifying the fluorine-based gas with the alkali solid chemical consisting essentially of the Ca(OH)_2, the alkali solid chemical is allowed to react with an aqueous hydrogen chloride solution, then washed with water.例文帳に追加

フッ素系ガスをＣａ(ＯＨ)_２を主成分とするアルカリ固体薬剤で除害した後、該アルカリ固体薬剤中に含まれるＣａＦ_２を回収する方法において、該アルカリ固体薬剤を塩化水素水溶液と反応させた後、水で洗浄する。 - 特許庁

The liquid chemical treating time is determined from the ratio of the integrated quantity of the liquid chemical to that of pure water corresponding to each flow rate obtained from the liquid chemical flow meter 7 and the pure water flow meter 8 and from the temperature of the diluted solution obtained from the temperature sensor 20.例文帳に追加

薬液流量計７と純水流量計８とから求められた各流量に基づく薬液と純水の積算流量の割合と、上記温度センサ２０から求められた希釈溶液の温度とから、薬液処理時間を求める。 - 特許庁

The pretreatment method prior to an electrodeposition coating step 8 for forming the electrodeposition coating film on the surface of an article to be coated comprises: a chemical conversion coating step 4 for forming the chemical conversion coating film on the surface of the article to be coated; and an alkaline cleaning step 6 for cleaning the chemical conversion coated article with an aqueous alkaline solution.例文帳に追加

被塗物の表面に電着塗膜を形成する電着塗装工程８前の前処理方法であって、被塗物の表面に化成皮膜を形成する化成処理工程４と、アルカリ性水溶液を用いて被塗物を洗浄するアルカリ水洗工程６とを有する。 - 特許庁

To provide a method and a device for preparing chemical solutions for photographic sensitive materials, in which as many kinds of chemical solutions as possible are prepared in one chemical solution preparation thank by improving cleanability for elimination of pollution of chemicals and increasing the variable width of a preparation scale of chemicals.例文帳に追加

（１）薬品の汚染を無くす為の洗浄性を改善すること；（２）薬品の調製スケールの可変幅を大きくすること、等の各項目を満足でき、１つの薬液調製タンクで出来るだけ多くの薬液を調製する事が可能である写真感光材料の薬液調製方法及び装置を提供する。 - 特許庁

In a process for producing the chemical conversion coating film of titanium oxide having the photocatalytic performance on the surface of an aluminium material, the process is characterized by including a chemical conversion process bringing the aluminium material into contact with an admixture solution of titanium fluoride and hydrogen peroxide to form the chemical conversion coating film on the surface of the aluminium material.例文帳に追加

アルミニウム材の表面に、光触媒能を有する酸化チタン化成皮膜を、製造する方法であって、アルミニウム材を、フッ化チタン塩と過酸化水素との混合溶液に晒して、アルミニウム材表面に化成皮膜を生成させる、化成処理工程、を有することを特徴としている。 - 特許庁

To provide a chemical analyzing apparatus and a multi-item chemical analyzing apparatus, which have measurement accuracy equivalent to that of conventional automatic chemical analyzing apparatus, are compact so as to be portable, and can reduce power consumption and the amount of reagent solution when carrying out analyses.例文帳に追加

本発明の課題は、従来の自動化学分析装置と同等の測定精度を持ち、しかも携帯可能な程度に小形で、さらに分析時の消費電力及び試薬液量の削減を図った化学分析装置あるいは多項目化学分析装置を提供することである。 - 特許庁

The method for selecting the additive for controlling permeability of the useful chemical substance comprises applying a solution, an emulsion or a suspension of the useful chemical substance and the additive in water to an isolated plant cuticle membrane and quantitatively analyzing the useful chemical substance permeated through the cuticle membrane.例文帳に追加

単離された植物クチクラ膜上に、有用化学物質及び添加剤を水に溶解または乳化、懸濁した溶液を添付処理し、クチクラ膜を透過した有用化学物質を定量分析することを特徴とする、有用化学物質の透過性を制御する添加剤の選抜方法である。 - 特許庁

To provide a cyclic method for separating at least one chemical element E1 from at least one chemical element E2 from an aqueous solution containing above elements using a mixture of two extractants operating in non-overlapping chemical field.例文帳に追加

本発明は、少なくとも1つの化学元素E2および少なくとも1つの化学元素E1を含有する水溶液からの、前記少なくとも1つの化学元素E2から、前記少なくとも1つの化学元素E1を分離する循環的方法であり、非重複的化学分野において作用する、2つの抽出剤の混合物を使用する方法に関する。 - 特許庁

Disclosed is the polishing solution for chemical-mechanical polishing used for chemical-mechanical polishing of the manufacturing method for the semiconductor device, the polishing solution for chemical-mechanical polishing being characterized in containing abrasive grins which have colloidal silica obtained by hydrolyzing alkoxy silane as a nucleus and have some of silicon atoms on a colloidal silica surface substituted by aluminum atoms.例文帳に追加

半導体デバイスの製造法における化学的機械的研磨に用いる化学的機械的研磨用研磨液であって、アルコキシシランの加水分解によって得たコロイダルシリカを核とし、該コロイダルシリカ表面の珪素原子の一部がアルミニウム原子に置換されてなる砥粒を含有することを特徴とする化学的機械的研磨用研磨液。 - 特許庁

To provide a chemical flushing method for a main steam pipe or a reheating steam pipe using a chemical flushing solution capable of performing flushing efficiently at low cost while the soundness of the apparatus is well secured by preventing the chemical flushing solution from flowing into the non-flush region without cutting the main steam pipe or the reheating steam pipe having a large bore and a large wall thickness.例文帳に追加

主蒸気管又は再熱蒸気管を化学洗浄液を用いて化学洗浄するに当たり、大口径で厚肉の主蒸気管又は再熱蒸気管を切断することなく、非洗浄域への化学洗浄液の流入を防止して機器の健全性を確保しつつ、安価にかつ効率的に洗浄を行う。 - 特許庁

In a method for separating and recovering the carbon dioxide from the by-produced gas or the like generated at an iron manufacturing factory by a chemical absorption process, the low-quality exhaust heat generated at the iron manufacturing factory is used or applied for a process for separating the carbon dioxide by heating a chemical absorption solution after absorption of the carbon dioxide from the gas by the chemical absorption solution.例文帳に追加

製鉄所で発生する副生ガスなどから化学吸収法にて二酸化炭素を分離回収する方法であって、当該ガスから化学吸収液で二酸化炭素を吸収後、化学吸収液を加熱し二酸化炭素を分離させるプロセスに製鉄所で発生する低品位排熱を利用または活用することを特徴とする二酸化炭素の分離回収方法。 - 特許庁

Compared with the case that the solvent contains other carbonyl compounds such as bis(trimethylsilyl)malonate, since chemical stability of the electrolytic solution is improved, decomposition reaction of the electrolytic solution is suppressed.例文帳に追加

溶媒がビス（トリメチルシリル）マロネートなどの他のカルボニル化合物を含有する場合と比較して、電解液の化学的安定性が向上するため、その電解液の分解反応が抑制される。 - 特許庁

Compared with the case the solvent does not contain the compound having the difluoroalkene structure, since chemical stability of the electrolytic solution is improved, decomposition of the electrolytic solution is suppressed.例文帳に追加

溶媒がジフルオロアルケン構造を有する化合物を含有していない場合と比較して、電解液の化学的安定性が向上するため、その電解液の分解が抑制される。 - 特許庁

Chemical stability of the electrolyte solution is improved as compared with the case in which the sulfone compounds are not contained or other sulfone compounds are contained, so that decomposition reaction of the electrolyte solution is restrained.例文帳に追加

このスルホン化合物を含有しない場合や他のスルホン化合物を含有する場合と比較して電解液の化学的安定性が向上するため、その電解液の分解反応が抑制される。 - 特許庁

The polyimide fiber is obtained by mixing a chemical imidizing agent in a polyamide acid solution and spinning the partially imidized spinning solution by a dry spinning method.例文帳に追加

ポリアミド酸溶液に化学イミド化剤を混合して一部イミド化した紡糸溶液を乾式紡法にて紡糸して得られるポリイミド繊維を用いることで上記問題を克服しうる。 - 特許庁

Compared with the case that the solvent contains other sulfonate compounds such as bis(methyl)methane disulfonate, chemical stability of the electrolytic solution is improved, and decomposition reaction of the electrolytic solution is suppressed.例文帳に追加

溶媒がビス（メチル）メタンジスルホネートなどの他のスルホン化合物をを含有する場合と比較して、電解液の化学的安定性が向上し、その電解液の分解反応が抑制される。 - 特許庁

Since chemical stability of the electrolytic solution is improved compared with the case when both of the main solvent and the auxiliary solvent are not contained, decomposition of that electrolytic solution is suppressed.例文帳に追加

主溶媒および副溶媒の双方を含有しない場合と比較して、電解液の化学的安定性が向上するため、その電解液の分解が抑制される。 - 特許庁

The mask for hypersensitivity to chemical substances is made of a woven cloth impregnated with a prescribed titanium oxide aqueous solution acting as a photocatalyst or is made of a woven cloth formed by weaving fibers impregnated with the titanium oxide solution.例文帳に追加

光触媒として作用する所定の酸化チタン水溶液を含浸させた織布、又は、酸化チタン水溶液を含浸させた繊維を織った織布によって形成した化学物質過敏症対策用マスク。 - 特許庁

As compared with the case in which no such sulfone compounds are contained, or other sulfone compounds are contained, chemical stability of the electrolyte solution is improved, so that decomposition reaction of the electrolyte solution is restrained.例文帳に追加

このスルホン化合物を含有しない場合や、他のスルホン化合物を含有する場合と比較して、電解液の化学的安定性が向上するため、その電解液の分解反応が抑制される。 - 特許庁

Further, it is preferable to produce the polyimide fiber by spinning the partially imidized spinning solution obtained by mixing the chemical imidizing agent with the polyamide acid solution, with the dry spinning method.例文帳に追加

また、ポリアミド酸溶液に化学イミド化剤を混合して一部イミド化した紡糸溶液を乾式紡法にて紡糸してポリイミド繊維を製造することが好ましい。 - 特許庁

The cleaning chemical solution exhibits an action enhancing the solubilization of the cerium oxide into the solution by the fluorine ion component in addition to an etching action by the acid component and a reduction and decomposition action of the cerium oxide by the reductant.例文帳に追加

当該洗浄薬液は、酸成分によるエッチング作用と還元剤による酸化セリウムの還元分解作用とに加え、フッ素イオン成分による洗浄薬液中への酸化セリウムの溶解促進作用を有している。 - 特許庁

An application composition containing a dehydrating agent in a polyamide acid solution, and an application composition containing a catalyst in the polyamide acid solution are laminate-applied, and this polyimide belt contains a chemical imidizing reaction with the dehydrating agent.例文帳に追加

ポリアミド酸溶液中に脱水剤を含有する塗布用組成物と、ポリアミド酸溶液中に触媒を含有する塗布用組成物を積層塗布し、脱水剤との化学イミド化反応を含むことを特徴とする。 - 特許庁

As compared with a case where the solvent does not contain the above isocyanate compound or contains other isocyanate compound than the above, a chemical stability of the electrolytic solution is improved and a decomposing reaction of the electrolytic solution is controlled.例文帳に追加

このイソシアネート化合物を含有しない場合や、他のイソシアネート化合物を含有する場合と比較して、電解液の化学的安定性が向上するため、その電解液の分解反応が抑制される。 - 特許庁

To remove deposits on a wafer while adverse effect on wiring due to chemical solution or rinsing solution is controlled for a semiconductor wafer on which fine metal wiring patterns are formed.例文帳に追加

微細な金属配線パターンが形成された半導体ウェハに対して、薬液やリンス液による配線への悪影響を抑制しつつウェハ上の堆積物を除去する。 - 特許庁

To provide polishing solution, for polishing the copper wiring of a semiconductor device having polishing performance of small dishing at a high polishing speed, and chemical mechanical polishing method employing the polishing solution.例文帳に追加

高研磨速度でディッシングの小さい研磨性能を有する半導体デバイスの銅配線を研磨する研磨液及びそれを用いた化学的機械的研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a medical solution package implement increasing flexibility in selecting a material of a plastic ampule as well as suppressing permeation of chemical solution to the outside of the plastic ampule.例文帳に追加

プラスチックアンプル外への薬液の透過を抑制することができると同時に、プラスチックアンプルの材料選択の自由度を広げることができる薬液包装具を提供すること。 - 特許庁

The metal polishing solution is a polishing solution that is used in a chemical, mechanical polishing process performed in the manufacture of a semiconductor device, and contains a specific amino acid derivative.例文帳に追加

半導体デバイスの製造における化学的機械的研磨に用いる研磨液であって、特定のアミノ酸誘導体を含有する金属用研磨液。 - 特許庁

To increase the diffusion rate of ions in a silver salt solution and a halide solution and perform a uniform chemical reaction, and to achieve uniform nucleation and growth of silver halide.例文帳に追加

銀塩溶液とハロゲン化物溶液とのイオンの拡散速度を早めて均一な化学反応をさせて均一なハロゲン化銀の核形成と成長を図る。 - 特許庁

To provide a method of preparing a lithium nitrite aqueous solution by which the high concentration lithium nitrite aqueous solution is prepared by a chemical reaction in water using easily obtainable raw materials without necessitating a special reaction apparatus.例文帳に追加

特別な反応装置を必要とせず、入手容易な原料を用いて、通常の水中での化学反応によって、高濃度の亜硝酸リチウム水溶液を得ることができる亜硝酸リチウム水溶液の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this chemical and mechanical polishing method, barrier metal formed on the semiconductor wafer 11 is polished, while slurry (abrasive solution) 5 and copper ion solution 7 are dripped on a polishing pad 2 of a platen (polishing surface plate) 1.例文帳に追加

本発明の化学機械研磨方法は、プラテン（研磨定盤）１の研磨パッド２上にスラリー（研磨液）５を滴下すると共に銅イオン溶液７を滴下しながら、半導体ウエハ１１に形成したバリアメタルを研磨する。 - 特許庁

As compared with the case in which neither of these is contained, or only either is contained, chemical stability of the electrolyte solution is improved, so that decomposition reaction of the electrolyte solution is restrained.例文帳に追加

これらの双方を含有しない場合や、いずれか一方だけを含有する場合と比較して、電解液の化学的安定性が向上するため、その電解液の分解反応が抑制される。 - 特許庁

As compared with the case in which no such nitrile compounds are contained, or other nitrile compounds are contained, chemical stability of the electrolyte solution is improved, so that decomposition reaction of the electrolyte solution is restrained at charging and discharging.例文帳に追加

このニトリル化合部物を含有していない場合や、他のニトリル化合物を含有している場合と比較して、電解液の化学的安定性が向上するため、充放電時において電解液の分解反応が抑制される。 - 特許庁

To accurately grasp the residual quantity of the antifreezing agent inside a chemical hopper and the residual quantity of the solution to be mixed with the antifreezing agent inside a solution tank when necessary.例文帳に追加

薬剤ホッパ内の凍結防止剤の残量や、該凍結防止剤に混合させる溶液の溶液タンク内における残量を適時に正確に把握する。 - 特許庁

The aqueous solution for non-chemical mechanical polishing does not contain abrasive grain and has an electric conductivity of 0.5-5,000 μS/cm (aqueous solution of citric acid, tetramethyl ammonium hydroxide, and the like).例文帳に追加

本化学機械研磨用水溶液は、砥粒を含有せず、電気伝導度が０．５〜５０００μＳ／ｃｍである（クエン酸水溶液、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液等）。 - 特許庁

Hydrochloric acid and hydrogen peroxide solution are mixed with each other in a second chemical feed pipe 11, and a mixed solution obtained by the mixing and DIW are mixed with each other in a mixing valve 8.例文帳に追加

第２薬液供給管１１において、塩酸と過酸化水素水とが混合され、ミキシングバルブ８において、その混合により得られる混合液とＤＩＷとが混合される。 - 特許庁

An aqueous solution containing one or more kinds of a nitric acid salt, a phosphoric acid salt, a permanganic acid salt, a peroxide, a chloric acid salt and a perchloric acid salt is used as the oxidative chemical solution.例文帳に追加

酸化性薬液には、硝酸塩，燐酸塩，過マンガン酸塩，過酸化物，塩素酸塩，過塩素酸塩の１種又は２種以上を含む水溶液が使用される。 - 特許庁

To provide a polishing solution for metals, which can compatibly accelerate a polishing speed and lower dishing when polishing a body to be polished (wafer), and to provide a chemical mechanical polishing method using the polishing solution.例文帳に追加

被研磨体（ウエハ）を研磨する際に、高い研磨速度と低ディッシングとの両立を可能とする金属用研磨液、及びそれを用いた化学的機械的研磨方法の提供。 - 特許庁

To provide a polishing solution for metals, which can compatibly accelerate a polishing speed and lower dishing when polishing a body to be polished (wafer), and to provide a chemical mechanical polishing method using the polishing solution.例文帳に追加

本発明は、被研磨体（ウエハ）を研磨する際に、高い研磨速度と低ディッシングとの両立を可能とする金属用研磨液、及びそれを用いた化学的機械的研磨方法を提供する。 - 特許庁

RAW MATERIAL SOLUTION FOR ORGANO-METALLIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD, METHOD FOR REFINING Pb(dpm)2 COMPLEX, AND METHOD FOR DEPOSITING DIELECTRIC THIN FILM USING THE RAW MATERIAL SOLUTION例文帳に追加

有機金属化学気相成長法用原料溶液、Ｐｂ（ｄｐｍ）２錯体の精製方法並びに該原料溶液を用いた誘電体薄膜の成膜方法 - 特許庁

Primary cleaning using a hydrochloric acid aqueous solution and/or a nitric acid aqueous solution is applied to the interior of the high purity alkaline chemical liquid handling equipment and secondary cleaning using both solutions is applied thereto.例文帳に追加

高純度アルカリ性薬液用の取扱い設備内を塩酸及び／又は硝酸水溶液による一次洗浄を行った後、共液による二次洗浄を行う。 - 特許庁

To detect the mass adsorbed on and bonded to a QCM type biosensor of the specific chemical substance in a sample solution with high precision by correcting the error component due to the effect of the air bubbles getting mixed in the sample solution.例文帳に追加

試料溶液に混入している気泡の影響による誤差成分を補正して、試料溶液中の特定の化学物質がＱＣＭ型バイオセンサ上に吸着・結合する質量を高精度に検出できるようにすること。 - 特許庁