「chemical solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

When grouting chemical to a target ground for foundation improvement, a chemical solution 2 for which the gelling time is adjusted to longer than 24 hours is used, this chemical solution is pressured by a pressured air and is continuously injected into the ground 4 longer than at least 24 hours.例文帳に追加

地盤改良に際して対象地盤に薬液を注入するに際し、ゲル化時間を１昼夜以上に調製した薬液２を用い、その薬液を加圧空気により加圧して地盤４中に少なくとも１昼夜以上にわたって連続的に注入する。 - 特許庁

To provide a trivalent chromate chemical conversion treatment solution capable of obtaining a trivalent chromate chemical conversion treatment film with thick film and excellent corrosion resistance on zinc or zinc alloy plating at lower temperature and in a shorter period of time as compared to a conventional trivalent chromate chemical conversion treatment solution.例文帳に追加

本発明は、従来の３価クロム化成処理液と比較して、低温、短時間で、亜鉛又は亜鉛合金めっき上に皮膜が厚く耐食性の良い３価クロム化成処理皮膜を提供することができる３価クロム化成処理液を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a chemical conversion treatment method carried out using a hexavalent iron ion solution having small environmental load instead of a chemical conversion treating agent such as harmful chromic acid used to improve the corrosion resistance of a member of magnesium alloy or the like and a chemical conversion treating agent comprising the hexavalent iron ion solution.例文帳に追加

本発明は、マグネシウム合金等の部材を耐食性向上のために用いられていた、有害なクロム酸などによる化成処理剤に代わり、環境負荷の少ない六価鉄イオン溶液による化成処理方法および六価鉄イオン溶液から化成処理剤を提供する。 - 特許庁

This apparatus is provided with a treating vessel 1 filled with a degreasing and chemical conversion treating solution, a settling tank 50 for transferring the degreasing and chemical conversion treating solution in the treating vessel, and an ultrasonic vibration transducer 51 for separating at least either of an oil-component or chemical conversion sludge.例文帳に追加

脱脂兼化成処理液が満たされる処理槽１と、処理槽内の脱脂兼化成処理液を移液するためのセットリングタンク５０と、セットリングタンクに設けられ、油分又は化成スラッジの少なくとも一方を分離する超音波振動装置５１とを備える。 - 特許庁

Also, solution obtained by mixing chlorine and oxygenated water which is acid system chemical and water, or solution obtained by mixing hydrogen fluoride, hydrogen chloride, oxygenated water and water or solution obtained by mixing hydrogen fluoride, oxygenated water and water may be used as chemical.例文帳に追加

また、酸系薬液である塩素と過酸化水素水と水を混合した溶液、またはフッ化水素と塩化水素と過酸化水素水と水を混合した溶液、またはフッ化水素と過酸化水素水と水を混合した溶液を用いることができる。 - 特許庁

Cerium oxide solution is used as the acid solution 8, the crystal wafer 7 dipped in the acid solution 8 is irradiated with ultrasonic waves to accelerate the chemical action, whereby the surface of the crystal wafer 7 is subjected to chemical polishing.例文帳に追加

本実施例においては、酸性溶液８として酸化セリウム溶液を使用しており、酸性溶液８に浸漬した水晶ウェハ７は、超音波を照射することにより化学的作用が促進され、水晶ウェハ７の表面を化学研磨する。 - 特許庁

When the basket placing table on which the glass slide mounted baskets are set is moved down, the baskets set on the basket placing table enter the corresponding chemical solution containers and specimens stuck on glass slides are immersed in the chemical solution in the staining solution containers.例文帳に追加

スライドガラスを搭載したバスケットがセットされたバスケット載置台が下がると、バスケット載置台にセットされたバスケットは対応する薬液容器に入り、スライドガラスに貼着された試料が染色液容器内の薬液に浸漬する。 - 特許庁

The measuring kit includes a first container in which the first chemical solution containing the metal indicator is housed, a second container in which the second chemical solution containing the pH controller is housed and a third container in which the third solution containing the metal salt for discoloring the metal indicator.例文帳に追加

また、この発明の測定キットは、金属指示薬含有する第一薬液が収容された第一容器と、ｐＨ調整剤を含有する第二薬液が収容された第二容器と、前記金属指示薬を変色させる金属塩を含有する第三薬液が収容された第三容器とを備えている。 - 特許庁

During or after the polishing step 2, a chemical conversion treatment is conducted through a contact with an electrolytic solution, either with the surface of the substrate in contact as is with the working solution or immediately after the working solution is removed, whereby the surface of the embedded metallic material is provided with a protective chemical conversion coating.例文帳に追加

研摩工程２の進行中又は完了後に、基材表面を作業液に接触した状態のままか、もしくは作業液を除去した直後に電解液接触による化成処理を行うことによって埋込んだ金属材料表面に保護性の化成皮膜を形成する（工程３）。 - 特許庁

At this time, an apparatus constituted so that a polyamic acid solution supply device and a chemical curing agent supply device are connected to a mixer so as to prevent the mixing with air bubbles or the like and continuously performing the mixing of the chemical curing agent with the polyamic acid solution and the supply of the mixed solution to the coating mold is used.例文帳に追加

またその際に、気泡等を混入することのないように、ポリアミック酸溶液供給装置と化学キュア剤供給装置とをミキサー装置に連結し、連続で化学キュア剤の混合と塗布型への供給を行う装置を用いる。 - 特許庁

To highly precisely/highly sensitively and continuously detect/determine quantitatively only a measuring objective chemical substance by an electrode reaction, without receiving interference by a chemical substance other than the measuring objective chemical substance, in an aqueous solution containing the plurality of chemical substances.例文帳に追加

複数の化学物質を含む水溶液において、測定対象とする化学物質以外の化学物質による干渉を受けることなく、電極反応により測定対象化学物質のみを高精度・高感度で連続的に検出・定量する。 - 特許庁

An inorganic industrial chemical which generates hydrogen ion and hydroxide ion by reacting with acid is reacted with inorganic acid aqueous solution and organic acid aqueous solution to generate hydrogen ion and hydroxide ion, and the reacted solution is adjusted to be alkaline.例文帳に追加

酸と反応して水素イオンと水酸イオンを発生させる無機工業薬品を無機酸水溶液、有機酸水溶液と反応させて水素イオンと水酸イオンを発生させ、反応溶液をアルカリ性に調整する。 - 特許庁

In chemical reduction reaction where a cobalt salt aqueous solution and a reducer aqueous solution are mixed, and cobalt ions are reduced, so as to obtain cobalt powder, cobalt-zinc alloy powder is obtained by simultaneously reducing a zinc salt aqueous solution.例文帳に追加

コバルト塩水溶液と還元剤水溶液を混合して、コバルトイオンを還元することによりコバルト粉末を得る化学還元反応において、亜鉛塩水溶液も同時に還元することにより、コバルト亜鉛合金粉末を得る。 - 特許庁

To provide a method for easily producing a raw material solution of high purity (n-butoxy)tris(pivaloylmethanato)zirconium for using in the vaporized solution source of chemical vapor deposition method, and a PZT film-forming method using the solution.例文帳に追加

溶液気化の化学気相成長法に用いるための高純度の（ノルマルブトキシ）トリス（ジピバロイルメタナト）ジルコニウムの原料溶液を容易に製造する方法および該溶液を用いたＰＺＴ膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

This chemical and mechanical polishing equipment is provided with a slurry supply line 4, which drips the slurry (abrasive solution) 5 on the polishing pad 2 of the platen (polishing surface plate) 1 and a copper ion solution supplying line 6, which drips the copper ion solution 7.例文帳に追加

本発明の化学機械研磨装置は、プラテン（研磨定盤）１の研磨パッド２上にスラリー（研磨液）５を滴下するスラリー供給ライン４と銅イオン溶液７を滴下する銅イオン溶液供給ライン６とを備えた。 - 特許庁

To provide a method for regenerating an electrolytic solution that has been used in an electro-chemical machining process for a metallic material containing chromium and contains a nitrate as a main component, into an electrolytic solution of high purity, by removing impurities such as hexavalent chromium without passing the electrolytic solution through a complicated process.例文帳に追加

クロムを含む金属材料の電解加工に使用した、硝酸塩を主成分とする電解液を、複雑な工程を経ることなく、六価クロムなどの不純物を除去して高い純度の電解液に再生させる。 - 特許庁

To provide a cleaning solution compounding device and a cleaning solution supply method in a CMP (chemical-mechanical polishing) apparatus for stabilizing the concentration and flow rate of a cleaning solution supplied to a cleaner.例文帳に追加

ＣＭＰ装置の洗浄機に供給される洗浄液の濃度と流量を安定させるＣＭＰ装置における洗浄液調合装置及び洗浄液供給方法を提供する。 - 特許庁

The solution for substrate spotting and the spotting method are formed by mixing a solution containing the bio-related substances or the chemical substances to be spotted with a solution to which inorganic fine powder is added as a surface tension regulating agent.例文帳に追加

スポットされる生体関連物質又は化学物質を含有する溶液と、表面張力調整剤として無機微粉末を添加した溶液を混合して成る基盤スポット用溶液、及びスポット方法。 - 特許庁

At this time, preferably, the inorganic material thin film 1 is composed of a silicon oxide film or a silicon film deposited by a plasma CVD method, and the chemical etching solution 5 is composed of an aqueous solution of hydrofluoric acid or ammonium fluoride or a mixed solution therebetween.例文帳に追加

このとき、無機材料薄膜１が、プラズマＣＶＤ法で成膜された酸化珪素膜または珪素膜であり、化学エッチング液５が、フッ化水素酸、フッ化アンモニウム水溶液またはこれらの混合溶液であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a surface treatment solution for metals which forms a zinc phosphate chemical conversion coating having excellent corrosion resistance and adhesiveness of coating even if the quantity of oil contamination in the solution is large and the agitation state of the solution is poor.例文帳に追加

金属表面処理液中の油混入量が多く、且つ処理液の撹拌状態が不良であっも、耐食性、塗膜密着性に優れたリン酸亜鉛化成皮膜を形成できる金属表面処理液を提供すること。 - 特許庁

To provide a method which prepares an aqueous non-alkaline silicic acid solution suitable for a grouting chemical, does not need to use a complicated reaction apparatus, and can prepare repeatedly the solution of high concentration bringing about no gelled product in the solution.例文帳に追加

複雑な反応装置を使用することなく、高濃度の非アルカリ性珪酸水溶液の調製を繰り返してもゲル化物を含まない、地盤注入薬液に適した非アルカリ性珪酸水溶液の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the rustproof-processing method of a heat exchanger, the heat exchanger which is flux-brazed by the Nocolock (R) brazing method is subjected to surface treatment with lithium treatment liquid of ≥pH7 containing lithium, subjected to cerium chemical conversion treatment with solution of cerium chemical conversion treatment of pH1.5-3 containing cerium, and thereafter, subjected to zirconium chemical conversion with solution of zirconium chemical conversion treatment of pH3-5 containing zirconium.例文帳に追加

ノコロックろう付け法によりフラックスろう付けした熱交換器を、リチウムを含有するｐＨ７以上のリチウム処理液で表面処理した後、セリウムを含有するｐＨ１．５〜３のセリウム化成処理液でセリウム化成処理し、その後、ジルコニウムを含有するｐＨ３〜５のジルコニウム化成処理液でジルコニウム化成処理する熱交換器の防錆処理方法である。 - 特許庁

In a cleaning solution compounding apparatus for compounding a cleaning solution and supplying the solution to a cleaner 3 in a CMP apparatus 1, chemical lines having two chemical storage tanks 10, 11 and flow control valves 40 to 42 provided therein are connected to the cleaner 3, and three-way switching valves 33 to 35 are provided at locations immediately preceding the cleaner 3 in the chemical lines.例文帳に追加

洗浄液を調合してＣＭＰ装置１内の洗浄機３に供給する洗浄液調合装置において、２つの薬液貯溜タンク１０，１１及び流量制御弁４０〜４２を設置して成る薬液ラインが洗浄機３に接続されていると共に、該薬液ラインにおける洗浄機３の直前には、三方切換弁３３〜３５が設置されている。 - 特許庁

The present invention relates to a solution parameter prediction method for chemical material, including decomposing a chemical material into a fragment for each partial structure, determining an expression for predicting a solution parameter through multiple regression analysis, and calculating the solution parameter of the chemical material using the expression.例文帳に追加

化学物質を部分構造ごとのフラグメントに分解し、重回帰解析により溶解パラメータを予測する式を決定し、その式を用いて化学物質の溶解パラメータを算出する方法であって、化学物質の溶解パラメータの予測式が、下記数式（１）であることを特徴とする化学物質の溶解パラメータ予測方法。 - 特許庁

In the method of manufacturing the semiconductor device having a process of etching a compound semiconductor with an etching solution, the etching solution includes chemical materials containing group 6B atoms as constitution elements, the atomic numbers of all group 6B atoms forming the chemical materials are 16 or above (e.g. all group 6B atoms forming the chemical materials are sulfur atoms), and the compound semiconductor is etched with the above etching solution.例文帳に追加

化合物半導体を溶液を用いてエッチングする工程を有する半導体装置の製造方法において、エッチング溶液が、６Ｂ族原子を構成要素に含む化学物質を含有し、且つ該化学物質を構成する全ての６Ｂ族原子の原子番号が１６以上（例えば、化学物質を構成する全ての６Ｂ族原子が硫黄原子）のものを用いて化合物半導体のウェットエッチングを行う。 - 特許庁

A laser irradiation microworking method comprises the steps of placing a metal material in the chemical solution, forming a passivity film on this metal front surface in the chemical solution, removing the passivity film by means of a laser ablation by selectively irradiating a laser beam, and removing a material by performing an etching action by the chemical solution with respect to only a part where the passivity film is removed.例文帳に追加

本発明は、金属材料を化学溶液中に置き、この金属表面に化学溶液中で不動態膜を形成し、そこにレーザー光を選択的に照射することにより、不動態膜をレーザーアブレーションにより除去し、不動態膜が除去された部分のみ化学溶液によるエッチング作用で材料除去を行う。 - 特許庁

In the injection process of the chemical solution, the turbidity of the raw water is recommended to be used as a control factor for feed-forward controlling the injection rate of the chemical solution, and also residual chlorine concentration in washing drain of the treating unit 12 is recommended to be used as a control factor for feed-back controlling the injection rate of the chemical solution.例文帳に追加

前記薬液の注入過程で、前記原水の濁度は前記薬液の注入率をフィードフォワード制御する制御因子として利用すると共に、処理ユニット１２の洗浄排水の残留塩素濃度は前記薬液の注入率をフィードバック制御する制御因子として利用するとよい。 - 特許庁

To provide a wafer processing tank made of quartz glass that is easily manufactured even when a large-sized type applicable to a large-diameter, and has a structure which withstands water pressure of a chemical solution reservoired in the processing tank, reduces the amount of the chemical solution, and supplies the chemical solution to a large-area wafer surface, and to provide a method of manufacturing the wafer processing tank.例文帳に追加

大口径のウエハーに対応可能な大型の処理槽であっても製作が容易であり、処理槽内に蓄えられる処理薬液による水圧にも耐え、薬液の量を削減できかつ効率よく薬液を大面積のウエハー表面に流れるような構造を有する石英ガラス製ウエハー処理槽及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

This chemical solution storage tank 110 for treating flying ash comprises the chemical solution storage tank body 110 for storing the chemical solution for treating flying ash, the level gauge 120 which is provided in an attitude of extending vertically over the side surface outer side of the storage tank body 110, and the electrode-type level gauge 130 attached to the level gauge 120.例文帳に追加

飛灰処理用薬液を収容する貯留槽本体１１０と、貯留槽本体１１０の外側側面に鉛直方向に延びる姿勢で設けられ該貯留槽本体の液位を反映して示す水位計１２０と、水位計１２０に取り付けられた電極式液面計１３０とを備えていることを特徴とする飛灰処理用薬液貯留槽１００である。 - 特許庁

To provide a deaeration module capable of reducing redissolution of air into a deaerated chemical solution without applying load to the operation of an ink-jet head in an ink-jet discharging apparatus and preventing a fault in the next use caused by the deterioration of the chemical solution while reducing the disposal loss of the chemical solution when the ink-jet discharging apparatus is not used for a fixed period.例文帳に追加

インクジェット吐出装置において、インクジェットヘッドの動作に負担をかけずに、脱気済みの薬液への空気の再溶解を低減でき、かつ、インクジェット吐出装置を一定期間使用しない場合に、薬液の廃棄損失を低減しつつ、薬液の変質による次回使用時の不具合を防止できる脱気モジュールを目的とする。 - 特許庁

This airborne polar substance removal apparatus is composed of a collection part comprising cation exchange hollow fiber membranes and/or anion exchange hollow fiber membranes as polar substance collection elements and a chemical solution supply part for supplying a strongly acidic chemical solution to the cation exchange hollow fiber membranes in the collection part and a strongly basic chemical solution to the inside of the hollow fibers of the anion exchange hollow fiber membranes.例文帳に追加

カチオン交換性中空糸膜および／またはアニオン交換性中空糸膜を極性物質捕集素子とする捕集部、および該捕集部のカチオン交換性中空糸膜に対しては強酸性薬液、アニオン交換性中空糸膜に対しては強塩基性薬液を中空糸内部に供給する薬液供給部、より構成されてなる空中の極性物質除去装置。 - 特許庁

The thin film formation method of forming an even and thin film includes steps of evenly applying a chemical solution containing particulates of thin film materials to one face of a substrate and drying the chemical solution by exposing the substrate to prescribed temperature atmosphere before the particulates of the thin film materials dispersed in the chemical solution applied to the substrate are agglomerated.例文帳に追加

基板の一面に薄膜材料の微粒子を分散させた薬液を均一に塗布する工程と、該基板に塗布された薬液中に分散している薄膜材料の微粒子が凝集する前に、上記基板を所定の温度雰囲気中に曝して上記薬液を乾燥させる工程と、を実行し均一な薄膜を形成するものである。 - 特許庁

A method for forming the coating comprises, preparing the first solution including chemical species as an anodic inhibitor and the second solution including chemical species as a cathodic corrosion inhibitor, and immersing the component to be coated into the first solution out of the first and the second solutions, and then, immersing it into the second solution out of the first and the second solutions.例文帳に追加

被覆は最初にアノード抑制剤化学種を含む第１の溶液を用意し、カソード腐食抑制剤化学種を含む第２の溶液を用意し、被覆されるべき部品を第１および第２の溶液の第１のものに浸漬し、その後、第１の溶液と第２の溶液の第２のものに浸漬することにより、形成される。 - 特許庁

This method comprises the steps of embedding a conductive metallic material into fine recesses formed in a substrate, such as a semiconductor wafer (step 1), polishing the surface of the metallic material by a mechanical and chemical operation using a working solution (including a polishing solution, a chemical solution and a cleaning solution) from the outermost layer of the buried metal (step 2), whereby an interconnection structure is prepared.例文帳に追加

半導体ウエハ等の基材に設けた微細な凹みに導電性の金属材料を埋込み（工程１）、その後埋込み金属の最外層側から、金属材料表面を作業液（研摩液や薬液、洗浄液を含む）を用いて機械的・化学的作用によって研摩する（工程２）ことによって配線構造を製造する。 - 特許庁

a chemical that is added to a solution or mixture or suspension to maintain it in a stable or unchanging state 例文帳に追加

安定した、あるいは変化のない状態でそれを維持するために溶液、は混合物、あるいは検査液に加えられる化学製品 - 日本語WordNet

The summary shall indicate clearly the technical field to which the invention belongs, technical problem to which the invention relates and the solution to the problem through the invention and principal use or uses of the invention. Where necessary, the abstract shall contain the chemical formula, which characterizes the invention. 例文帳に追加

必要な場合，要約は，発明を特徴付ける化学式を含まなければならない。 - 特許庁

The chemical plating is carried out by utilizing group VIII metals as a catalyst in a plating solution containing a hypophosphorous acid negative ions and nickel positive ions.例文帳に追加

化学めっきは次亜リン酸陰イオンとニッケル陽イオンを含むめっき液に第８族金属を触媒として用いて行った。 - 特許庁

As the polishing liquid in chemical mechanical polishing, alkali solution having hydrogen ion concentration of PH 9.0 or less is employed.例文帳に追加

化学的機械的研磨における研磨液として、水素イオン濃度がＰＨ９．０以下のアルカリ溶液を用いる。 - 特許庁

In step S3, the nuclide subjected to the ion-exchange adsorption onto the anion-exchange resin is selectively eluted and separated by a prescribed chemical medical solution.例文帳に追加

ステップＳ３において、上記陰イオン交換樹脂にイオン交換吸着した核種を所定の化学薬液により選択的に溶離し分離する。 - 特許庁

Ammonium cerium nitrate(ACN) solution, a mixed liquid of strong oxidizer and strong alkali, or the like is used for the treatment chemical liquid.例文帳に追加

処理薬液には硝酸二アンモニウムセリウム（ＡＣＮ:Ammonium Cerium Nitrate）水溶液や強い酸化剤と強アルカリとの混合液などが用いられる。 - 特許庁

The surface exposed by the chemical and mechanical polishing process is dipped into a preprocessing solution containing amine or ammonia.例文帳に追加

化学機械研磨工程で露出された表面を、アミンまたはアンモニアを含有する前処理液に晒す。 - 特許庁

The chemical conversion treatment solution can contain one or more kinds selected from nitrite ions, hydrogen peroxide and peroxo compounds.例文帳に追加

化成処理液には亜硝酸イオン、過酸化水素、ペルオキソ化合物から選ばれる１種または２種以上を含有させる事ができる。 - 特許庁

The sheet impregnated with chemical is obtained by impregnating a sheet containing cellulose fibers with sodium thiosulfate and alcohol water solution.例文帳に追加

セルロース繊維を含有したシートに、チオ硫酸ナトリウムおよびアルコール水溶液を含浸させた事を特徴とする薬液含浸シート。 - 特許庁

A chemical mechanical polishing oxide slurry comprises polishing particles and an aqueous solution containing two or more passivation agents different from each other.例文帳に追加

化学機械的な研磨酸化物スラリーは研磨粒子と二つまたはそれ以上の相異なるパッシベーション剤を含む水溶液とよりなる。 - 特許庁

Acetone of high purity is used as the chemical polishing solution, and, after the surface polishing, the Mg pellet is dried by the vapor of dichloromethane.例文帳に追加

化学研磨液に高純度のアセトンを使用し、表面研磨後にジクロロメタンの蒸気でＭｇペレットを乾燥させる。 - 特許庁