「development block」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

SOFTWARE DEVELOPMENT-SUPPORTING SYSTEM, PROGRAM, AND BLOCK DIAGRAM-SEARCHING METHOD例文帳に追加

ソフトウェア開発支援装置、プログラム及びブロック図検索方法 - 特許庁

A cassette stand-by block 6 is connected to a bring-in/out block of the coating development processing system.例文帳に追加

塗布現像処理システムの搬入出ブロックに、カセット待機ブロック６が接続される。 - 特許庁

In a block type development method, nesting by an element is developed as nesting by a block.例文帳に追加

ブロック型展開方法は、要素による入れ子をブロックによる入れ子として展開する。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, and an interface block 13.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。 - 特許庁

(vii) Disaster prevention block improvement projects provided for in the Concentrated Urban Areas Development Act. 例文帳に追加

七　密集市街地整備法による防災街区整備事業 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a drying processing block 13 and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、乾燥処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a cleaning block 13, and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、洗浄処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。 - 特許庁

MODEL BASE DEVELOPMENT ASSISTING BLOCK, SIMULATION SYSTEM AND AUTOMATIC CODE GENERATION METHOD例文帳に追加

モデルベース開発補助ブロック、シミュレーションシステム及び自動コード生成方法 - 特許庁

The substrate treating apparatus 500 includes an indexer block 9, a bevel treatment block 10, a treatment block 11 for an antireflection film, a treatment block 12 for a resist film, a development treatment block 13, a treatment block 14 for a resist cover film, and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、ベベル処理ブロック１０、反射防止膜用処理ブロック１１、レジスト膜用処理ブロック１２、現像処理ブロック１３、レジストカバー膜用処理ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。 - 特許庁

The substrate processor 500 is provided with an indexer block 9, a reflection preventing film processing block 10, a resist film processing block 11, a resist cover film processing block 12, an inspection block 13, a development processing block 14, a resist cover film removing block 15, and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、レジストカバー膜用処理ブロック１２、検査ブロック１３、現像処理ブロック１４、レジストカバー膜除去ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a liquid immersion processing block 13, and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、液浸露光用処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 includes an indexer block 9, a processing block 10 for reflection prevention films, a processing block 11 for resist films, a development/cleaning/drying block 12, a cleaning/drying block 13, and an interface block 14.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像／洗浄／乾燥処理ブロック１２、洗浄／乾燥処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４を含む。 - 特許庁

In the development processing block 20, development processing parts 22a and 22b are provided facing each other across a center robot CR2.例文帳に追加

現像処理ブロック２０には、現像処理部２２ａ，２２ｂがセンターロボットＣＲ２を挟んで対向して設けられる。 - 特許庁

To block games from being involved into the negative development in a battle game.例文帳に追加

対戦ゲームにおいて消極的なゲーム展開に陥ることを抑制する。 - 特許庁

The substrate-treating device 500 comprises: an indexer block 9; a treatment block 10 for reflection prevention films; a treatment block 11 for resist films; a development treatment block 12; a treatment block 13 for resist cover films; a removal block 14 of resist cover films; and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。 - 特許庁

The substrate processing equipment 300 comprises an indexer block 9, an antireflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removing block 14, and a first interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置３００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４および第１のインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

The substrate treating device 500 includes an indexer block 9, a treatment block 10 for reflection prevention films, a treatment block 11 for resist films, a development treatment block 12, a treatment block 13 for resist cover films, a resist cover film removal block 14, and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

The substrate processor 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removing block 14, and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を備える。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 includes: an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removal block 14 and an interface block 15.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４およびインターフェースブロック１５を含む。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 is juxtaposed with an indexer block 10, a treatment block 11 for resist films, a cleaning/drying treatment block 12, a development processing block 13, and an interface block 14 in this order.例文帳に追加

基板処理装置５００においては、インデクサブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、洗浄／乾燥処理ブロック１２、現像処理ブロック１３およびインターフェースブロック１４が、この順で並設される。 - 特許庁

Thus, in the initial wear stage when the block is new, the wear development suppressive effect equivalent to that of the block with the block edge is smoothly tapered.例文帳に追加

このため、新品時の摩耗初期の段階では、ブロック端縁部をなだらかに落したブロックと同等の摩耗進展抑制効果がある。 - 特許庁

A substrate processing apparatus 500 comprises an indexer block 9, a processing block 10 for an antireflection film, a processing block 11 for a resist film, a development processing block 12, a processing block 13 for a resist cover film, a resist cover film removal block 14, a cleaning/drying processing block 15, and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate-treating device 500 comprises an indexer block 9, a treatment block 10 for antireflection films, a treatment block 11 for resist films, a development processing block 12, a treatment block 13 for resist cover films, a resist cover film removal block 14, a cleaning/drying treatment block 15, and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

The substrate-treating device 500 includes an indexer block 9; a treatment block 10 for reflection prevention films; a treatment block 11 for resist films; a development treatment block 12; a treatment block 13 for resist cover films; a resist cover film removal block 14; a cleaning/drying treatment block 15; and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を含む。 - 特許庁

The substrate processing apparatus 500 comprises: an indexer block 9; a processing block 10 for an antireflection film; a processing block 11 for a resist film; a development processing block 12; a processing block 13 for a resist cover film; a resist cover film removing block 14; a cleaning/drying processing block 15; and an interface block 16.例文帳に追加

基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２、レジストカバー膜用処理ブロック１３、レジストカバー膜除去ブロック１４、洗浄／乾燥処理ブロック１５およびインターフェースブロック１６を備える。 - 特許庁

METHOD FOR DESCRIBING GRAPHICAL ALGORITHM OF BLOCK DIAGRAM BASE FOR DEVELOPMENT OF IMAGE PROCESSING APPLICATION例文帳に追加

画像処理アプリケーション開発のためのブロック線図ベースのグラフィカルなアルゴリズム記述方法 - 特許庁

(3) HRD related to development of block and zoning (pipe network analysis) of water supply. Introduction of the pipe network analysis software.例文帳に追加

③ 配水ブロック策定（管網解析）に関わる人材育成、管網解析ソフトの整備 - 厚生労働省

The block name is configured of an "word stem" uniquely showing the block and an "identifier" deciding the operation of a development tool.例文帳に追加

ブロック名は、ブロックを一意的に示す「語幹」と本発明による開発ツールの動作を既定する「識別子」により構成される。 - 特許庁

An inspection block which inspects a development-processed substrate is incorporated in the substrate processing apparatus which performs a resist applying process and development process.例文帳に追加

レジスト塗布処理および現像処理を行う基板処理装置に、現像処理後の基板の検査を行う検査ブロックを組み込む。 - 特許庁

The magnet block 141a forms a development area 131 on an external surface of the developing sleeve 132.例文帳に追加

マグネットブロック１４１ａは現像スリーブ１３２の外表面に現像領域１３１を形成する。 - 特許庁

A software development-supporting device 1 automatically generates a program from a block diagram.例文帳に追加

本発明は、ブロック図からプログラムを自動生成するソフトウェア開発支援装置１に係るものである。 - 特許庁

(ii) Disaster prevention block improvement zone plans provided for in paragraph (1), Article 31 of the Concentrated Urban Areas Development Act; 例文帳に追加

二　密集市街地整備法第三十二条第一項の規定による防災街区整備地区計画 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The block diagram expressing the constitution of the program development stage retrieval system related with a configuration 1 is shown by Fig. 1.例文帳に追加

図１は、本実施の形態１に係るプログラム開発段階検索システムの構成を示すブロック図である。 - 特許庁

A processing time calculation means estimates the required time of a processor needed for development processing of the block to be executed by two or more pieces of restoration means and data transfer required time needed for transfer processing of the data to be the object of development processing for each block on the basis of the management table of each block.例文帳に追加

処理時間計算手段は、ブロック毎の管理テーブルに基づいて、ブロック毎に、複数の復元手段によって実行されるべきブロックの展開処理に要するプロセッサの所要時間と展開処理の対象となるデータの転送処理に要するデータ転送所要時間とを見積もる。 - 特許庁

This software development support device includes: an NG block diagram connection information storage means previously storing block diagram connection information of an NG block diagram not satisfying a prescribed condition as NG block diagram connection information; and a block diagram accordance decision means comparing target block diagram connection information with the NG block diagram connection information, and deciding whether or not at least a part of the target block diagram connection information accords with the NG block diagram connection information.例文帳に追加

本発明は、所定の条件を満たさないＮＧブロック図のブロック図接続情報をＮＧブロック図接続情報として予め記憶するＮＧブロック図接続情報記憶手段と、対象ブロック図接続情報とＮＧブロック図接続情報とを比較して、対象ブロック図接続情報の少なくとも一部が前記ＮＧブロック図接続情報と一致するか否かを判定するブロック図一致判定手段を備えている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a development roller which can manufacture a development roller having the high positioning accuracy of a development main electrode part requested in an SLIC development apparatus with small man-hour at a low cost and obtain the development roller with no scatter of magnetic characteristics in a short period of time without causing waviness, a crack or chipping in a magnet block.例文帳に追加

ＳＬＩＣ現像装置に要求される現像主極部の位置精度が高い現像ローラを少ない工数で安価に製造可能であり、マグネットブロックにうねりや割れ、欠けを生じることなく、かつ短時間で、磁気特性のばらつきのない現像ローラを得ることが可能な現像ローラの製造方法を提供する。 - 特許庁

By use of a fixed position property of the block type development method or the block type restoration method, the structure conversion of the XML document, and the XML documentation of the non-structured document are performed.例文帳に追加

ブロック型展開方法・ブロック型復元方法の定位置性を利用して、ＸＭＬ文書の構造変換、非構造化文書のＸＭＬ文書化を行う。 - 特許庁

To suppress occurrence of abnormality in an unit block and deterioration of the throughput of an application/development device when performing maintenance, and to suppress the installation area of a processing block.例文帳に追加

単位ブロックに異常が発生したり、メンテナンスを行うときに、塗布、現像装置のスループットの低下を抑えると共に処理ブロックの設置面積を抑えること。 - 特許庁

An image is divided into strips and scanned in performing development processing, variable power processing, raster block conversion, and compression processing.例文帳に追加

現像処理、変倍処理、ラスタブロック変換、圧縮処理等を行う際に短冊に分割スキャンして画像処理する。 - 特許庁

To obtain a polylactic acid fiber structure having excellent block color development and high heat resistance and a method for producing the same.例文帳に追加

黒発色性に優れ、高耐熱性を有するポリ乳酸繊維構造物、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To make it possible in a software development-supporting device both to retrieve a desired part in a block diagram and to identify a block element composed of the same pattern in the block diagram to improve efficiency in block diagram maintenance work.例文帳に追加

ソフトウェア開発支援装置においてブロック図における所望の部分の検索を可能にし、また、ブロック図において同一パターンで構成されているブロック要素の特定を可能にすることによって、ブロック図保守作業の効率を高めることを目的としている。 - 特許庁

In fixing the magnet block 2 of a rare earth magnet constituting the development main electrode part to a groove part of a magnet roller 1 made of a ferrite magnet, the magnet block 2 is pressed to the magnet roller 1 by the repulsion of a magnetic field by applying the same magnet field as that of the magnet block 2 to a pressing block 7 for pressing the magnet block 2.例文帳に追加

フェライトマグネットからなるマグネットローラ１の溝部に、現像主極部を構成する希土類マグネットのマグネットブロック２を固定する際、マグネットブロック２を加圧する加圧ブロック７に対し、マグネットブロック２と同じ磁界をかけることで、その反発力によりマグネットブロック２をマグネットローラ１に押し付ける。 - 特許庁

This substrate treatment apparatus comprises an anti-reflection film treatment block 2 including a chemical treatment section, a heat treatment section, and a single main carrying mechanism independently constituted, a resist film treatment block 3, and a development block 4.例文帳に追加

この基板処理装置は、薬液処理部と熱処理部と単一の主搬送機構とを含んでそれぞれが構成されている反射防止膜用処理ブロック２とレジスト膜用処理ブロック３と現像処理ブロック４とを並設してある。 - 特許庁

The entire block copolymer present in a first area is removed by carrying out exposure and development under a first condition, and patterns including the first block phases and the second block phases are left in areas other than the first area.例文帳に追加

また、第１の条件で露光と現像を行い第１の領域に存在するブロックコポリマー全体を除去し、第１の領域以外の領域に第１のブロック相および第２のブロック相を含むパターンを残存させる。 - 特許庁

To provide a technology which enables the observation of an outer surface of a concrete block when a PC tendon is wound around the outer surface of the concrete block so that reinforcement for suppressing the development of a crack etc. in the concrete block can be performed.例文帳に追加

コンクリート塊の外表面にＰＣ緊張材を巻き付けて、コンクリート塊のひび割れ等の進行を抑制する補強を行う場合に、コンクリート塊の外表面を観察することが可能な技術を提供する。 - 特許庁