「etchant」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a wet etchant used for etching in an aluminum-based metal wiring.例文帳に追加

アルミニウム系金属配線のエッチングに使用するウエットエッチング液を提供すること。 - 特許庁

During etching, etchant damages a passivation layer on a wafer somewhat.例文帳に追加

エッチング中に、エッチング液がウェーハ上の不活性化層をいくらか損傷してしまう。 - 特許庁

The etchant regeneration system is provided with a dissolved substance content-measuring means 310 for measuring the content of the substance dissolved in the etchant in an etching tank or a circulation path, and determines the amount of a regenerated etchant to be returned to the etching tank from an etchant regenerating means based upon the content of the dissolved substance measured by the dissolved substance content-measuring means 310.例文帳に追加

エッチング槽又は循環経路内のエッチング液に溶存する物質の含有量を測定する溶存物質含有量測定手段３１０を設け、溶存物質含有量測定手段３１０で測定される溶存物質の含有量に基いてエッチング液再生手段からエッチング槽へ戻される再生エッチング液の液量を決定する。 - 特許庁

Thus, the face to be etched is cleaned, and chemical reaction is stopped by the etchant.例文帳に追加

これにより、被エッチング面が洗浄され、エッチング液による化学反応が停止される。 - 特許庁

This gallium nitride layer becomes insoluble or hardly soluble to the etchant of the gallium arsenic semiconductor.例文帳に追加

この窒化ガリウム層は、ガリウム砒素半導体のエッチング液に対して不溶あるいは難溶となる。 - 特許庁

At that time, alkali solution is used for etchant to which ion system surfactant is added.例文帳に追加

このとき、エッチング液にはイオン系界面活性剤が添加されたアルカリ溶液を用いる。 - 特許庁

Then the nickel silicide segregated in the ridge is removed by using a hydrofluoric acid-based etchant.例文帳に追加

次にフッ酸系のエッチング溶液を用いて、リッジに偏析したニッケルシリサイドを除去する。 - 特許庁

The template 62 has an etchant flow passage 66 which communicates with the openings 65.例文帳に追加

テンプレート６２は、開口部６５に連通するエッチング液の流通路６６を備えている。 - 特許庁

The peripheral part of the surface of the wafer W is etched with the remaining etchant.例文帳に追加

この残留エッチング液により、ウエハＷ表面の周縁部がエッチング処理される。 - 特許庁

The substrate (38) is made of a material that is chemically resistant to the etchant.例文帳に追加

基体（３８）は該エッチング液に対し化学的耐性を有する材料で造られている。 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION FOR METAL MATERIAL AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING SAME例文帳に追加

メタル材料用エッチング剤組成物及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

The temperature of the etchant is preferably 200°C or higher and further preferably 180°C or lower.例文帳に追加

エッチング液の温度は、好ましくは２００℃以下、より好ましくは１８０℃以下とする。 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION FOR PREVENTING LEANING OF CAPACITOR AND METHOD OF MANUFACTURING CAPACITOR USING THE SAME例文帳に追加

キャパシタのリーニング防止用食刻液組成物及びこれを用いたキャパシタ製造方法 - 特許庁

ETCHANT FOR WIRING AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR DISPLAY PANEL USING THE SAME例文帳に追加

配線用エッチング液及びこれを利用した薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - 特許庁

ETCHANT FOR COMPOUND SEMICONDUCTOR AND METHOD OF ETCHING THE COMPOUND SEMICONDUCTOR USING THE SAME例文帳に追加

化合物半導体のエッチング液及びそれを用いた化合物半導体のエッチング方法 - 特許庁

ETCHANT AND ETCHING METHOD FOR AlGaAs-BASED COMPOUND SEMICONDUCTOR LAYER, AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

ＡｌＧａＡｓ系化合物半導体層用エッチング液、エッチング方法および半導体基板 - 特許庁

ETCHANT FOR SPRAY METHOD AND PRODUCTION METHOD FOR SUITABLE ELECTRONIC CIRCUIT BOARD USING THE SAME例文帳に追加

スプレー法用エッチング液及びそれを用いて好適な電子回路基板の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING AND RECOVERING INDIUM FROM INDIUM-CONTAINING FERRIC CHLORIDE ETCHANT WASTE例文帳に追加

インジウム含有塩化第二鉄エッチンク廃液からのインジウムの除去方法および回収方法 - 特許庁

ETCHANT, METHOD FOR FORMING WIRING USING THIS, AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR SUBSTRATE例文帳に追加

エッチング液、これを用いた配線形成方法及び薄膜トランジスタ基板の製造方法 - 特許庁

To provide an etchant composition that is low in foaming property and does not generate any etching residue.例文帳に追加

低発泡性でかつエッチング残渣が発生しないエッチング液組成物を提供すること。 - 特許庁

ETCHANT FOR CHEMICAL SEMICONDUCTOR FILM AND METHOD OF ETCHING, AND METHOD OF COLLECTING AND TREATING WASTE LIQUID例文帳に追加

化合物半導体膜のエッチング液、エッチング方法および廃液の処理回収方法 - 特許庁

For the wet etching, an etchant including hydrofluoric acid, buffered hydrofluoric acid and aqueous ammonia, etc., is used.例文帳に追加

ウェットエッチングには、フッ酸や、バッファード・フッ酸、アンモニア水などを含むエッチャントを用いる。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF HYBRID INTEGRATED CIRCUIT DEVICE AND ETCHANT LEAVING DEVICE WITH ROLLER例文帳に追加

混成集積回路装置の製造方法およびローラーを有したエッチング液残留装置。 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION FOR FORMING METAL WIRING FOR THIN-FILM TRANSISTOR LIQUID DISPLAY DEVICE例文帳に追加

薄膜トランジスタ液晶表示装置用金属配線形成のためのエッチング液組成物 - 特許庁

A part of an etchant circulated in a circulation channel flows into the retention part of a detecting tube 24.例文帳に追加

循環路を循環するエッチング液の一部は検知管２４の滞留部に流れ込む。 - 特許庁

GLASS ETCHANT LIQUID, GLASS ETCHING METHOD, GLASS SUBSTRATE FOR FLAT PANEL DISPLAY AND FLAT PANEL DISPLAY例文帳に追加

ガラスエッチング液、ガラスエッチング方法、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びフラットパネルディスプレイ - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION FOR ITO FILM, AND METHOD OF ETCHING ITO FILM USING THE SAME例文帳に追加

ＩＴＯ膜用のエッチング液組成物、および、それを利用したＩＴＯ膜のエッチング方法 - 特許庁

As an etchant for a TiW film 4, a solution having an ionization tendency Al>TiW>CrSi is used.例文帳に追加

また、ＴｉＷ膜４のエッチング液として、イオン化傾向がＡｌ＞ＴｉＷ＞ＣｒＳｉとなる溶液を用いる。 - 特許庁

An etching pot 1 is constituted, in such a way that the pot 1 can be filled up with an etchant, and at the same time, can support a silicon wafer 4 on its bottom with the surface to be worked of the wafer 4 upward so that the surface is covered with the etchant.例文帳に追加

エッチングポット１には、内部にエッチング液が満たされるとともに、底面部にシリコンウエハ４が支持され、上向きのシリコンウエハ４の被加工面がエッチング液にて覆われる。 - 特許庁

The etchant contains: nitric acid or sulfuric acid; hydrogen peroxide; and water, wherein the etchant has a composition containing a polymer having a repeated unit selected from formula (I) and formula (III).例文帳に追加

硝酸又は硫酸と、過酸化水素と、水とを含むニッケルのエッチング液において、下記式（I）及び下記式（ＩＩＩ）から選択される繰り返し単位を有する重合体を含む組成とする。 - 特許庁

To provide silicon wafer etchant maintaining high electrical insulating characteristics of a silicon wafer after etching, while impurity metal hardly remains on the silicon wafer even after repeated use of the etchant.例文帳に追加

繰り返し使用した後もシリコンウェハー上に金属不純物分が残留し難く、エッチング後のシリコンウェハーの高い電気絶縁特性を維持することができるシリコンウェハーエッチング液を提供する。 - 特許庁

The processing includes the preparation of etchant containing both of a fluorine compound and a chlorine compound and the application to the semiconductor device of the etchant in a wet washing process.例文帳に追加

この処理は、フッ素化合物と塩素化合物の両方を含むエッチング液を用意することと、ウエット洗浄工程においてこのエッチング液を半導体デバイスに適用することとを含む。 - 特許庁

A substrate having grain boundary on which the resist is coated is placed in an etching area inside a chamber, and a process gas containing a first etchant, a second etchant and xenon is introduced into the etching area.例文帳に追加

結晶粒界を有しレジストを塗布した基板をチャンバー内のエッチング領域に置き、１次エッチャント、２次エッチャント及びキセノンを備えたプロセスガスをエッチング領域に導入する。 - 特許庁

Next the second etchant that may be the same as the defect etchant or different from it is used to corrode the SiGe layer 14 under the pit while Si 16 is kept unhurt.例文帳に追加

次いで、欠陥エッチング液と同じか異なるものとすることができる第２のエッチング液を用いて、ピットの下のＳｉＧｅ層１４を浸食する一方で、Ｓｉ１６は無傷のままとする。 - 特許庁

To provide an etchant which does not produce a silver residue when etching silver or a silver alloy, and does not vary an etching rate even when the etchant is repeatedly used, and to provide an etching method.例文帳に追加

銀又は銀合金をエッチングする際に銀残渣を発生させず、しかもエッチング液を繰り返して使用してもエッチング速度が変化しないエッチング液及びエッチング方法を提供する。 - 特許庁

In a bevel-etching apparatus, a nozzle 3 that sucks and discharges etchant and a receptacle 5 for recovering etchant are integrated; and when the bevel portion 2 of a wafer is etched, the etchant is received by the receptacle 5, and recycled and measured and discharged to a predetermined place by the nozzle 3, and then the nozzle and the receptacle are cleaned automatically.例文帳に追加

エッチング液を吸引、吐出するノズルとエッチング液を受ける皿とを合体して、エッチング液を捕捉し、ウエハのベベル部をエッチングした後にエッチング液をノズルが回収計量して指定場所に液を吐出しノズルと受皿を自動洗浄することを特徴とする。 - 特許庁

When such a multilayer film is immersed in an etchant for dissolving the Mo layers 3, since the etchant infiltrates, while successively dissolving the Mo layers 3 from the layer on the surface side, the Mo/Si multilayered film can be peeled off in a very short period of time, even if an etchant that does not dissolve the Si layers is used 4.例文帳に追加

このような多層膜を、Mo層３を溶かすエッチング液に浸漬すると、表面側の層から順にMo層３を溶かしながらエッチング液が侵入して行くので、Si層４は溶かさないエッチング液を用いても、ごく短時間でMo/Si多層膜を剥離することが可能になる。 - 特許庁

Gas, such as air, containing oxygen or the oxygen is blown into the etchant in order to increase the diffusion rate of the components at the reaction boundary of the lead-containing copper alloy material and the etchant during immersion and to prevent the readhesion of the copper alloy to the treated surface, by which the etchant is stirred.例文帳に追加

浸漬中、鉛含有銅合金材とエッチング液との反応界面での成分の拡散速度を大きくすることと、処理面への鉛化合物の再付着を防止することを目的に、エッチング液に空気等の酸素を含む気体又は酸素を吹込み、撹拌する。 - 特許庁

A treatment tank having a hydrometer, a diluted-solution- supplying means and a metal (ferrous)-ion-detecting means is provided to a pipe which connects a spray means for spraying the etchant onto the material to be etched to a storage part for storing the etchant running down the surface of the material to be etched and circulates the etchant.例文帳に追加

エッチング液を被エッチング材に吹き付けるスプレー手段と被エッチング材の表面から流れ落ちるエッチング液を貯溜する貯溜部との間を結びエッチング液を循環させる配管に、比重計、希釈液供給手段及び金属（第一鉄）イオン検出手段を備えた処理槽を介設する。 - 特許庁

To provide an apparatus which can be prevented from being broken by the leakage or the splashing of an etchant caused by abnormal decomposition of hydrogen peroxide in the etchant when etching a substrate having a metallic layer containing copper by the etchant containing hydrogen peroxide solution.例文帳に追加

過酸化水素水を含むエッチング液により銅を含む金属層を有する基板をエッチング処理する場合に、エッチング液中の過酸化水素の異常分解が原因となってエッチング液の漏洩や飛散が起こり装置が破損することを防止できる装置を提供する。 - 特許庁

Therefore, it is not required to form any etchant introducing groove on the surface of the glass substrate 101.例文帳に追加

したがって、ガラス基板１０１表面に、エッチャント導入用の溝を形成する必要がない。 - 特許庁

Since the thin film 27 can avoid being exposed to an etchant, the variation of the thin film 27 can be suppressed.例文帳に追加

誘電体薄膜２７をエッチャントに晒さずに済むので、そのばらつきを抑えることができる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for controlling etchant gas concentration in an etching chamber.例文帳に追加

エッチング室におけるエッチャント・ガス濃度を制御するための方法および装置を提供すること。 - 特許庁

The method may be practiced in any of a number of apparatuses adapted to expose polysilicon to a plasma etchant.例文帳に追加

本発明は、ポリシリコンをプラズマエッチング剤に晒す多くの装置で実行することが出来る。 - 特許庁

The etchant composition further has a composition including any of hydrochloric acid, phosphoric acid, sulfuric acid and nitric acid as the inorganic acid.例文帳に追加

さらに、無機酸として、塩酸、リン酸、硫酸、硝酸のいずれかを含む組成とする。 - 特許庁