etchantを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 968件
At the same time, the convection of etchant can be suppressed.例文帳に追加
同時にエッチング液の対流も抑制することができる。 - 特許庁
ETCHANT FOR CONDUCTIVE FILMS, AND METHOD OF ETCHING CONDUCTIVE FILM例文帳に追加
導電膜用エッチング液および導電膜のエッチング方法 - 特許庁
ETCHANT COMPOSITION FOR METAL THIN FILM CONTAINING COPPER AS MAIN COMPONENT例文帳に追加
銅を主成分とする金属薄膜のエッチング液組成物 - 特許庁
ETCHANT COMPOSITION FOR MULTIPLE FILM AND ETCHING METHOD FOR THE SAME例文帳に追加
多重膜のエッチング液組成物及びそのエッチング方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD USING COPPER ETCHANT例文帳に追加
銅のエッチング液を用いたプリント配線板の製造方法 - 特許庁
The first etchant supply part 211 supplies an amount of the etchant, which removes a surface layer portion of the coating layer, to the coating layer.例文帳に追加
第一給液部211は、被覆層の表層部分を除去可能な量のエッチング液を被覆層に供給する。 - 特許庁
Consequently, when both the semiconductor wafers 1 are dipped in an etchant, the etchant does not come into contact with the non-etching surfaces 1b.例文帳に追加
このため、両半導体ウエハ1をエッチング液に浸漬した場合にエッチング液が非エッチング面1bに接触しない。 - 特許庁
The apparatus has a rotatable spin head on which a substrate is positioned; an etchant supply means that is located above the substrate and sprays the etchant onto the substrate; and an etchant supply controller that controls the etchant supply.例文帳に追加
本発明によるこの装置は、基板が置かれる回転可能なスピンヘッドと、基板の上部に位置し、基板上にエッチング液を噴射するエッチング液供給手段と、エッチング液供給を制御するエッチング液供給制御器を具備している。 - 特許庁
ETCHANT/RUST PREVENTIVE AGENT, WIRING BOARD, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
エッチング剤兼防錆剤、配線用基板及びその製造方法 - 特許庁
To satisfactorily flatten the surface of a substrate by using an etchant.例文帳に追加
エッチング液を用いて基板の表面を良好に平坦化する。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR REGENERATING ACIDIC ETCHANT例文帳に追加
酸性エッチング液再生方法及び酸性エッチング液再生装置 - 特許庁
In parallel with the supply of the etchant, the wafer is rotated.例文帳に追加
このエッチング液の供給と並行して、ウエハが回転される。 - 特許庁
ETCHANT COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTOR PLATE USING THE SAME例文帳に追加
エッチング液組成物とそれを用いた反射板の製造方法 - 特許庁
An aqueous solution containing an oxalic acid and a fluorochemical surfactant is used as an etchant (etchant composition for conductive film).例文帳に追加
シュウ酸と、フッ素系界面活性剤とを含有する水溶液をエッチング液(導電膜用エッチング液組成物)として用いる。 - 特許庁
Upon lapse of the prescribed time, the display panel is pulled up from an etchant of the etching vessel, and the etchant is removed (step S53).例文帳に追加
そして、所定時間が経過すると、表示パネルをエッチング槽のエッチング液から引き上げ、エッチング液を除去する(ステップS53)。 - 特許庁
THIN-FILM SOLAR CELL AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND ETCHANT例文帳に追加
薄膜太陽電池およびその製造方法ならびにエッチング液 - 特許庁
ETCHANT FOR TUNGSTEN-BASED METAL AND REMOVING METHOD FOR SAME METAL例文帳に追加
タングステン系金属のエッチング液および同金属の除去方法 - 特許庁
The etchant composition comprises phosphoric acid, nitric acid, lactic acid and water.例文帳に追加
りん酸、硝酸、乳酸、および水からなるエッチング液組成物。 - 特許庁
As the etchant, a potassium hydroxide (KOH) may be used.例文帳に追加
エッチング液として、水酸化カリウム(KOH)を用いることができる。 - 特許庁
Part of this device would be an etchant gas source and an exhaust port.例文帳に追加
この装置の一部は、エッチング用ガス源および排気口である。 - 特許庁
This is to provide an improved version of a silicon wafer etching method in which an acid etchant and an alkaline etchant are individually stored in a plurality of tanks, and a silicon wafer having a process modified layer formed through a lapping process and a subsequent cleaning process is sequentially immersed in the acid etchant and the alkaline etchant.例文帳に追加
複数のエッチング槽に酸エッチング液とアルカリエッチング液をそれぞれ貯え、ラッピング工程に続いて洗浄工程を経た加工変質層を有するシリコンウェーハを酸エッチング液とアルカリエッチング液とに順次浸漬するシリコンウェーハのエッチング方法の改良である。 - 特許庁
To provide a method of forming a gate electrode, having a vertical side shape by overetching films etched by a first etching step by using a mixed etchant of a fluorine etchant and a chlorine etchant.例文帳に追加
フッ素系エッチャントと塩素系エッチャントとの混合エッチャントを用いて第1エッチングステップを過度エッチングすることによって垂直した側面形状を有するゲート電極を製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide an etchant regeneration system capable of regenerating an etchant so that the content of a dissolved substance in an etchant in a processing tank where etching processing is carried out is precisely controlled to a constant value.例文帳に追加
エッチング処理が行われる処理槽内のエッチング液中の溶存物質の含有量が精度良く一定にコントロールされるようにエッチング液を再生できるエッチング液再生システムを提供すること。 - 特許庁
Alkali permanganic acid etchant is kept in an etching tank 10, and an etched material is etched by the use of alkali permanganic acid etchant.例文帳に追加
エッチング槽10には、アルカリ過マンガン酸エッチング液が収容され、アルカリ過マンガン酸エッチング液を用いて被エッチング材をエッチングする。 - 特許庁
ETCHANT COMPOSITION AND MANUFACTURING METHOD FOR THIN FILM TRANSISTOR ARRAY PANEL例文帳に追加
エッチング液組成物及び薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - 特許庁
TREATMENT OF WASTE FERRIC CHLORIDE ETCHANT AND ITS REGENERATION METHOD例文帳に追加
塩化第二鉄エッチング廃液の処理方法及びその再生方法 - 特許庁
ETCHANT FOR SILICON SUBSTRATE, AND SURFACE PROCESSING METHOD FOR SILICON SUBSTRATE例文帳に追加
シリコン基板のエッチング液およびシリコン基板の表面加工方法 - 特許庁
ETCHANT FOR GaInP SYSTEM COMPOUND SEMICONDUCTOR AND ETCHING METHOD例文帳に追加
GaInP系化合物半導体用エッチング液およびエッチング方法 - 特許庁
An etching device comprises a crystal blank support device 1 and an etchant discharging device 3 for pouring etchant on a crystal blank 2.例文帳に追加
水晶のブランクの支持装置1と、水晶のブランク2の上にエッチング液を浴びせるためのエッチング液放出装置3とから構成する。 - 特許庁
In another version, an acidic etchant is used to remove the layer.例文帳に追加
他の態様において、酸性エッチング液を用いて層を除去する。 - 特許庁
COLORING ETCHANT FOR OBSERVING MICROSTRUCTURE OF STEEL, AND ETCHING METHOD例文帳に追加
鋼のミクロ組織観察用着色エッチング液およびエッチング方法 - 特許庁
ETCHANT FOR CONDUCTIVE FILM AND MANUFACTURING METHOD OF CONDUCTIVE FILM PATTERN例文帳に追加
導電膜用エッチング液および導電膜パターンの製造方法 - 特許庁
ETCHANT COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING ARRAY SUBSTRATE USING THE SAME例文帳に追加
エッチング液組成物及びこれを利用したアレイ基板の製造方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SHADOW MASK, AND ETCHANT FILTERING DEVICE FOR SHADOW MASK例文帳に追加
シャドウマスクの製造方法及びシャドウマスク用のエッチング液ろ過装置 - 特許庁
This etchant contains hydrosilicofluoric acid, water and hydrosilicofluoric acid salt.例文帳に追加
珪フッ化水素酸、水、及び珪フッ化水素酸塩を含有するエッチング液。 - 特許庁
A first etchant is an aqueous solution containing hydrochloric acid and nitric acid.例文帳に追加
第1のエッチング液は、塩酸と、硝酸とを含む水溶液とする。 - 特許庁
In performing etching, an etchant which has been refrigerated to have a temperature of 15°C or below is used.例文帳に追加
エッチングは15℃以下に冷却したエッチング液が使用される。 - 特許庁
Afterwards, the sacrifice layer 99 is removed with XeF_2 as an etchant.例文帳に追加
その後にXeF_2をエッチェントとして犠牲層99を除去する。 - 特許庁
The etching stop layer 11 is formed of a material which is etched with a first etchant at an etching speed slower than the etching speed of the diffusion source layer 12 for the first etchant and etched with a second etchant at an etching speed faster than the etching speed of the contact layer 10 for the second etchant.例文帳に追加
エッチングストップ層11を、第1エッチャントに対するエッチング速度が第1エッチャントに対する拡散源層12のエッチング速度よりも遅く、かつ、第2エッチャントに対するエッチング速度が第2エッチャントに対するコンタクト層10のエッチング速度よりも速い材料で形成する。 - 特許庁
The high-purity phosphoric acid is useful as an etchant for a semiconductor device having a silicon nitride film, an etchant for a liquid crystal display panel with an alumina film, a metallic aluminum etchant, an alumina etchant for ceramics, a phosphate glass raw material for optical fiber glass, a food additive, etc.例文帳に追加
本発明の高純度リン酸は、窒化珪素膜を有する半導体素子のエッチング液、アルミナ膜を有する液晶ディスプレイパネルのエッチング液、金属アルミニウムエッチング液、セラミックス用アルミナエッチング液、光ファイバーガラス用リン酸ガラス原料、食品添加物等として有用である。 - 特許庁
First, a high-breakdown voltage gate oxide film 2 is etched with an anisotropic wet etchant using a high-breakdown voltage gate electrode 3 as a mask, and then is etched with an isotropic etchant.例文帳に追加
高耐圧部ゲート電極3をマスクとして高耐圧部ゲート酸化膜2を最初は異方性、次いで等方性ウエットエッチでエッチングする。 - 特許庁
ETCHANT COMPOSITION AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加
エッチング剤組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
ETCHING OF MATERIAL USING HARD MASK AND PLASMA ACTIVATING ETCHANT例文帳に追加
ハ—ドマスクおよびプラズマ活性化エッチャントを使用した材料のエッチング方法 - 特許庁
To provide an etchant and an etching method leaving no bubble of the etchant and no etching residues resulting from the etchant, after an etching and being capable of etching a transparent conductive film with good timing, in the etching of the transparent conductive film.例文帳に追加
透明導電膜のエッチングにおいて、エッチング後、エッチング液の泡およびエッチング剤に由来するエッチング残渣を全く残さず、ジャストタイムでエッチングすることができるエッチング液およびエッチング方法を提供すること。 - 特許庁
LIQUID CHEMICAL DEVICE, ETCHING DEVICE, AND METHOD OF MANAGING CONCENTRATION OF ETCHANT例文帳に追加
薬液装置およびエッチング装置ならびにエッチング液濃度の管理方法 - 特許庁
To provide an etchant composition of an organic light emitting diode display device.例文帳に追加
有機発光ダイオード表示装置のエッチング液組成物を提供する。 - 特許庁
ETCHANT, REPLENISHMENT SOLUTION AND METHOD FOR PRODUCING COPPER WIRING USING THE SAME例文帳に追加
エッチング剤と補給液及びこれを用いた銅配線の製造方法 - 特許庁
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