「etchant」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The etchant E runs around to a circumferential end face of the wafer W, reaching a peripheral part of the active face.例文帳に追加

このエッチング液Ｅは、ウエハＷの周端面を回りこんで、活性面の周縁部に至る。 - 特許庁

The wet etchant is an aqueous solution containing phosphoric acid, nitric acid, organic acid, and further cations.例文帳に追加

リン酸、硝酸、有機酸、さらには陽イオン成分を含有する水溶液からなるウエットエッチング液。 - 特許庁

This etchant composition contains phosphoric ester salt containing a perfluoroalkyl group, an oxalic acid, and water.例文帳に追加

パーフルオロアルキル基含有リン酸エステル塩、シュウ酸、および水を含有するエッチング液組成物とする。 - 特許庁

By an etching operation using an alkali silicon anisotropic etchant, a slit 1d is formed.例文帳に追加

その後、アルカリのシリコン異方性エッチング液を用いたエッチングによってスリット１ｄを形成する。 - 特許庁

To provide a nickel etchant which can suppress the corrosion of metal other than nickel, particularly that of copper.例文帳に追加

ニッケル以外の金属、特に銅の浸食を抑制できるニッケルのエッチング液を提供する。 - 特許庁

ETCHANT, THIN FILM TRANSISTOR ARRAY SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM TRANSISTOR ARRAY SUBSTRATE, AND DISPLAY UNIT例文帳に追加

エッチング液、薄膜トランジスタ・アレイ基板、薄膜トランジスタ・アレイ基板の製造方法および表示装置 - 特許庁

The uniform etching is performed by spraying the etchant to the area where there is no liquid pool.例文帳に追加

この液溜まりの無い区域にエッチング液を吹きつけることにより、均一なエッチングが行なわれる。 - 特許庁

The part passing through the bonding interface in the contact hole is not corroded by an etchant.例文帳に追加

コンタクトホールにおける貼り合わせ界面を貫通する個所は、エッチング液により浸食されていない。 - 特許庁

The process to spray the etchant 20 is performed while the base substrate 10 is carried to the diagonal upper direction.例文帳に追加

エッチング液２０を噴射する工程を、ベース基板１０を斜め上方に搬送しながら行う。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding material which is not damaged by etchant or plating liquid.例文帳に追加

エッチング液又はメッキ液によるダメージのない電磁波シールド材を提供することを目的とする。 - 特許庁

Defect etchant having high defect selectivity for Si 16 is used in this method.例文帳に追加

この方法は、Ｓｉ１６において高い欠陥選択性を有する欠陥エッチング液を用いる。 - 特許庁

ETCHANT AND REPLENISHMENT SOLUTION THEREFOR, AND ETCHING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING WIRING BOARD USING THE SAME例文帳に追加

エッチング液、その補給液、それらを用いるエッチング方法及び配線基板の製造方法 - 特許庁

In this state, an etchant 50 is dripped from a nozzle 10 installed at the position where the etchant 50 is dripped on an inner peripheral end of an upper surface of a rib portion 4 on the lower surface side of the rib wafer 100.例文帳に追加

そして、この状態で、リブウェハ１００の裏面側のリブ部４の表面の内周端部にエッチング液５０を滴下する位置に設置されたノズル１０から、エッチング液５０を滴下する。 - 特許庁

The main controller compares the measurement results of the thickness measuring system with a reference value, and transfers the etchant supply stop signal to the etchant supply controller before the measurements reach the reference value.例文帳に追加

主制御器は厚さ測定システムで測定された結果を基準値と比較し、測定値が基準値に到達する前に、エッチング液供給制御器にエッチング液供給停止信号を伝達する。 - 特許庁

To provide an etchant which gives little load to the environment and shows excellent both effects of inhibiting wires of a conductor circuit from being thinned and inhibiting the under-cut, and to provide a method for manufacturing a wiring board by using the etchant.例文帳に追加

環境負荷が小さく、導体回路の配線細りの抑制効果と、アンダーカットの抑制効果とが共に優れたエッチング液、及び該エッチング液を用いた配線基板の製造方法を目的とする。 - 特許庁

To provide an etchant which does not produce a silver residue when etching silver or a silver alloy, and does not change an etching rate even when the etchant has been repeatedly used, and to provide an etching method using the same.例文帳に追加

銀又は銀合金をエッチングする際に銀残渣を発生させず、しかもエッチング液を繰り返して使用してもエッチング速度が変化しないエッチング液及びそれを用いたエッチング方法を提供する。 - 特許庁

The method also includes: flowing the etchant gas mixture into the plasma processing chamber; irradiating the substrate with a second plasma from the etchant gas mixture; and etching the substrate with the second plasma.例文帳に追加

また該方法は、プラズマ処理チャンバ内にエッチングガス混合物を流入させる工程、エッチングガス混合物からの第二プラズマを照射する工程、第二プラズマにより基板をエッチングする工程、を含む。 - 特許庁

To provide an etchant composition which secures the stability of the etchant, and guarantees a margin in an etching process to reduce the cost, and to provide a method for manufacturing an array substrate using the same.例文帳に追加

エッチング液の安定性を確保しエッチング工程上のマージンを保障して費用を節減することができるエッチング液組成物及びこれを利用したアレイ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The gold and/or nickel are etched with the etchant prepared by adding an inorganic acid or a solid organic acid at ordinary temperature and/or an organic solvent into an iodine based etchant and controlling the blending ratio of each component.例文帳に追加

ヨウ素系エッチング液において、無機酸または常温で固体の有機酸、および／または有機溶剤を加えて、各成分の配合比を調節したエッチング液とし、金および／またはニッケルをエッチングする。 - 特許庁

Silicon nitride and/or silicon nitride oxide is etched by an etchant containing sulfuric acid, fluoride and water, and thereafter the etchant is heated and/or depressurized to remove a silicon compound produced by the etching.例文帳に追加

硫酸、フッ化物及び水を含有するエッチング液で窒化ケイ素及び／又は窒化酸化ケイ素をエッチングした後、このエッチング液を加熱及び／又は減圧して、エッチングにより生じたケイ素化合物を除去する。 - 特許庁

An aqueous solution containing oxalic acid, anionic surfactant which is a compound having a -SO_3 group in a molecule, and fluorochemical surfactant is used as an etchant (an etchant composition for a conductive film).例文帳に追加

シュウ酸と、分子中に−ＳＯ_3基を有する化合物である陰イオン性界面活性剤とフッ素系界面活性剤とを含有する水溶液をエッチング液（導電膜用エッチング液組成物）として用いる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for regenerating etchant containing oxalic acid capable of reducing the frequency of replacement of an entire amount of etchant containing oxalic acid.例文帳に追加

蓚酸含有エッチング液の全量交換の頻度を低減させることが可能な蓚酸含有エッチング液再生方法及び蓚酸含有エッチング液再生装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a device and method for etching treatment which can suppress the contact between an etchant within a treatment vessel and a gas outside the treatment vessel, and can sharply reduce the concentration change of etchant.例文帳に追加

処理槽内のエッチング液と処理槽外部の気体との接触を抑制することができ、エッチング液の濃度変化を大幅に低減させることができるエッチング処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The etchant composition contains the etchant for the transparent conductive film and one kind or two or more kinds of compounds, selected from among a group composed of a polysulfonic acid compound and a polyoxyethylene-polyoxypropylene block copolymer.例文帳に追加

透明導電膜用エッチング液と、ポリスルホン酸化合物及びポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックコポリマーからなる群から選択される１種または２種以上の化合物とを含有する、エッチング液組成物。 - 特許庁

To provide an etchant for a silicon wafer that sufficiently decreases an amount of contamination with metal ions even when the wafer has low specific resistance, and a method of manufacturing the silicon wafer using the etchant.例文帳に追加

比抵抗が低いウェーハであっても、金属イオンによる汚染量を十分に低減することが可能なシリコンウェーハ用エッチング液、及び該エッチング液を用いたシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

The apparatus for etching includes: a substrate supporting pedestal (210) for supporting the substrate (220); a spray nozzle (230) for spraying the etchant (240) over the substrate (220); and a suction unit (250) disposed at an outer peripheral edge of the substrate supporting pedestal (210) so as to accelerate the flow of the etchant (240) and collecting the etchant (240).例文帳に追加

本発明に係るエッチング装置は、基板（２２０）を支持する基板支持台（２１０）と、基板（２２０）にエッチング液（２４０）を噴射する噴射ノズル（２３０）と、エッチング液（２４０）の流れが促進されるように基板支持台（２１０）の外周縁に配置され、エッチング液（２４０）を回収する吸入器（２５０）と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

An electric field is generated within the etchant solution to cause an anisotropic etch pattern to form on a surface of the workpiece.例文帳に追加

エッチャント溶液内に電界が生成され、加工物の表面に異方性エッチング・パターンを形成させる。 - 特許庁

To provide a new alkali etchant and an alkali etching method for alkali-etching a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェーハのアルカリエッチングのための新規なアルカリエッチング液およびアルカリエッチング方法を提供する。 - 特許庁

Further the etchant contains at least one kind of phosphoric ions, nitrate ions, sulfate ions and oxalate ions.例文帳に追加

さらに、エッチング液には、リン酸イオン、硫酸イオンおよびシュウ酸イオンのうち少なくとも１種を配合する。 - 特許庁

When being patterned, the metal foil is lined with the peeling film and withstands injection pressure of an etchant.例文帳に追加

パターニングの際には金属箔は剥離フィルムによって裏打ちされており、エッチング液の噴射圧に耐える。 - 特許庁

To provide an etchant for a transparent conductive film that lessens production of residues during etching and has low foaming.例文帳に追加

エッチング時に残渣の発生が少なく、低発泡な透明導電膜用のエッチング液を提供する。 - 特許庁

To provide an etchant which ensures small side etch, little unevenness of an etched side face and small environmental load.例文帳に追加

サイドエッチが小さく、エッチング側面の凹凸が少なく、かつ環境負荷が小さいエッチング液を提供する。 - 特許庁

ETCHANT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THEM例文帳に追加

エッチング液及びそれを用いたパターン形成方法とそれらを用いた液晶表示装置の製造方法 - 特許庁

Finally, the peeling layer 10 is removed with a selective etchant, together with the end-face protective film adhering to the layer 10.例文帳に追加

その後、剥離層10上に付着した端面保護膜ごと剥離層10を選択エッチング液で除去する。 - 特許庁

The through-holes (103) allow an etchant to pass at least in a direction vertical to a surface of the substrate (11).例文帳に追加

貫通孔（１０３）が、エッチング液を少なくとも基板（１１）の面に垂直な方向に通過させる。 - 特許庁

The etchant composition further has a composition including any of an organic acid, an organic acid salt, an inorganic acid salt and an interfacial active agent.例文帳に追加

さらに、有機酸、有機酸塩、無機酸塩、界面活性剤のいずれかを含む組成とする。 - 特許庁

An exposed surface of the electrode pad PAD is constituted of a rough surface R roughened by an etchant.例文帳に追加

電極パッドＰＡＤ露出面がエッチング溶液により荒された粗面Ｒで構成されている。 - 特許庁

To provide a multilayer-film mirror that allows a multilayer film to be simply peeled off, using an etchant.例文帳に追加

エッチング液を用いて簡単に多層膜を剥離することが可能な多層膜反射鏡を提供する。 - 特許庁

To provide an etchant to easily and stably reproduce fine pyramidal recess-projection portions having excellent uniformity.例文帳に追加

均一性に優れた微細なピラミッド状凹凸部を容易に安定して再現するエッチング液を提供する。 - 特許庁

To provide an etchant which can easily and stably duplicate a fine pyramid-like concavo-convex portion with good uniformity.例文帳に追加

均一性に優れた微細なピラミッド状凹凸部を容易に安定して再現するエッチング液の提供。 - 特許庁

To provide an etchant composition for forming metal wiring for a thin-film transistor liquid display.例文帳に追加

薄膜トランジスタ液晶表示装置用の金属配線形成のためのエッチング液組成物を提供する。 - 特許庁

The plasma etchant is generated from a plasma source gas comprising: (i) at least one fluorine-containing gas, and (ii) oxygen.例文帳に追加

プラズマエッチング剤は、(i)少なくとも１つのフッ素含有ガスと、(ii)酸素からなるプラズマ源ガスから、発生する。 - 特許庁

To provide a method for efficiently regenerating an etchant by enhancing the effective use rate of hydrogen peroxide.例文帳に追加

過酸化水素の有効使用率を高め、効率的にエッチング液を再生する方法を提供する。 - 特許庁

A chemical liquid 9 containing an etchant is supplied from a nozzle 8 onto the substrate 11.例文帳に追加

基板１１を回転させながら、ノズル８からエッチャントを含む薬液９を基板１１上に供給する。 - 特許庁

The etchant can be used at an external temperature without damaging a metal element on the substrate surface.例文帳に追加

エッチング液は、基体表面上の金属要素を傷つけることなく、外界温度で使用可能である。 - 特許庁