「etchant」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an etching apparatus which unifies the flow rate of an etchant on the surface of a substrate when etching the substrate by supplying the etchant onto the surface of the substrate supported in a tilted state.例文帳に追加

基板を傾斜姿勢に支持し基板表面へエッチング液を供給して基板をエッチング処理する場合に、基板の表面上におけるエッチング液の流速を均一にすることができる装置を提供する。 - 特許庁

Since the specific gravity is detected from the hydraulic pressure of the etchant which is circulated as mentioned above, its spcific gravity can be detected with accuracy in real time, without being affected by bubbles even if they are produced in the etchant.例文帳に追加

上記のように循環しているエッチング液の液圧から比重を検出するため、エッチング液中に泡が発生していても泡の影響を受けることなく、その比重をリアルタイムで精度良く検出することできる。 - 特許庁

The method for controlling a dampening water for a lithographic printing plate obtained by diluting an etchant comprises the steps of previously incorporating potassium ion of a predetermined concentration in the etchant, detecting the ion concentration of the water, and controlling supplies of the etchant and the water so that the ion concentration is maintained at a concentration of a predetermined range, thereby controlling the etchant concentration in the water.例文帳に追加

エッチ液を水で希釈して得られる平版印刷版用湿し水の管理方法であって、予めエッチ液中に一定濃度のカリウムイオンを含有させておき、湿し水中のカリウムイオン濃度を検出し、該カリウムイオン濃度が一定範囲内の濃度に維持されるようにエッチ液及び水の供給を制御することにより、湿し水中のエッチ液濃度を管理することを特徴とする平版印刷版用湿し水管理方法により、上記課題を解決する。 - 特許庁

The nozzle 4 for supplying the etchant to a work surface to be treated includes a nozzle body 41 constituted of an internal tube 412 having a delivery outlet for delivering the etchant and an external tube 411 having a suction inlet for sucking the etchant delivered from the delivery outlet, and a heating means 42 for allowing the etchant, which is delivered from the delivery outlet at prescribed time and supplied to the surface to be treated, to have a temperature gradient.例文帳に追加

ワークの被処理面にエッチング液を供給するノズル４は、エッチング液を送出する送出口を有する内管４１２および送出口から送出されたエッチング液を吸引する吸引口を有する外管４１１とから構成されるノズル本体４１と、所定時刻に送出口から送出され被処理面に供給されるエッチング液に温度勾配を設けることのできる加熱手段４２とを有する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel, formed by using a polycrystalline ITO film as a protective film from a hydrofluoric acid based etchant.例文帳に追加

多結晶ＩＴＯ膜をフツ酸系エツチヤントに対する保護膜として使用した液晶表示パネルを得る。 - 特許庁

The copper etchant contains at least ammonium oxalate, hydrogen peroxide and amino acid and has 6.0 to 8.5 pH.例文帳に追加

少なくとも蓚酸アンモニウム、過酸化水素、及びアミノ酸を含有し、ｐＨが６．０〜８．５である銅エッチング液。 - 特許庁

The silicon wafer is etched using the etchant containing diethylenetriamine pentaacetic acid (DTPA) in an alkali solution.例文帳に追加

アルカリ溶液中にジエチレントリアミン５酢酸（ＤＴＰＡ）を含有するエッチング液を用いて、シリコンウェーハのエッチングを行う。 - 特許庁

The normalized value is compared with a predetermined response value and the flow of etchant gas into the chamber is controlled in response thereto.例文帳に追加

正規化された値を所定の応答値と比較し、それに応じて室へのエッチャント・ガスのフローを制御する。 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION, METHOD OF FORMING METAL PATTERN USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM TRANSISTOR DISPLAY PANEL例文帳に追加

エッチング液組成物、これを用いた金属パターンの形成方法及び薄膜トランジスタ表示板の製造方法 - 特許庁

The normalized value is compared with a predetermined response value, and depending on the comparison result, the flow of etchant gas into the chamber is controlled.例文帳に追加

正規化された値を所定の応答値と比較し、それに応じて室へのエッチャント・ガスのフローを制御する。 - 特許庁

ZINC OXIDE-BASED THIN FILM TRANSISTOR, METHOD OF FABRICATING THE SAME, ZINC OXIDE ETCHANT, AND METHOD OF FORMING THE SAME例文帳に追加

Ｚｎ酸化物系薄膜トランジスタとその製造方法、及びＺｎ酸化物のエッチング溶液とその製造方法 - 特許庁

The defect etchant etches Si 16 to a thickness for a defect pit 18 to reach the SiGe layer 14 located under the Si 16.例文帳に追加

Ｓｉ１６を、欠陥ピット１８が下に位置するＳｉＧｅ層１４に到達可能な厚さまでエッチングする。 - 特許庁

An azole compound having a benzene ring is incorporated into an etchant containing iron (III) chloride and oxalic acid.例文帳に追加

塩化鉄（III）およびシュウ酸を含有するエッチング液に、さらにベンゼン環を有するアゾール化合物を含有せしめる。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF ELECTRON EMITTING ELEMENT, ELECTRON SOURCE, DISPLAY ELEMENT, IMAGING DEVICE, AND ETCHANT FOR PLATINUM MATERIAL例文帳に追加

電子放出素子、電子源、表示素子及び画像形成装置の製造方法並びに白金材料用エッチング液 - 特許庁

The waste ferric chloride liq. etchant consists essentially of ferric chloride and contains hydrochloric acid.例文帳に追加

処理対象となる塩化第二鉄エッチング廃液は塩化第二鉄が主成分でありかつ塩酸を含むものである。 - 特許庁

The etchant is based on a mixture mainly comprising sulfuric acid, nitric acid, and acetic acid.例文帳に追加

本発明のエッチング液は、硫酸、硝酸、酢酸を主成分とする混合液でベースとなるエッチング液を作製する。 - 特許庁

To provide an alkali etchant which suppresses the degradation of the global flatness of a wafer and can reduce enough its glossiness.例文帳に追加

グローバル平坦度の劣化を抑え、かつウェーハの光沢度を充分に低下させ得るアルカリエッチャントを提供する。 - 特許庁

To provide an etchant for forming a textured polycrystalline silicon semiconductor with reduced reflectance of incident light.例文帳に追加

入射光反射率が低減した多結晶シリコン半導体テクスチャを形成するためのエッチング液を提供する。 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION FOR POLISHING SEMICONDUCTOR WAFER, MANUFACTURING METHOD OF POLISHING COMPOSITION USING SAME, AND POLISHING METHOD例文帳に追加

半導体ウエハ研磨用エッチング液組成物、それを用いた研磨用組成物の製造方法、及び研磨加工方法 - 特許庁

To provide an etchant, for a transparent conductive film, in which a foaming property is suppressed and by which residues will not be generated, after etching operation.例文帳に追加

発泡性が抑えられかつエッチング後の残渣を生じない、透明導電膜用エッチング液を提供する。 - 特許庁

After prescribed treatment, consequently, the fixed quantity of etchant E is stored in the tank 80 and, at the time of performing treatment on wafers W thereafter, the stored etchant E can be supplied to the treating tank 10 and used for the treatment together with a new etchant E supplied from the supplying means 40 to the tank 10.例文帳に追加

これにより、所定の処理後、処理槽１０から排液されるエッチング液Ｅの一部の定量を定量貯留タンク８０に貯留し、以後の処理に際して、定量貯留タンク８０に貯留されたエッチング液Ｅと、供給手段４０からの新規エッチング液Ｅとを処理槽１０内に供給してウエハＷの処理を行うことができる。 - 特許庁

To provide an etching device for wet-etching a silicon substrate which is arranged to suppress the decrease in the etching rate resulting from the decrease in the oxidation-reduction potential of an etchant, and the deterioration in the in-plane uniformity of the amount of etching owing to the reduction in the circulating flow rate of the etchant.例文帳に追加

シリコン基板をウエットエッチングするエッチング装置において、エッチング液の酸化還元電位の低下によるエッチングレートの低下や、エッチング液の循環流量の低下によるエッチング量の面内均一性の低下を抑制する。 - 特許庁

When the specific gravity of the etchant exceeds a set value, pure water is supplied from the diluted- solution-supplying means into the above treatment tank and the specific gravity of the etchant is returned to a value within the predetermined set range and the specific gravity can be substantially fixed.例文帳に追加

エッチング液の比重が設定値を越えると、前記処理槽内に希釈液供給手段から純水が供給され、エッチング液の比重が予め定めた設定範囲に戻され、比重が実質固定される。 - 特許庁

To provide a method for regenerating an etchant, which can regenerate the etchant with improved security, by solving such problems as irritating odor and corrosion around the apparatus, and by reducing quantity of waste water, and to provide an etching apparatus which incorporates the regenerating method.例文帳に追加

刺激臭や装置周辺の腐食の問題を解決して、廃液量を減らし、安全性を向上してエッチング液を再生することができるエッチング液の再生方法と、この再生方法を組み込んだエッチング装置を提供する。 - 特許庁

The wet etching apparatus comprises the etching bath 1 wherein an etchant 11 is stored, a stirring member 2 which is disposed inside the etching bath 11 to agitate the etchant 11, and a power portion 3 for feeding rotative power to the stirring member 2.例文帳に追加

エッチング液１１が貯留されるエッチング槽１と、エッチング槽１１内に配置され、且つ、エッチング液１１を攪拌する攪拌部材２と、攪拌部材２に回転動力を付与する動力部３とを備えたウェットエッチング装置を用いる。 - 特許庁

In the manufacturing method of the etching foil for the electrolytic capacitor for chemically and/or electrochemically etching an aluminum foil in an etchant containing at least chlorine ions, ethylene diamine tetraacetate or its salt is added to the etchant.例文帳に追加

少なくとも塩素イオンを含むエッチング液中で、アルミニウム箔に化学的または／および電気化学的なエッチングを行う電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法において、エッチング液にエチレンジアミン四酢酸またはその塩を添加する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a liquid crystal display panel, with which the liquid crystal display panel can be efficiently manufactured by preventing infiltration of an etchant liquid in a liquid crystal display cell, in the manufacturing method where a substrate is immersed in the etchant and made thin.例文帳に追加

エッチング液に浸すことにより基板を薄くする製造方法において、液晶表示セルにエッチング液が進入することを防止して、効率よく製造が行なえる液晶表示パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To accurately monitor the degree of progress of an etching process, set the etching time of each vessel to the adequate condition in accordance with an increase in the impurity concentration of an etchant, improve the accuracy of the etching process, and effectively utilize the etchant.例文帳に追加

エッチングの進行度合いを正確に監視して、エッチング液の不純物濃度の増大に応じて、各槽でのエッチング時間を適正な状態に設定でき、エッチング処理の精度を向上させ、かつエッチング液を有効に活用する。 - 特許庁

The method further includes adjusting the amount of the etchant held in the conveying rollers so that the adhesion of the etchant to a second surface of the other surface of the glass substrate on which the thin film is formed in the manufacturing process of the electronic devices.例文帳に追加

本発明では、電子デバイスの製造過程において薄膜が形成されるガラス基板の他方の面である第２面に、エッチャントが付着することが抑制されるように、搬送ローラに保持されるエッチャント量を調整する。 - 特許庁

To provide a device and method for treating a substrate, individually recovering an etchant and a rinse agent even when the etchant is supplied onto the substrate in a liquid film-like form, and thereafter the substrate is subjected to rinse treatment.例文帳に追加

基板上にエッチング液を液膜状に供給した後に、この基板をリンス処理する場合においても、エッチング液とリンス液とを個別に回収することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

In the substrate processing method, a first nozzle supplies an etchant to the center of a rotating substrate, and a second nozzle supplies an etching disturbing fluid, diluting the concentration of the etchant, at a position apart from the center of the substrate.例文帳に追加

本発明による基板処理方法は、第１ノズルが回転する基板の中心にエッチング液を供給し、第２ノズルが基板の中心から離れた位置で前記エッチング液の濃度を希釈するエッチング妨害流体を供給する。 - 特許庁

The blowing pressure of the gas prevents the etchant spouted out of the 2nd washing liquid supply nozzles 331 and 351 from scattering to the center of the wafer, and the etchant is spouted to the outside the wafer w.例文帳に追加

このガスの吐出圧によって、第２洗浄液供給ノズル３３１，３５１から吐出されたエッチング液がウエハＷの中心部に飛び散るのが防止されるとともに、吐出後のエッチング液がウエハＷの外側に吐き出される。 - 特許庁

In the method for manufacturing an electrode foil for the electrolytic capacitor to be chemically or/and electrochemically etched on an aluminum foil in etchant at least containing chlorine ion, 0.001-0.1 wt.% of agar is added to the etchant.例文帳に追加

少なくとも塩素イオンを含むエッチング液中で、アルミニウム箔に化学的または／および電気化学的にエッチングする電解コンデンサ用電極箔の製造方法において、前記エッチング液に０．００１〜０．１０ｗｔ％の寒天を添加する。 - 特許庁

This method comprises decreasing the copper foil thickness to 30%-60% of an original thickness with a cupric chloride etchant at first, and further etching it with the alkali persulfate etchant to decrease the thickness to 5%-75% of the original thickness.例文帳に追加

先ず塩化第二銅系エッチング液を用いて元の銅箔厚みに対して３０％〜６０％の厚みにした後、過硫酸アルカリ塩エッチング液を用いて更にエッチングを行い、銅箔の厚さを元の５％〜７５％にする。 - 特許庁

To provide etchant preparation equipment for preparing an etchant of aluminum with constant concentrations of nitric acid, moisture, phosphoric acid and acetic acid in a use site of a semiconductor manufacturing factory and a flat panel display manufacturing factory.例文帳に追加

半導体製造工場やフラットパネルディスプレイ製造工場の使用側において、アルミニウムのエッチング液の硝酸濃度、水分濃度、燐酸濃度および酢酸濃度が一定に調合できるエッチング液調合装置を提供すること。 - 特許庁

The etching method includes etching a stacked metal film 14 which is formed by sequentially stacking the first film 12 made from the nickel alloy and the second film 13 made from copper or the alloy thereof on the substrate 11, by using the first etchant or the second etchant.例文帳に追加

これら第１のエッチング液又は第２のエッチング液を用いて、基板１１上にニッケル合金からなる第一膜１２と、銅又はその合金からなる第二膜１３とを順に重ねてなる積層金属膜１４をエッチングする。 - 特許庁

There provided are the method for processing a semiconductor surface by using the etchant, and the new etchant suitable for featuring a defect on the surface of a semiconductor containing silicon germanium on the surface.例文帳に追加

本発明は、本明細書で開示されたようなエッチング液を用いて半導体表面を処理する方法だけでなく、シリコンゲルマニウム表面を含んだ半導体表面の欠陥を特徴付けるのに適した新規なエッチング液に関する。 - 特許庁

Wet etching is applied to the grown InP layer using an etchant containing at least a hydrochloric acid and an acetic acid.例文帳に追加

成長されたＩｎＰ層に、少なくとも塩酸と酢酸とを含むエッチャントを使ったウェットエッチング工程を適用する。 - 特許庁

To provide an etchant composition for a copper-containing material, which can form a fine pattern without causing a defect in the shape.例文帳に追加

形状不良なしに微細な回路パターンを形成し得る銅含有材料用エッチング剤組成物を提供する。 - 特許庁

In a fourth process, the substrate 20 is removed from the laminated material 70, by using an etchant or a polishing agent including liquid.例文帳に追加

第四工程では、エッチャント又は液体を含む研磨剤を用いて基板１０を積層体７０から除去する。 - 特許庁

To provide a technique with which an etchant does not influence wiring to be connected to a fuse through a laser blown fuse.例文帳に追加

レーザブローされたヒューズを介して、ヒューズに接続されるべき配線にエッチャントが影響しない技術を提供する。 - 特許庁

Further the etchant contains at least one kind of phosphoric ions, nitrate ions, sulfate ions and oxalate ions.例文帳に追加

さらに、エッチング液には、リン酸イオン、硝酸イオン、硫酸イオンおよびシュウ酸イオンのうち少なくとも１種を配合する。 - 特許庁

As the etchant, an oxide, polysilicon, a metal, a photoresist, and a polyimide or their combination is used.例文帳に追加

エッチング液としては、酸化物，ポリシリコン，金属，フォトレジスト，ポリイミドの諸エッチング液、或いはまたこれらの組み合わせたものが入る。 - 特許庁

To provide a nozzle for performing highly precise etching with respect to an object to be treated, and also to provide an etchant supply device.例文帳に追加

被処理物に対して高精度のエッチング処理を行うことができるノズル、エッチング液供給装置を提供する。 - 特許庁

Simultaneously therewith, high frequency plasma is formed inside the chamber to produce an etchant S_B, and the metal film 101 is subjected to etching.例文帳に追加

それと同時に、チャンバ内に高周波プラズマを形成してエッチャントＳ_Ｂを生ぜしめ、金属膜１０１をエッチングする。 - 特許庁