「etching technology」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The repair is carried out by a photolithography technology using an electron-beam exposure apparatus and an etching technology.例文帳に追加

修正は、電子ビーム露光装置を使用したフォトリソグラフィ技術およびエッチング技術により行なう。 - 特許庁

A sidewall of the STI film 15 is retreated by etching the STI film 15 with the use of an isotropic etching technology.例文帳に追加

ＳＴＩ膜１５を等方性エッチング技術を用いてエッチングし、ＳＴＩ膜１５の側壁を後退させる。 - 特許庁

To provide a technology which inhibits damage to an object to be wet-etched due to an etching liquid in wet-etching and can obtain a fine etching figure.例文帳に追加

ウエットエッチングにおいてエッチング液によるウエットエッチングの対象物の損傷を抑制し、きれいなエッチング形状を得ることのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method which performs the etching treatment in a short time, and can manufacture products produced with the etching technology in a short time.例文帳に追加

エッチング処理を短時間で行い、エッチング技術を利用して製造される製品を短時間で製造可能な可能なエッチング方法を提供する。 - 特許庁

A second oxide film 35 extending in the vertical direction is formed on an Si substrate 31 using conventional film deposition technology, lithography technology and etching technology.例文帳に追加

従来の成膜技術,ホトリソグラフィ技術及びエッチング技術を駆使して、Ｓi基板３１上に垂直方向に延在する第２酸化膜３５を形成する。 - 特許庁

To form a quantum wire of nanometer size using a semiconductor substrate, e.g. an Si substrate, and genera film deposition technology, lithography technology and etching technology.例文帳に追加

Ｓi基板等の半導体基板を用い、一般的な成膜技術,リソグラフィ技術及びエッチング技術を用いて、ナノメータサイズの量子細線を形成する。 - 特許庁

Since the second and fourth surfaces are planar, the application of a microfabrication technology such as dry etching and wet etching is facilitated.例文帳に追加

また、第２、４の面が平面であることから、ドライエッチング、ウエットエッチングのような微細加工技術の適用が容易になる。 - 特許庁

An opening is formed by penetrating and defining the first passivation stack using normal lithography technology and dielectric etching technology.例文帳に追加

開口を、通常のリソグラフィ技術および誘電エッチング技術によって、第１のパッシベーション・スタックを貫通して画定し形成する。 - 特許庁

To provide a technology of manufacturing a reflection mirror with a wet etching method in the technology with which a plate reflection mirror having a reflection face to which light is made incident is manufactured by the etching.例文帳に追加

光が入射する反射面を有する板状の反射ミラーをエッチングによって製作する技術において、その反射ミラーをウエットエッチングによって製作する技術を提供する。 - 特許庁

Gate electrodes 18, 19 and 20, 21 are formed using a dry etching technology.例文帳に追加

ドライエッチング技術を使用して、ゲート電極１８、１９およびゲート電極２０、２１を形成する。 - 特許庁

To provide an organic field-effect transistor and an integrated circuit device which can realize a short channel without using lithography technology and etching technology.例文帳に追加

リソグラフィ技術やエッチング技術を利用することなく短チャネル化を図れる有機電界効果トランジスタおよび集積回路装置を提供する。 - 特許庁

By using photolithography technique and dry etching technology, patterning is performed by anisotropical etching of the insulating film 19 up to the middle of a conductive film 4A.例文帳に追加

フォトリソグラフィ技術およびドライエッチング技術を用い、絶縁膜１９および導電性膜４Ａの途中までは異方性エッチングによりパターニングを進める。 - 特許庁

To provide a technology capable of concurrently satisfying a high etching selection ratio of a silicon nitride film to a silicon oxide film and a high etching rate of the silicon nitride film.例文帳に追加

シリコン酸化膜に対するシリコン窒化膜の高いエッチング選択比と、シリコン窒化膜の高いエッチングレートとを両立しうる技術を提供する。 - 特許庁

In one embodiment, the dies are separated using a technology of alternating dry-etching/polymer deposition.例文帳に追加

一実施形態において、ダイは、交互のドライ・エッチングおよびポリマー堆積技術を使用して分離される。 - 特許庁

To provide a technology for improving operation life of a quarts component forming a plasma etching apparatus.例文帳に追加

プラズマエッチング装置を構成する石英部品の寿命を向上させることのできる技術を提供する。 - 特許庁

To form a metallic film on a base, and to require an etching process in order to form a circuit pattern by using an inprint technology or a photolithography technology.例文帳に追加

インプリント技術やフォトリソグラフィー技術を用いて回路パターンを形成するためには、下地に金属膜を形成し、さらにエッチング工程を必要とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor luminous element where light-extraction efficiency is high and a radiating pattern is excellent without using a microscopic lithography technology and a dry etching technology.例文帳に追加

微細リソグラフィー技術やドライエッチング技術を用いることなく、光取り出し効率が高く且つ放射パターンが良好な半導体発光素子を提供する。 - 特許庁

A flattened film 5 is etched to only a desired depth for each color region of a color filter by a photolithography technology and an etching technology to form steps in the flattened film 5.例文帳に追加

フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術により、平坦化膜５をカラーフィルタの各色領域毎に所望の深さだけエッチングして段差を設ける。 - 特許庁

To provide a technology for selectively etching or almost completely peeling a carbon film against a resist film.例文帳に追加

カーボン膜をレジスト膜に対して選択性良くエッチングする技術、及びほぼ完全に剥離する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a selective etching technology for the thin films of SiO_2, titanium and In_2O_3 used for MFMox.例文帳に追加

ＭＦＭｏｘに用いられるＳｉＯ_２、チタンおよびＩｎ_２Ｏ_３の薄膜の選択的エッチング技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology which improves the process accuracy in the etching process of forming pores or trenches.例文帳に追加

孔または溝を形成するエッチング工程での加工精度を向上することのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology of uniformizing an etching state in the middle and the surrounding part of a tape by carrying a flexible board at etching without causing deflection corresponding to the flexibility of the flexible board, and uniformly and efficiently spraying etching liquid to the flexible board so as to etch the flexible board without leaving fatigued etching liquid.例文帳に追加

フレキシブル基板の柔軟性に対応し、エッチング時のフレキシブル基板を撓みなく搬送することにより、エッチング液をフレキシブル基板に均一に効率よく噴射し、疲労したエッチング液を残留させることなくエッチングし、テープ中央部と周辺部でのエッチング状態を均一にすること。 - 特許庁

Next, a core 103 is formed on the lower clad layer 102 by finely processing the deposited and formed SiON film by well known photolithography technology and etching technology.例文帳に追加

ついで、堆積形成したＳｉＯＮ膜を公知のフォトリソグラフィ技術とエッチング技術とにより微細加工することで、下部クラッド層１０２の上にコア１０３が形成された状態とする。 - 特許庁

A thermally oxidized film 3 and a silicon nitride film 2 are formed on a silicon substrate 4 in order, and an opening 6 is formed by conventional photolithographic technology and etching technology.例文帳に追加

シリコン基板４の表面上に熱酸化膜３とシリコン窒化膜２とが順次形成され、通常の写真製版技術およびエッチング技術により開口６が形成される。 - 特許庁

To provide a pattern image forming device and method capable of shortening process time and reducing production cost without using photomask in an etching technology or lithography technology.例文帳に追加

リソグラフィー技術或いはエッチング技術において、フォトマスクを使用せずにプロセス時間の短縮化や生産コストの低減を図ることが可能なパターン画像形成装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for smoothly performing the alignment between a shot region and a die, and an etching process after imprint process as well.例文帳に追加

ショット領域と型との位置合わせとインプリント処理後のエッチング処理との双方を円滑に行う技術を提供する。 - 特許庁

To provide a technology to improve the unevenness in dry etching caused by the hygroscopicity of a low dielectric constant film.例文帳に追加

低誘電率膜の吸湿性に起因するドライエッチング加工の不均一性を改善することのできる技術を提供する。 - 特許庁

One groove 13 is formed on a silicon substrate 11 by using a photo-lithography technology, for example, by executing etching meanderingly.例文帳に追加

シリコン基板１１上に、フォトリソグラフィ技術を用いて一本の溝１３を例えば蛇行状にエッチングして溝１３を形成する。 - 特許庁

To deposit an insulation layer having an excellent gap filling property by using a deposit etching technology without clipping in a trench mask and circuit elements.例文帳に追加

堆積エッチング技術を使用し、トレンチマスク及び回路素子をクリツピング無しで優れたギヤツプ充填特性の絶縁層を堆積する。 - 特許庁

These measurement values are compared with values measured in the previous plasma etching operation by the use of a pattern recognition technology.例文帳に追加

これらの測定値は次いで、パターン認識技術を使って、以前のプラズマエッチング動作中に取られた以前の測定値と比較される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device suitable for microfabrication technology by forming a film which exhibits excellent film formation properties and etching resistance.例文帳に追加

成膜性及びエッチング耐性に優れる膜を形成し、微細加工技術に適する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for making a superconducting circuit without requiring an expensive vacuum deposition system, a photolithography technology and an etching means.例文帳に追加

高価な真空蒸着装置、フォトリソグラフィ技術、及びエッチング手段を必要としない超電導回路作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technology capable of increasing the processing capacity, reducing the installation area and lowering the price of a wet etching device while improving the stability and uniformity of etching rate.例文帳に追加

ウエットエッチング装置において、処理能力を高く、設置面積を小さく、装置価格を低く、かつ、エッチングレートの安定性及び均一性を良くすることが可能な技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To separate a group III nitride compound semiconductor light-emitting element, to form an electrode and to manufacture an end face reflection mirror, without using etching technology for a group III nitride compound semiconductor the etching of which is difficult.例文帳に追加

エッチングが困難なIII族窒化物系化合物半導体に対してエッチング技術を用いずにIII族窒化物系化合物半導体発光素子の素子分離、電極形成、端面反射鏡作製をする。 - 特許庁

The plate for a biochip has a base material formed of plastic or metal and is formed by etching technology or paste technology to realize a biochip at a low price and high precision.例文帳に追加

本発明は、プラスチックや金属を基材構成とし、エッチング技術や貼り付け技術により成形されたバイオチップ用プレートを提供することで、安価で高精度のバイオチップの提供を実現したものである。 - 特許庁

To increase capacity of a capacitor formed in a trench hole, using conventional etching technology.例文帳に追加

従来のエッチング技術を用いながらトレンチ孔に形成されたキャパシタの容量を大きくする半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for controlling the profile of etching rate while preventing generation of particles resulting from the fact that a treatment container is etched.例文帳に追加

エッチングレートのプロファイルを制御でき、処理容器等がエッチングされることに起因するパーティクルの発生を抑制できる技術を提供すること。 - 特許庁

The groove DT is formed in the prescribed region of the semiconductor wafer WF by dry-etching technology using the patterned resist film as a mask.例文帳に追加

そして、パターニングしたレジスト膜をマスクにしたドライエッチング技術により、半導体ウェハＷＦの所定領域に溝ＤＴを形成する。 - 特許庁

To reduce undercut caused by wet etching and to improve the working precision at the time of forming a surface wave element aluminum vapor deposition film or aluminum alloy vapor deposition film electrode by applying lithography technology to a thin film formed on the film surface on a substrate and executing etching with the formed resist pattern and a thin film fine pattern as masks.例文帳に追加

表面波素子、中でも表面波共振器電極形成プロセスでは、アルミニウム電極、アルミニウム蒸着膜厚が１μｍから２μｍで、線幅２μｍから５μｍに対して厚い。 - 特許庁

In a preferred forming process, the electrodeposition mold fabrication technology (e.g., selective deposition, bulk deposition, etching process and flattening process) and post deposition process (e.g., selective etching and/or final backfill process) are employed.例文帳に追加

好ましい形成プロセスでは、電着成型加工技術（例えば、選択的堆積、バルク堆積、エッチング作業、および平坦化作業）、及び、後堆積プロセス（例えば、選択的エッチング作業、および／または、裏込め作業）が用いられる。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device having a fine pattern which exceeds the conventional limit of conventional fine work by succeeding previously established i-beam exposure technology as it is and correcting etching technology.例文帳に追加

既に確立されたｉ線露光技術はそのまゝ継承してエッチング技術を小修正することで、従来の微細加工の限界を越える微細パターンを有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To less expensively provide a wiring board which makes density higher by utilizing the conventional double side exposing technology and the selective etching technology to form the wiring board by using a four layer laminated foils with barrier layers.例文帳に追加

バリア層を有する四層積層箔を用いて、既存の両面露光技術及び選択エッチング技術を利用し配線板を形成することで、高密度化に対応できる配線板をより安価に提供する。 - 特許庁

To provide a technology for forming a slot whose upper part is rounded by dry etching with a semiconductor material, utilizing the gas containing no carbon.例文帳に追加

炭素を含まないガスを利用して半導体材料をドライエッチングすることによって、上部に丸みを持つ溝を形成するための技術を提供すること。 - 特許庁

To provide an antenna forming method for forming an antenna for RFID use inexpensively and safely without using a method complicated in process and high in manufacturing cost such as an etching technology or a winding coil forming technology.例文帳に追加

エッチング技術や巻線コイル形成技術など、工程が複雑で製造コストが高い方法を用いることなく、安価にかつ安全にＲＦＩＤ用途のアンテナを形成することができるアンテナの形成方法を提供する。 - 特許庁

By this forming method, the fine hole can be formed in the printed board speedily at a low cost by etching other materials (e.g. glass fibers) of the printed board 10 which can not be removed with plasma by using a chemical solution after etching for the fine hole is carried out by mainly using plasma technology and plasma etching is performed.例文帳に追加

主にプラズマ技術を利用して微小穴のエッチングを行い、且つプラズマエッチングした後、化学溶液を利用してプラズマで除去できないプリントボード１０のその他の材料（例えば、ガラス繊維）をエッチングさせ、迅速且つ低コストで行うことができるプリントボードの微小穴の形成方法である。 - 特許庁