「grating substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

Light toward a Z-phase transmission window 10 of the semiconductor substrate 4 from the point light source 2 bypasses the diffuser 5, passes the window 10 directly, and is reflected by a Z-phase reflecting grating 12 of the scale plate 3, and received by a Z-phase light receiving element 8 of the semiconductor substrate 4.例文帳に追加

点光源２から半導体基板４のＺ相用透過窓１０に向かう光は拡散板５を通ることなく直接に当該窓１０を通りスケール板３のＺ相用反射格子１２で反射され、半導体基板４のＺ相用受光素子８で受光される。 - 特許庁

A polarization element includes: a transparent substrate 11; absorber layers 12 arranged on the transparent substrate 11 with a pitch smaller than the wavelength of light in the used bandwidth and constituting grating projections; dielectric layers 13 formed on the absorber layers 12; and reflective layers 14 formed on the dielectric layers 13.例文帳に追加

透明基板１１と、透明基板１１上に使用帯域の光の波長よりも小さいピッチで配列された格子状凸部を構成する吸収層１２と、吸収層１２上に形成された誘電体層１３と、誘電体層１３上に形成された反射層１４とを備える。 - 特許庁

In condition where the glass substrates 1, 2 are adhered to each other with a sealing member 5, the liquid crystal 3 is filled between the glass substrate 1, 2 so as to adjoin the diffraction grating surface (d), and an aligning layer 6 is disposed on the surface of the second glass substrate 2 on the side of the diffraction optical device 4 so that the liquid crystal 3 is aligned homogeneously.例文帳に追加

ガラス基板(1,2)がシール剤(5)で固着された状態でガラス基板(1,2)間には液晶(3)が回折格子面(d)に隣接するように充填されており、液晶(3)がホモジニアス配向するように第２ガラス基板(2)の回折光学素子(4)側の面に配向膜(6)が設けられている。 - 特許庁

In this polarized light separating element 10 provided successively with a transparent substrate 2, an adhesive material layer 5, a double refraction film 3 with which a cyclically rugged grating is formed on the same plane, the overcoat layer and the transparent substrate 2, spacers 6 for controlling the thickness to be uniform are provided in the overcoat layer 4.例文帳に追加

透明基板２、接着剤層５、同一平面に周期的凹凸格子が形成された複屈折膜３、オーバーコート層４、及び、透明基板２を順次有する偏光分離素子１０において、オーバーコート層４中にその厚さを均一に制御するスペーサー６を存在させる。 - 特許庁

The liquid crystal polarizing device is obtained by forming a diffraction grating 13 made of a polymer material on a glass substrate 12, further forming a nematic liquid crystal 14 having optical anisotropy to constitute a double refraction optical element DOE 11, and laminating a glass substrate 15 having an alignment film 16 to interpose the liquid crystal 14.例文帳に追加

ガラス基板１２上に高分子材料からなる回折格子１３を成形し、光学的異方性を有するネマティック液晶１４を設けて複屈折ＤＯＥ１１を構成し、液晶１４を配向膜１６を有するガラス基板１５で挟み込んだ液晶偏光デバイス。 - 特許庁

A plurality of diffraction grating patterns generating interference fringes used for the adjusting apparatus of the optical head by a diffraction interference system and corresponding to the plurality of optical disk systems are formed on the same flat substrate and a recessed part is formed in the flat substrate to be made coincident with the thickness of a thin storage medium.例文帳に追加

回折干渉方式による光ヘッドの調整装置に用いられる干渉縞を発生させる複数の光ディスク方式に対応する複数の回折格子パターンを同一平面基板に形成し、平面基板に凹部を形成して薄い記憶媒体の厚みに合わす。 - 特許庁

To provide a formation technique of a quantum wire capable of demonstrating a superior shape and sufficient characteristics in a distributed feedback semiconductor laser and the like with respect to a formation process of a quantum wire formed on a grating substrate.例文帳に追加

グレーティング基板上に形成される量子細線の形成方法として、分布帰還半導体レーザ等に応用するに十分な形状、特性を発揮し得る量子細線の形成手法を提供する。 - 特許庁

After a vacuum vapor-deposition device coats a surface of an original diffraction grating 1 with a release agent 2, an LiF film 7, and an Al film 3 successively in order, a replica substrate 5 is fixed to the Al film 3 across resin 4.例文帳に追加

オリジナル回折格子１の表面に真空蒸着装置によって、離型剤２、ＬｉＦ膜７、Ａｌ膜３を順次連続的に被覆した後、Ａｌ膜３に樹脂４を介してレプリカ基板５を固着する。 - 特許庁

The grating type polarizing element 10 has a diffractive structure by alternately depositing a birefringent dielectric material 12 and another dielectric material (or overcoat material) 13 on an isotropic substrate 11.例文帳に追加

回折格子型偏光素子１０は、等方性基板１１上に、複屈折性誘電体材料１２と他の誘電体材料（あるいはオーバーコート材料）１３とが交互に積層し、回折構造を形成している。 - 特許庁

The optical pickup device 1 has a holder 20 which guides the transmission type diffraction grating 12 and the hologram element 13 in a direction perpendicular to a substrate surface 17a and holds both in the state of not bringing both into contact with its surface.例文帳に追加

光ピックアップ装置１は、透過型回折格子１２とホログラム素子１３を基板表面１７ａに対し垂直方向へガイドすると共に、表面に接しない状態で保持するホルダ２０を有する。 - 特許庁

In the semiconductor optical device and its manufacturing method which are provided, a laser element with a diffraction grating incorporated in a semiconductor substrate comprising the waveguide-type optical element in such a way that their optical axes become substantially parallel.例文帳に追加

導波路型光素子を有する半導体基板内に、回析格子付レーザ素子を、それらの光軸が実質的に平行となるように作り込んだ半導体光デバイスとその製造方法を提案する。 - 特許庁

A plurality of IDT electrodes 5, 6, 7, 8, 9 for exciting or receiving surface acoustic wave, and a plurality of grating reflectors 12, 13 for reflecting the surface acoustic wave, are formed on the piezoelectric substrate 3.例文帳に追加

圧電基板３上には弾性表面波を励振又は受信する複数のＩＤＴ電極５、６、７、８、９と、弾性表面波を反射する複数のグレーティング反射器１２、１３が形成されている。 - 特許庁

A diffraction grating 20 for an X-ray Talbot interferometer has a plurality of X-ray absorption parts 20b formed on a substrate 22 by cutting a metal film 20bx in a wavy shape at prescribed intervals in one direction.例文帳に追加

基板２２上に金属膜２０ｂｘを切削して形成したＸ線吸収部２０ｂが、一方向に沿って所定間隔で畝状に複数形成されているＸ線タルボ干渉計用回折格子２０である。 - 特許庁

A diffraction grating 20 is formed in a two-dimensional direction at an interface between a transparent electrode 103 and a glass substrate 104 as an interface where total reflection takes place with different refractive indices inside the self-luminous surface-emitting element.例文帳に追加

自発光型面状発光素子内部において屈折率が異なり全反射が起こる界面である透明電極１０３とガラス基板１０４との界面に回折格子２０が２次元方向に形成されている。 - 特許庁

Variation in refractive index which is picked up by the laser beam can be suppressed even if carrier concentration of the substrate varies, and thereby variation can be suppressed in oscillation wavelength of laser beam and in coupling constant of grating.例文帳に追加

従って、基板のキャリア濃度が変動しても、レーザ光が感受する屈折率のばらつきを小さく抑え、レーザ光の発振波長および回折格子の結合定数の変動を小さく抑えることができる。 - 特許庁

The large high quality diffraction grating, which has a carefully formed blaze angle and a defect-free reflection surface, is manufactured on a specially oriented substrate by the use of photolithography and micro machining techniques.例文帳に追加

注意深く形成されたブレーズ角と欠陥のない反射表面を有する大きく高品質の回折格子が、写真平版又は微小機械加工技術を使用して、特別に方向付けた基板上に製造できる。 - 特許庁

A conversion substrate 2 is provided with an optical waveguide 3 which converts fundamental waves 6 into second higher harmonic 8 and a reflection grating section 5 which fixes the wavelength of the waves 6 that made incident on the waveguide 3.例文帳に追加

変換用基板２が、基本波６を第二高調波８に変換する光導波路３および光導波路３に入射する基本波６の波長を固定するための反射グレーティング部５を備える。 - 特許庁

The hardness (by JIS-A) of an adhesive for fixing a surface acoustic wave device element constituted by arranging an IDT electrode and a grating reflector on a piezoelectric substrate to the inner bottom surface of a package with the adhesive is equal to or lower than 45.例文帳に追加

圧電基板上にＩＤＴ電極と、グレーティング反射器とを配置した構成した表面波デバイス素子を、パッケージの内底面に接着剤にて固定する接着材の硬度を４５（ＪＩＳ−Ａによる）以下とする。 - 特許庁

The laser system 1 is constituted of a temperature control unit 12 which contains a Peltier element 9; a heatsink 10 and a base substrate 11; and the laser 8 which contains a laser diode 2, a lens 3, a grating 5, a first supporting portion 5, and a second supporting portion 6.例文帳に追加

レーザ・システム１は、ペルチェ素子９、ヒートシンク１０、及びベース基板１１を含む温度制御部１２と、レーザ・ダイオード２、レンズ３、グレーティング５、第１支持部５、及び第２支持部６を含むレーザ部８からなる。 - 特許庁

In the device for forming one or more spaced cut grooves on the surface of the substrate, a laser beam 4 emitted by a laser 3 irradiates a diffraction grating element 6 to branch off into two first cutting beams 7, and the first cutting beams 7 irradiate a diffraction grating element 10 to branch off into second beams 12, respectively.例文帳に追加

一つもしくはそれ以上の離間された切断溝を基板の表面に形成するための装置であって、レーザ３から発生したレーザビーム４は、回折格子素子６に照射され二つの第一切断ビーム７に分岐され、さらに第一切断ビーム７は回折格子素子１０に照射され、それぞれ第二ビーム１２に分岐される。 - 特許庁

A diffraction grating pattern that generates reflected waves is provided to the one surface of a clad layer 8 adjacent to the active layer 7 in an active region, and a diffraction grating pattern 8a that projects laser rays in a direction vertical to the sapphire substrate 1 is provided to the other surface of the clad layer 8 in the active region.例文帳に追加

前記活性層７に隣接するクラッド層８であって活性領域の一方の側には反射波を生成するための回折格子パターン８ｂ（図示せず）が形成され、活性領域の他方の側には反射波を生成するとともに前記サファイア基板１に垂直な方向にレーザー光を出射させるための回折格子パターン８ａが形成されている。 - 特許庁

A first diffraction grating 10 is formed by layering a first reflection preventing film 14 composed of a first matching layer 12 and an etching stopping layer 13, a diffraction grating projecting part 15 and a second reflection preventing film 18 composed of a cover layer 16 and a second matching layer 17 sequentially on the surface of a substrate 9 made of glass or the like.例文帳に追加

第一の回折格子１０は、ガラスなどからなる基板９の表面上から順に、第一のマッチング層１２とエッチングストップ層１３とにより構成する第一の反射防止膜１４と、回折格子凸部１５と、カバー層１６と第二のマッチング層１７とにより構成する第二の反射防止膜１８と、を積層したものである。 - 特許庁

The substrate 15 has two surfaces inclined in different directions to a surface in parallel with surfaces of a diffraction grating 7 and the light receiving element 8a, one surface is a mirror surface 17 inclined by 45 degrees to return the light flux emitted by the semiconductor laser 1 to the diffraction grating 7 and the other surface is a light source mounting surface 16 for mounting the semiconductor laser 1.例文帳に追加

この基板１５は、回折格子７及び受光素子８の面と平行な面に対して、異なる方向に傾斜した２つの面を備え、１つの面は、半導体レーザー１の出射する光束を回折格子７へと折り返すための４５度傾いたミラー面１７、もう１つの面は、半導体レーザー１を実装する光源実装面１６である。 - 特許庁

A blaze grating is formed on the surface of a planar transparent substrate and separation coatings to reflect or transmit the incident light according to the characteristics of the incident light are applied on the blaze grating to obtain an optical device having both functions to separate the light into reflected light and transmitted light and to diffract or refract the separated light.例文帳に追加

平板状の透明基材の表面にブレーズ格子を形成し、ブレーズ格子上に入射光の特性に応じて入射光を反射しまたは透過させる分離コーティングを設けて、光を反射光と透過光に分離する機能と分離後の光に回折または屈折を生じさせる機能を併せもつ光学素子とする。 - 特許庁

A light receiving grating part (GD) formed of a semiconductor layer where light receiving regions (ED) sending light in a specified wavelength range are arranged in a lattice shape and a transmission grating part (G) where transmission regions (EV) transmitting the light in the specified wavelength range are arranged in a lattice shape are provided on a transparent substrate (11) which is transparent to the light in the specified wavelength range.例文帳に追加

所定波長域の光に感応する受光領域（ＥＤ）を格子状に配置した半導体層からなる受光格子部（ＧＤ）と、その所定波長域の光を透過する透過領域（ＥＶ）を格子状に配置した透過格子部（Ｇ）とを、その所定波長域の光に対し透明な透明基板（１１）上に設ける。 - 特許庁

That is, the recording medium such as a hologram comprises a dielectric thin film having a grating comprising a convex-concave pattern on the surface and a substrate in which information in accordance with changes in the thickness of the concave-convex pattern of the dielectric thin film is recorded.例文帳に追加

すなわち、表面に凹凸による回折格子を有する誘電体薄膜と、誘電体薄膜の凹凸の厚さ変化に応じた情報が記録される基板からなるホログラムなどの記録媒体であることを特徴とする。 - 特許庁

The diffraction grating 100 has rectangular ridges 20 arrayed in a fixed period p, each ridge 20 is composed of, from the substrate 10 side, a first low refractive index portion 11, a high refractive index portion 12, and a second refractive index portion 13.例文帳に追加

回折格子１００には矩形のリッジ部２０が一定の周期ｐで並んでおり、このリッジ部２０は基板１０側から順に、第１低屈折率部１１、高屈折率部１２、第２低屈折率部１３から構成されている。 - 特許庁

To improve inter-element uniformity of diffraction efficiency as an element by preventing grating falling of a recessed and projecting periodic structure from a substrate normal direction, which is caused at the time of filling a material into a recessed part of the recessed and projecting periodic structure.例文帳に追加

凹凸状周期構造の凹部に材料を充填する際に発生する、凹凸状周期構造の基板法線方向からの格子倒れを防ぎ、素子としての回折効率の素子間均一性を向上させることである。 - 特許庁

The variable wavelength element section has an n-InP lower clad layer 18, a variable wavelength layer 20, an i-InP layer 22, an active layer 24, a p-InP spacer layer 26, a p-diffraction grating 28, and a p-InP buried layer 30 on the substrate.例文帳に追加

波長可変素子部は、基板上に、ｎ−ＩｎＰ下部クラッド層１８、波長可変層２０、ｉ−ＩｎＰ層２２、活性層２４、ｐ−ＩｎＰスペーサ層２６、ｐ−回折格子２８、及びｐ−ＩｎＰ埋め込み層３０を備える。 - 特許庁

The ultraviolet light source unit includes: a plurality of ultraviolet light emitting diodes D provided on a substrate 28; a heat sink 29 arranged on the opposite side to the ultraviolet light emitting diodes D; and an inner cover 30 having a grating part found at a region covering the heat sink 29.例文帳に追加

基板２８に対して複数の紫外線発光ダイオードＤを備え、この紫外線発光ダイオードＤの反対側にヒートシンク２９を備え、このヒートシンク２９を覆う部位にグレーチング部を有する内部カバー３０を備えた。 - 特許庁

First and second channel waveguides 102 and 103, a channel waveguide array 104, and first and second fan-shaped slab waveguides 105 and 106 are arranged on a substrate 101 of an array waveguide grating 100.例文帳に追加

アレイ導波路格子１００の基板１０１上には第１および第２のチャネル導波路１０２、１０３、チャネル導波路アレイ１０４、第１の扇形スラブ導波路１０５および第２の扇形スラブ導波路１０６が配置されている。 - 特許庁

A dielectric substrate 1 having a refractive index n_1 is coated with an amorphous dielectric medium 2 having a refractive index n_2 larger than the refractive index n_1, and a rectangular grating 3 is formed on the amorphous dielectric medium 2 by etching.例文帳に追加

屈折率ｎ_１を有する誘電体基板１上に、屈折率ｎ_１よりも大きい屈折率ｎ_２を有するアモルファス誘電体媒質２を被覆し、このアモルファス誘電体媒質２にエッチングにより矩形格子３を形成する。 - 特許庁

The second reflecting means 5 is a chirp type diffraction grating 21 disposed on the semiconductor substrate S in series with a gain waveguide 7 and the first reflecting means 3, and functions as a projection surface for laser light of the semiconductor laser 1.例文帳に追加

第２の反射手段５は、利得導波路７及び第１の反射手段３と直列に半導体基板Ｓ上に配置されたチャープ型回折格子２１であり、半導体レーザ１におけるレーザ光の出射面として機能する。 - 特許庁

Consequently, the surface roughness of the resist decreases and is reflected on grating grooves of the substrate to reduce influence of irregularity of height of the resist, and further a carbon rich state in etching is eliminated to prevent surface roughening due to the carbon rich state.例文帳に追加

それにより、レジストの面粗さは縮小して基板１０の格子溝に反映され、レジストの高さの不均一性の影響も緩和でき、さらにエッチングの際のカーボンリッチ状態をなくしてこれによる面荒れも防止できる。 - 特許庁

To provide a distributed feedback semiconductor laser element comprising an active layer and a diffraction grating formed thereon in a multilayer structure provided on an n-type semiconductor substrate and having low threshold current and element resistance.例文帳に追加

ｎ型半導体基板上に設けられた積層構造内に活性層及び活性層上に設けられた回折格子を有し、しきい値電流及び素子抵抗の双方が小さい分布帰還型半導体レーザ素子を提供する。 - 特許庁

After a photomask is disposed in the UV sheet 2 side and aligned with the substrate, the UV sheet is irradiated with UV rays in the region facing the diffraction grating so as to harden the UV resin in the region ((b) in Fig. 1).例文帳に追加

ＵＶシート２側にフォトマスクを配置し、上記基板とフォトマスクとのアライメントをとった後、上記ＵＶシートに対して上記回折格子に対向する領域に紫外線を照射し、該領域のＵＶ樹脂を硬化させる（図１（ｂ））。 - 特許庁

The IDT electrodes 2, 3 are formed at a prescribed interval on the piezoelectric substrate 1, and a grating type shield electrode 4 for shielding the direct wave between I/O terminals is formed at the gap between the IDT electrodes 2 and 3.例文帳に追加

圧電基板１上にＩＤＴ電極２、３を所定の間隙をあけて形成し、入出力端子間の直達波を遮蔽するためのグレーティング型シールド電極４を前記ＩＤＴ電極２、３の間隙に形成する。 - 特許庁

The optical waveguide formed by laminating a lower clad (3D), a core (4), and an upper clad (3U) on a substrate (2) in this order has at least one thin-film type grating layer (5) formed on the core (4) along its length direction.例文帳に追加

基板（２）上に、下部クラッド（３Ｄ）、コア（４）及び上部クラッド（３Ｕ）を順次積層して形成された光導波路において、前記コア（４）にその長手方向に沿って少なくとも一の薄膜状グレーティング層（５）を形成した。 - 特許庁

Thermal distribution 11 corresponding to a desirable pattern is given to a raw material substrate 10, which is formed by adding a second material composed of a catalyst metal such as iron (Fe) in a first material formed of a semiconductor of silicon (Si) with radiation of the energy beam 12 using a diffraction grating 13 to melt a surface of the raw material substrate.例文帳に追加

シリコン（Ｓｉ）などの半導体からなる第１の物質中に、鉄（Ｆｅ）などの触媒金属からなる第２の物質が添加された素材基板１０に対して、回折格子１３を用いたエネルギービーム１２の照射により所望のパターンに応じた熱分布１１を与え、素材基板１０の表面を溶融させる。 - 特許庁

A substrate having an optical fiber with a chirp fiber grating buried in a surface groove and a substrate with a temperature distribution region formed of a plurality of resistance wire heaters on a surface wherein the surfaces of the substrates are stuck to each other and fixed, thereby obtaining the dispersion compensation module having a variable dispersion compensating function.例文帳に追加

チャープファイバグレーティングを有する光ファイバを表面溝中に埋め込んだ基板と、表面に複数の抵抗線ヒータからなる温度分布領域を持つ基板の表面同士を張り合わせ固定された構成により、可変分散補償機能を有する分散補償モジュールを提供できるという作用を有する。 - 特許庁

The lens includes: a transparent substrate with a lens cavity of a prescribed depth in the surface of the substrate; and a lens element disposed in the lens cavity and having a first surface corresponding to the lens cavity and provided with a refractive surface and a second surface opposite to the first surface and with a diffraction surface formed by a diffraction grating pattern.例文帳に追加

その表面に所定深さの凹レンズ収容溝が設けられている透明基板と、前記レンズ収容溝内に設けられるものであって、前記レンズ収容溝に対応する第１面に屈折面が設けられ、その反対側の第２面に回折格子パターンによる回折面が形成されているレンズ要素とを備える。 - 特許庁

In the diffraction element 2 having a diffraction grating formed on a substrate having a curved surface, the curved surface 3 has an anamorphic shape formed by turning a curved line (I) in a plane about a straight line (II) in the same plane serving as a rotating axis, and gratings 10a of the diffraction grating 10 exist in cross sections orthogonal to the rotation axis.例文帳に追加

曲面の基板に回折格子が形成されている回折素子２において、曲面３は、一平面上に存在する曲線(I) を、同一の一平面上に存在する直線(II)を回転軸として回動させたときに形成されるアナモフィック形状より成り、回折格子１０を構成する各々の格子１０ａは、回転軸と直交する各々の断面内に存在すること。 - 特許庁

The laser is provided with an n-InGaAsP grating layer 112 formed above an n-InP substrate 101, an AlGaInAs-MQW active layer 103 formed above the grating layer 112, and a ridge 114 which is formed above the active layer 103 and has a p-InP clad layer 106 and a p-InGaAs contact layer 108.例文帳に追加

ｎ−ＩｎＰ基板１０１の上方に形成されたｎ−ＩｎＧａＡｓＰ回折格子層１１２と、この回折格子層１１２の上方に形成されたＡｌＧａＩｎＡｓ−ＭＱＷ活性層１０３と、この活性層１０３の上に形成され、ｐ−ＩｎＰクラッド層１０６およびｐ−ＩｎＧａＡｓコンタクト層１０８を備えたリッジ部１１４とを有する。 - 特許庁

Thereby, since an assembling position can be adjusted so as to be perpendicular to a radius direction of the optical recording medium 32 making visible one side of the substrate as a guiding index, adjustment of the assembling position of the diffraction grating 8 is extremely easily performed.例文帳に追加

このことによって、目視可能な基板の一辺を案内指標として、光記録媒体３２の半径方向に垂直になるように組立位置を調整することができるので、回折格子８の組立位置調整が極めて容易になる。 - 特許庁

The optical element comprises: an SOI (Silicon on Insulator) substrate 20 comprising a support silicon layer 30, a BOX layer 40 and an SOI layer 50, layered in this order; a grating coupler 54 formed in the SOI layer; and an overclad layer 60 formed on the SOI layer.例文帳に追加

支持シリコン層３０、ＢＯＸ層４０及びＳＯＩ層５０がこの順に積層されたＳＯＩ基板２０と、ＳＯＩ層に形成されたグレーティングカプラ５４と、ＳＯＩ層上に形成されたオーバークラッド層６０とを備えて構成される。 - 特許庁