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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > grating substrateに関連した英語例文

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grating substrateの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 372



例文

When forming a multilayer film structure 10 for a semiconductor device on a substrate, a compression-strained semiconductor layer 12 is formed on the substrate 11, the compression-strained semiconductor layer comprising a crystal of which the grating constant is larger than that of a crystal constituting the substrate 11 and having compression strain.例文帳に追加

半導体素子用の多層膜構造体10を基板上に形成する際に、基板11上に、当該基板11を構成する結晶の格子定数よりも大きな格子定数の結晶からなるとともに、圧縮歪を有する圧縮歪半導体層12を形成する。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor substrate includes a step of varying stress to a hetero-epitaxial layer to change the deformation of a Si layer on a support substrate at least containing a structure including the hetero-epitaxial layer with a different grating constant from that of the support substrate, a porous layer and the Si layer sequentially laminated.例文帳に追加

半導体基板の製造方法は、支持基板とは格子定数の異なるヘテロエピタキシャル層、多孔質層、Si層が順に積層された構造を少なくとも含む支持基板に、前記Si層の歪みを変化させるために、前記ヘテロエピタキシャル層の応力を変化させる工程を行なう。 - 特許庁

The substrate 10 is irradiated with the light (for example, UV rays) 26 of the specific wavelength through the diffraction grating 24 in this state, by which the refractive index changing sections are formed like a grid apart prescribed intervals in the substrate 10 and the photonic crystal 10' is obtained.例文帳に追加

この状態で、回折格子24を介して基体10に特定波長の光(例えば、紫外線)26を照射し、基体10に所定の間隔をあけて格子状に屈折率変化部を形成し、フォトニック結晶10’を得る。 - 特許庁

When the substrate is stripped from the mold along the release agent layer 13 after the adhesive 22 is cured, both members are easily separated from each other and the aluminum thin film 23 is reverse transferred to the replica substrate 21 to complete a replica grating 20.例文帳に追加

接着剤22が硬化した後に離型剤層13を境に両者を引き剥がすと、両者は容易に剥離し、アルミニウム薄膜23がレプリカ基板21に反転転写されてレプリカ回折格子20が完成する。 - 特許庁

例文

In this polarization diffraction element 1 having a polymer birefringent film 3 on a transparent substrate 2 and a periodically projecting and recessed grating formed by etching the polymer birefringent film 3 and formed by coating or loading an isotropic overcoat agent 4 in the grating, the thickness (d) of the polymer birefringent film 3 is almost identical to the depth (h) of the periodically projecting and recessed grating.例文帳に追加

本発明では、透明基板2上に高分子複屈折膜3を有し、該高分子複屈折膜3にエッチングにより形成された周期的凹凸格子を有し、該格子内に等方性オーバーコート剤4を被覆あるいは装荷してなる偏光回折素子1において、前記高分子複屈折膜3の厚さ(d)が、周期的凹凸格子の深さ(h)と略同じである構成とする。 - 特許庁


例文

Also, the clad layer 7 storing the core layer 5 is formed on the substrate 21 consisting of a material having a linear thermal expansion coefficient larger than the linear thermal expansion coefficient of the core layer 5, and the grating 2 is formed in at least a part of the core layer 5 to obtain the optical waveguide grating device 1.例文帳に追加

また、コア層5の線熱膨張係数より大きな線熱膨張係数を有する材料の基板21上にコア層5を収容するクラッド層7を形成し、コア層5の少なくとも一部にグレーティング2を形成して光導波路グレーティングデバイス1を得る。 - 特許庁

The distributed feedback type semiconductor laser element has at least an n-conductivity type clad layer 3, an active layer 5 and a p-conductivity type clad layer 12 on a semiconductor substrate 1, and has the diffraction-grating structure 10 composed of an n-conductivity type diffraction grating layer 8 in the clad layer 12.例文帳に追加

分布帰還型半導体レーザ素子は、半導体基板1上に少なくともn導電型のクラッド層3と活性層5とp導電型のクラッド層12とを有し、p導電型のクラッド層12中にn導電型の回折格子層8からなる回折格子構造10を備えている。 - 特許庁

To provide a diffraction grating pattern which has an up-to-date visual image such that display color are changed in accordance with rotation of a substrate or illumination direction and can further raise the level of forgery prevention without impairing resolution and brightness, and to provide a diffraction grating recording medium.例文帳に追加

本発明は、解像度や輝度を損なうことなく、基板もしくは照明方向の回転に伴って表示色が変化する視覚的なイメージが斬新で、偽造防止を一層高めることができる回折格子パターンおよび回折格子記録媒体を提供することを課題とする。 - 特許庁

A specified diffraction grating is formed on the surface of a substrate 2 such as silicon by photolithography or the like to form a second reflection face 6, on which a transparent film 3 is formed flat and formed into a specified diffraction grating by using again a photolithographic process or the like to form a first reflection face 5.例文帳に追加

シリコンなどの基板2の表面にフォトリソグラフィー等により所定の回折格子を形成し第2の反射面6とした後、透明膜3を平坦に形成し再度フォトリソグラフィー等の技術を用いて所定の回折格子を形成することにより第1の反射面5とする。 - 特許庁

例文

In this security thread, a reflection layer, the hologram, or a diffraction grating is formed on one face of a substrate, and a magnetic layer mainly formed of a magnetic material is formed on the other face.例文帳に追加

基材上の一方の面に、反射層またはホログラムまたは回折格子を設け、他方の面に磁性材料を主成分とする磁性層を設けてなることを特徴とするセキュリティスレッド。 - 特許庁

例文

A dummy layer having a pattern in which a solution, in such as a grating shape can infiltrate sufficiently up to a central part, is formed on a transparent substrate 11, and an optical waveguide 16 is formed thereon.例文帳に追加

透明基板11上に、格子状などの溶液が中央部にまで十分に浸透可能なパターンを有するダミー層を形成し、その上に光導波路16を形成する。 - 特許庁

To provide a polarization diffraction grating that enables the polarization direction of incident light and the occurrence direction of diffracted light to be freely selected without being restricted by the material of a substrate.例文帳に追加

基板の材質に制約を受けることなく、入射光の偏光方向と回折光の発生方向とを自由に選択することのできる偏光性回折格子を提供する。 - 特許庁

The incident light beams of the respective wavelengths travel zigzag in the optical substrate 13 while repeatedly and totally reflected by respective reflection parts, and deflected again by the grating 12 to become individual light beams.例文帳に追加

入射した各波長の光は光学基板13内を、各反射部で全反射を繰り返しながらジグザグに進行し、グレーティング12で再度偏向されて個別光となる。 - 特許庁

More particularly, a superior edge effect can be obtained by controlling the grating width W of the electrode E to equal to or less than twice as the thickness t of the crystal substrate.例文帳に追加

具体的には、電極Eのグレーティング幅をW、結晶基板の厚さをtとするとき、グレーティング幅Wを基板厚さtの2倍以下とすれば、優位なエッジ効果を得ることができる。 - 特許庁

If the phase shifter is changed to zero (i.e. there is no phase shift), the diffraction grating of the substrate has its parameters measured with TE and TM polarized light, simultaneously as with the same detector system.例文帳に追加

移相器をゼロに変更する(つまり位相シフトがない)と、基板の回折格子は、そのパラメータが、同じ検出器システムでTEおよびTM偏光で同時に測定される。 - 特許庁

A thermosetting adhesive 22 is applied on a replica substrate 21 (e), which is then laminated with the master grating 10 having the aluminum thin film 23 formed thereon through the adhesive 22 (f).例文帳に追加

レプリカ基板21に熱硬化型の接着剤22を塗布し(e)、その後に接着剤22を介してアルミニウム薄膜23を形成したマスター回折格子10を張り合わせる(f)。 - 特許庁

A reflective grating 18 having spaced apart grid lines 36 patterned on a piezoelectric substrate 12 for controlling the magnitude and phase of surface acoustic waves in a reflective filter 10 or resonator.例文帳に追加

反射グレーティング18は、圧電基板12上にパターニングされた離間格子線36を有し、反射フィルタ10または共振器において表面弾性波の振幅および位相を制御する。 - 特許庁

A grating layer 6 the thickness of which is periodically varied is formed on one substrate 1 to affect the liquid crystal 3 to impart bistability capable of developing two stable states.例文帳に追加

一方の基板1には、厚みが周期的に変化するグレーティング層6が形成されており、液晶3に作用して二つの安定状態を発現可能な双安定性を付与する。 - 特許庁

To achieve broader bandwidth by improving a current channel in a semiconductor laser element having a structure in which a diffraction grating is disposed between a semiconductor substrate and an active layer.例文帳に追加

半導体基板と活性層との間に回折格子が配置された構成を備える半導体レーザ素子において、電流の流路を改善することにより広帯域化を可能とする。 - 特許庁

Photoresist layers are formed on the upper surface and lower surface of the substrate, and a periodic grating formed by interference of two laser beams is used for exposing the photoresist layer of the upper surface.例文帳に追加

フォトレジスト層を基板の上表面および下表面に形成し、2つのレーザービームの干渉により形成される周期性格子を上表面のフォトレジスト層を露光することに用いる。 - 特許庁

To provide an optical device which can suppresses changes in the center wavelength of reflection with temperature due to insufficient temperature compensation characteristics for a diffraction grating by a substrate.例文帳に追加

基材による回折格子の温度補償特性が不充分のため反射中心波長が温度により変化するのを抑制することが可能な光学装置を提供すること。 - 特許庁

When both are exfoliated from each other with the oil film 13 as a border after the adhesive 22 is hardened, the aluminum thin film 23 is reversely transferred onto the replica substrate 21 and the replica diffraction grating 20 is completed.例文帳に追加

接着剤22が硬化した後に油膜13を境に両者を剥離させると、アルミニウム薄膜23がレプリカ基板21に反転転写され、レプリカ回折格子20が完成する。 - 特許庁

An IDT electrode 12 mainly made of aluminum or an aluminum-based alloy is disposed along the Z' axis direction of the crystal substrate 11, and grating reflectors 13a, 13b are disposed at both sides of the crystal substrate 11, thereby constituting an SH wave type surface acoustic wave resonator.例文帳に追加

そして、水晶基板11のZ’軸方向に沿ってアルミニウム、又はアルミニウムを主成分とする合金のIDT電極12と、その両側にグレーティング反射器13a、13bとを配置して、SH波型SAW共振子を構成する。 - 特許庁

The substrate for the light-emitting element includes a semiconductor layer (an n-type semiconductor layer, a light-emitting layer, a p-type semiconductor layer, and a substrate) including the light-emitting layer, and a two-dimensional diffraction grating (a photonic crystal structure layer 3) disposed at an interval from the light-emitting layer.例文帳に追加

発光素子用基板は、発光層を含む半導体層(n型半導体層、発光層、p型半導体層、基板)と、発光層から間隔を隔てて配置された2次元回折格子(フォトニック結晶構造層3)とを備える。 - 特許庁

In an apparatus for manufacturing the diffraction grating, an ion source 4 of applying ion beams, a target material 2 irradiated with ions so as to be sputtered, and a substrate 1 on which atoms driven away from the target material 2 are deposited are installed, and a mask 3 is arranged between the target material 2 and the substrate 1.例文帳に追加

イオンビームを照射するイオン源4とイオンが照射されてスパッタリングされるターゲット材2とターゲット材2から叩き出された原子が堆積する基板1が設置され、ターゲット材2と基板1の間にはマスク3が配設されている。 - 特許庁

The optical wavelength conversion element 26 is constituted of a substrate 1 consisting of a nonlinear optical crystal, an optical waveguide path 2 formed on the surface of the substrate 1 and a grating 6 formed on at least a part of the surface of the optical waveguide path 2.例文帳に追加

前記光波長変換素子26を、非線形光学結晶からなる基板1と、基板1の表面に形成された光導波路2と、光導波路2の表面の少なくとも一部に形成されたグレーティング6とにより構成する。 - 特許庁

The film 5 is adhered on top of an optically transparent bottom substrate 3 by a bottom adhesive layer 4, and an optically transparent top substrate 7 is made to adhere to the side of the diffraction grating 2 by a top adhesive layer 6.例文帳に追加

光学的透明下部基板3の上に、上面に凹凸状の回折格子2が形成された有機複屈折膜5を下接着層4で接着し、回折格子2の側に光学的透明上部基板7を上接着層6で接着する。 - 特許庁

Then p-type InAsP current blocking layers 2 are formed to fill up the recessed sections of the diffraction grating surface by introducing the substrate 1 into an atmosphere containing a gas containing an element that becomes a p-type impurity, and raising the temperature of the substrate 1 up to 600°C.例文帳に追加

次に、基板を、p型の不純物となる元素を含む気体を含む雰囲気中に導入して600℃まで昇温することにより、p型InAsPからなる,回折格子面を埋めるp型電流阻止層2を形成する。 - 特許庁

The semiconductor laser 33 with a semiconductor substrate 36, a laser layer 37 arranged on the semiconductor substrate, a waveguide 40 arranged parallel to the laser layer and a stripe shaped grating structure 39 is disclosed.例文帳に追加

半導体レーザ33であって、半導体基板36と、前記半導体基板上に配置されたレーザ層37と、前記レーザ層に平行に配置された導波路層40及びストライプ状のグレーティング構造体39とからなるものが開示される。 - 特許庁

The polarization separation element is produced by forming an optically anisotropic film 12 on an optically transparent first isotropic substrate 11, then forming a diffraction grating 14 having a rugged periodical structure on the surface of the film 12, filling the recesses of the grating with a transparent and optically isotropic resin 13, and further adhering an optically transparent second isotropic substrate 15 thereon.例文帳に追加

偏光分離素子10は、光学的に透明な第1の等方性基板11上に光学的異方性膜12を形成し、その表面に凹凸状の周期構造をもつ回折格子14を形成し、その格子の凹部に透明で光学的に等方性の樹脂13を埋め込み、さらに光学的に透明な第2の等方性基板15を接着してなる。 - 特許庁

In the DFB laser 1 having an MQW-SCH active layer 4 and a grating provided on the MQW-SCH active layer 4 in a lamination structure provided on an n-type semiconductor substrate 2, a difference is more than 150 meV between the oscillation wavelength of the DFB laser 1 and the wavelength of a compound semiconductor band gap constituting the grating layer 6 of the grating.例文帳に追加

n型半導体基板2上に設けられた積層構造内にMQW−SCH活性層4及びMQW−SCH活性層4上に設けられた回折格子を有するDFBレーザ1において、前記DFBレーザ1の発振波長と、前記回折格子の回折格子層6を構成する化合物半導体バンドギャップ波長の差が150meV以上であることを特徴とする。 - 特許庁

This organic EL display includes: a transparent substrate 1; a first electrode 2 formed on the transparent substrate 1; an organic light emission layer 3 formed on the first electrode 2; a second electrode 4 formed on the organic light emission layer 3; and a film 5 formed on the lower part of the transparent substrate 1 and having a two-dimensional grating pattern on the surface.例文帳に追加

透明基板1と、透明基板1上に形成される第1電極2と、第1電極2上に形成される有機発光層3と、有機発光層3上に形成される第2電極4と、透明基板1の下部に形成され、表面に2次元グレーティングパターンを有するフィルム5とから構成される。 - 特許庁

After forming a photosensitive material film 44 on the surface of a transparent substrate 41, the first hologram pattern 42 of the first area and the second hologram pattern 43 of the second area with different grating intervals are respectively developed as mask patterns 44a and 44b by a suitable exposure amount corresponding to the grating interval of each area.例文帳に追加

透明基板41の表面に感光材料膜44を形成した後、格子間隔の異なる第1領域の第1ホログラムパターン42および第2領域の第2ホログラムパターン43をマスクパターン44a,44bとして各領域の格子間隔に応じた好適な露光量でそれぞれ現像する。 - 特許庁

A gain coupling DFB laser including a mechanism to periodically modulate a gain in the resonator direction, namely diffraction grating G1, and an optical modulator including a mechanism to apply an inverse bias field to a waveguide layer 23A including the diffraction grating G2, namely electrode 28 are integrated face to face on the same substrate 21.例文帳に追加

共振器方向に周期的な利得の変調機構即ち回折格子G1を有する利得結合DFBレーザ及び回折格子G2を含む導波層23Aに逆バイアス電界を印加する機構即ち電極28を有する光変調器を同一基板21上で衝き合わせ集積化してなることを特徴とする。 - 特許庁

The light diffusing body which diffuses light is obtained by arranging diffraction grating cells each comprising a diffraction grating formed by disposing plural curves of the same shape nearly parallel to one another in a prescribed direction on a planar substrate comprising a light reflecting or light transmissive material in an array or matrix form.例文帳に追加

光を拡散させる光拡散体において、光反射性または光透過性を有する材質からなる平面状の基板に、同一形状の複数の曲線を所定方向に互いにほぼ平行に並設してなる回折格子から構成される回折格子セルを、アレイ状またはマトリクス状に複数個配設して成る。 - 特許庁

A semiconductor laser light emitting device has an optical waveguide 15 formed on a substrate 11 and the semiconductor laser element 20 mounted on the optical waveguide 15, and includes a diffraction grating 18 with a periodic structure formed in the optical waveguide 15, the semiconductor laser element 20 being mounted on the diffraction grating 18.例文帳に追加

基板11上に形成された光導波路15と、前記光導波路15上に実装された半導体レーザ素子20を有し、前記光導波路15に周期構造を有する回折格子18が形成され、前記半導体レーザ素子20は前記回折格子18上に実装されている。 - 特許庁

A DFB laser device 10, an embedding hetero type having an oscillation wavelength of 1,550 nm, comprises, on an n-InP substrate 12, an n-InP buffer layer 14, an active layer 16, a p-InP spacer layer 18, a grating 20 consisting of GaInAsP layer, and a lamination structure of p-InP first cladding layer 22 in which a grating is embedded.例文帳に追加

DFBレーザ素子10は、発振波長が1550nmの埋め込みへテロ型であって、n-InP基板12上に、n-InPバッファ層14、活性層16、p-InPスペーサ層18、GaInAsP層からなる回折格子20、及び回折格子を埋め込んだp-InP第1クラッド層22の積層構造を備える。 - 特許庁

A dielectric multilayer film including two dielectric layers is disposed on a diffraction grating on a substrate, in a thickness larger than the steps of the diffraction grating in a first cycle of laminating, the size of the steps is multiplied integral number of times against as the total thickness of the two dielectric layers, and only the same dielectric layer is made continuous on the steps.例文帳に追加

積層の1周期に2つの誘電体の層を含む誘電体多層膜を、回折格子上にその段差以上の厚さで設けるとともに、回折格子の段差の大きさを2つの誘電体の層の厚さの和の整数倍として、段差上で同一の誘電体層のみを連続させる。 - 特許庁

This scale 50 has a substrate 10 having a smooth surface and a reflecting film covering the surface of the substrate, and an irregular grating 30 in which linear recesses 32 and linear projections 31 are formed in parallel at the specified periods in at least a part of the reflecting film.例文帳に追加

このスケール50は、表面が平滑な基板10と、この基板表面を覆う反射膜とを有し、この反射膜の少なくとも一部には、線状の凹部32と凸部31とが所定の周期で平行に形成されてなる凹凸格子30が設けられている。 - 特許庁

The asymmetric diffraction grating area 200A includes a transmitting substrate 21, transflective halftone films 22 selectively and periodically laid at a prescribed pitch on the transmitting substrate 21, and a plurality of light-shielding films 23 formed on the respective halftone films 22.例文帳に追加

非対称回折格子領域200Aは、透過基板21と、透過基板21上に選択的かつ所定ピッチで周期的に配置された半透過性の複数のハーフトーン膜22と、ハーフトーン膜22のそれぞれに形成された複数の遮光膜23とを備える。 - 特許庁

Alternatively, the notch filter includes a diffraction grating configured by parallel arranging a large number of metal wires on a transparent substrate and disposing a film of a low attenuation material whose refractive index has an imaginary part of ≥0 and ≤0.3 on surfaces of the metal wires opposite to the substrate.例文帳に追加

透明な基板上に金属線を平行に多数配置し、該金属線の基板と反対側の表面に、屈折率の虚数部が0以上0.3以下である低減衰材料からなる膜を配置して構成される回折格子からなる前記のノッチフィルター。 - 特許庁

Circular marks 302 are respectively formed on many grating points of the substrate 300, and each component 20 is loaded on a supposed loading position which is separated by equal distances from four adjacent circular marks 302.例文帳に追加

検査基板300の多数の格子点の各々に円マーク302を形成し、互いに隣接する4個ずつの円マーク302から等距離の装着予定位置の各々に部品20を装着する。 - 特許庁

To provide a semiconductor light-emitting device which is formed on the GaAs substrate and has a quantum dot active layer, the semiconductor light-emitting device being improved in yield by making it possible to form a diffraction grating in a semiconductor laminated structure.例文帳に追加

GaAs基板上に形成され、量子ドット活性層を備える半導体発光素子において、半導体積層構造の内部に回折格子を形成できるようにし、歩留まりを良くする。 - 特許庁

Thus, a tracking error can be detected or the like with high accuracy because the light receiving position of ± primary light on a photodetector 3 is prevented from fluctuating due to the fluctuation of the substrate thickness of the diffraction grating.例文帳に追加

従って、回折格子基板厚さの変動に起因して、受光素子3上における±1次光の受光位置が変動してしまうことがないので、トラッキングエラー検出等を精度良く行なうことができる。 - 特許庁

In the process, a die member 5 for filling the application solution in the slots 12a is mounted to the glass substrate 11 to inject the application solution into a space between the die member 5 and the diffraction grating 12.例文帳に追加

そして、この工程では、ガラス基板11に、塗布液を溝12a内に充填するための型部材5を取り付けて、型部材5と回折格子12との間隙に塗布液を注入する。 - 特許庁

To provide an inexpensive and small-sized optical multiplexer/demultiplexer with small polarization dependency as an optical multiplexer/demultiplexer which uses a diffraction grating and an optical waveguide substrate and multiplexes and demultiplexes light beams having multiple wavelengths.例文帳に追加

回折格子と光導波路基板を用いた複数の波長の光を合分波する光合分波器において、安価で、小型で、偏波依存性が小さい光合分波器を提供すること。 - 特許庁

Input waveguides 12(1)-12(8), a slab waveguide 14, an array waveguide grating 16, a slab waveguide 18 and output waveguides 20(1)-20(8) are formed in series on the surface of a substrate 10.例文帳に追加

基板10の表面に入力導波路12(1)〜12(8)と、スラブ導波路14と、アレイ導波路格子16と、スラブ導波路18と、出力導波路20(1)〜20(8)とを直列に形成する。 - 特許庁

The analyzing element comprises the diffraction grating 5 formed by discretely laminating thin films 4 on a flat surface supported to a substrate 2, and a metal film formed by selecting any of a layer 3 for imparting the flat surface and the films 4.例文帳に追加

基板2に支持された平面上に薄膜4を離散的に積層することによって回折格子5を形成し、上記の平面を与える層3と上記薄膜4の何れかを金属膜とする。 - 特許庁

To provide an optical apparatus using a double-groove diffraction grating controlling light such as laser from a coherent light source, coupling, dispersing, reflecting and delaying it in cooperation with a light transmissive substrate.例文帳に追加

レーザーのようなコヒーレント光源からの光を制御し、カップリングし(couple)、分光し、反射し、且つ遅延させるべく、光透過性基板と協働して二つ溝(double-groove)の回折格子を使用する光学装置の提供。 - 特許庁

例文

This joined optical device has optical performance equal to a diffraction optical device obtd. by forming a diffraction grating on a substrate of 20.725 mm thickness and enough stiffness of about 817 times is secured.例文帳に追加

この接合された光学素子は、厚さが20.725mmの基板に回折格子を形成した回折光学素子と同等の光学性能を示し、かつ約817倍の十分な剛性が確保される。 - 特許庁




  
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