「grating substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To reduce the difference between an oscillation wavelength and a gain peak wavelength in a DFB laser element where a grating is provided between an active layer and a semiconductor substrate.例文帳に追加

活性層と半導体基板との間に回折格子が設けられるＤＦＢレーザ素子において、発振波長と利得ピーク波長との差を小さくする。 - 特許庁

A diffraction grating 102 equipped with a λ/4 phase shifter 103 is formed on a semiconductor substrate 101, and an optical guide layer 104 is formed thereon.例文帳に追加

半導体基板１０１上にλ／４位相シフト部１０３を持つ回折格子１０２を形成し、その上に光ガイド層１０４を形成する。 - 特許庁

Diffraction grating grooves 110 having the reflection surface corresponding to a specific crystal plane is formed by the anisotropic etching of a substrate by selecting a single crystal substrate with a known angle to the crystal plane, on the surface of which the substrate exists.例文帳に追加

表面が基板のある結晶面に対して分かった角度である単結晶基板を選択することにより、基板の異方性エッチングにより、特定の結晶面に対応する反射表面を有する回折格子の溝を形成できる。 - 特許庁

The cap 46 is positioned with respect to the heater element 36 by forming a step on the quartz substrate 30, and the fiber grating 44 is easily positioned with respect to the heater element 36 by inserting the fiber grating 44 into the groove of the cap 46.例文帳に追加

石英基板３０に段差を形成することでキャップ４６をヒータエレメント３６に対して位置決めし、キャップ４６の溝内にファイバグレーティング４４を挿入することでファイバグレーティング４４をヒータエレメント３６に対して容易に位置決めする。 - 特許庁

The DFB laser element 52 has the laminated structure of an MQW-SCH layer, a p-InP spacer layer, a diffraction grating whose period is about 240 nm, and a p-InP buried layer for the diffraction grating on the surface of an n-In substrate.例文帳に追加

ＤＦＢレーザ素子５２は、ｎ−ＩｎＰ基板上に、ｎ−ＩｎＰバッファ層、ＭＱＷ−ＳＣＨ層、ｐ−ＩｎＰスペーサー層、周期が約２４０ｎｍの回折格子、及び回折格子のｐ−ＩｎＰ埋め込み層の積層構造を有する。 - 特許庁

Consequently, although the lower section of the supporting portion 16 is displaced by the heat of the substrate 11, because the holder 15 is interposed between the displaced section and the diffraction grating 14, displacement of the support portion 16 does not directly affect the diffraction grating 14.例文帳に追加

従って、基板１１の熱で支持部１６の下部は変位するが、この変位部分と回折格子１４との間にはホルダ１５が介在しているので、支持部１６の変位が回折格子１４に直接影響することが無くなるようにした。 - 特許庁

The wavelength multiplexer/demultiplexer 10 is constituted by providing a diffraction grating 11 as a 1st deflecting means on one surface side of an optical substrate 13 made of synthetic quartz and a grating 12 as a 2nd deflecting means on the other surface side respectively.例文帳に追加

合成石英製光学基板１３の片面側に、第１の偏向手段として回折格子（グレーティング）１１を、他面側に第２の偏向手段としてのグレーティング１２をそれぞれ設けることで、波長合分波器１０を構成する。 - 特許庁

A V-groove 2 is formed in a polyethylene substrate 1 with an extremely large linear expansion coefficient, and an optical fiber 6 of which the core 3 having fiber grating 4 is arranged at the center part of a clad 5 is pasted in the V-groove 2 with a polymeric adhesive into one body so that the fiber grating 4 is positioned on the polyethylene substrate 1.例文帳に追加

線膨張率が極めて大きいポリエチレン基板１にＶ溝２を形成し、ファイバグレーティング４を有するコア３がクラッド５の中央部に設けられた光ファイバ６を、ファイバグレーティング４がポリエチレン基板１上に位置するように光ファイバ６をＶ溝２にポリマー系の接着材で接着して一体化する。 - 特許庁

A grating 3 is disposed at an angle different from that of a glass substrate 4 in order that an image sensor 8 may not receive reflected light by the grating 3, and only the light of the wavelength around 313 nm is introduced to the image sensor 8 by means of a band-pass filter 6 in order not to be influenced by the reflected light from the backside of the glass substrate 4.例文帳に追加

格子３からの反射光がイメージセンサ８に入らないように、格子３は、ガラス基板４とは異なる角度に配置し、また、バンドパスフィルタ６によって、波長が３１３ｎｍ付近の光だけをイメージセンサ８に導くようにして、ガラス基板４の裏面からの反射光の影響を受けないようにしておく。 - 特許庁

The light emitting device includes a substrate, a light-emitting layer arranged on the substrate and a grating which performs alignment of the light-emitting layer, wherein as a result of alignment of the light-emitting layer by such a grating structure, the device emits light that is at least partially and linearly polarized when it is used.例文帳に追加

本発明の発行デバイスは、基板と、該基板上に配置された発光層と、該発光層をアライメントするグレーティングとを含む発光デバイスであって、該グレーティング構造による該発光層のアライメントの結果として、該デバイスは、用いられるとき、少なくとも部分的に直線偏光された光を放射する。 - 特許庁

Then a float glass substrate 25 coated with an adhesive 26 is pressed against the master diffraction grating 12 and then peeled off to bond the metal thin film 21 and aluminum thin films 22 and 24 which have their surfaces sectioned in a saw-tooth shape to the float glass substrate 25 with the adhesive 26 interposed therebetween, thereby manufacturing the replica diffraction grating 10.例文帳に追加

そして、接着剤２６を塗布したフロートガラス基板２５をマスター回折格子１２に押しあてて引き剥がすことにより表面が断面鋸歯形状に成形された金薄膜２１とアルミニウム薄膜２２，２４が接着剤２６を介してフロートガラス基板２５に接着され、レプリカ回折格子１０が作製される。 - 特許庁

In the diffraction optical element 1, a first antireflection film 41 is formed on the surface of a periodical grating 2 by a dipping method including processes of immersing a glass substrate 3 on which the periodical grating 2 is formed in a vessel 51 reserving a liquid 40 of the antireflection material, drawing the substrate up and drying by blowing hot air F.例文帳に追加

回折光学素子１では、周期格子２が形成されたガラス基板３を、反射防止材料の液体４０を溜めた容器５１に浸漬してから、引き上げて温風Ｆにより乾燥する工程からなるディッピング法により、周期格子２の表面に第１の反射防止膜４１を形成する。 - 特許庁

In the waveguide grating element 21 having a grating 2 in a waveguide 14 formed in a quartz substrate 11, the quartz substrate 11 is provided with a distortion adjusting mechanism 23 to control the distortion of the grating 2 by connecting both ends of the waveguide 14 in the longitudinal direction with a member having a higher coefficient of linear expansion than that of quartz and by varying the distance between both ends.例文帳に追加

石英基板１１に形成された導波路１４にグレーティング２が形成された導波路グレーティング素子２１において、上記石英基板１１に、上記導波路１４長手方向の両端を石英よりも線膨張係数の大きい部材で繋ぎ合わせて把持すると共にその両端間の距離を変更することによって、上記グレーティング２の歪み量を調整する歪み量調整機構２３を設けた。 - 特許庁

In a diffraction element 30 having a rectangular grating 302 which is formed on a surface of a transparent substrate 301 whose cross-section is a recessed and protruding shape and in which each of the projections is symmetrical, a period of the grating is equal to or smaller than a wavelength of incident light and the diffraction element 30 is adopted so that the light is incident obliquely to its surface where the grating is formed.例文帳に追加

透明基板３０１の表面に形成された、断面が凹凸状でかつ凸部が対称な矩形格子３０２を有する回折素子３０において、格子の１周期が入射する光の波長と等しいか小さく、かつ回折素子３０の格子形成面に光が斜めに入射して用いられる回折素子とする。 - 特許庁

Crystal defects for inhibiting normal epitaxial growing on a surface of a substrate are provided onto the surface of the substrate in a grating form so as to grow normal epitaxial films on the small divided regions, thereby releasing the occurrence of an internal stress.例文帳に追加

基板表面に、その上の正常なエピタキシャル成長を阻害するような結晶欠陥を格子状に設け、正常なエピタキシャル膜を小区画に分割して成長させて、内部応力を解放する。 - 特許庁

In two cipher images generated by the visual secret sharing scheme, a cipher image by a diffraction grating 22 is formed on a substrate 21, and a cipher image by a concealing layer is formed on a transparent substrate 25.例文帳に追加

視覚復号型秘密分散法により生成される２つの暗号画像のうち、基材２１上に回折格子２２による暗号画像を配置し、透明基材２５上に隠蔽層２６による暗号画像を配置する。 - 特許庁

In a SAW device that uses a quartz substrate, an IDT 2 constituted of a plurality of electrode fingers mutually inserted and grating reflectors 3a and 3b positioned on both sides of the IDT 2 are disposed on a piezoelectric substrate 1.例文帳に追加

水晶基板を用いたSAWデバイスにおいて、圧電基板１上に、それぞれ互いに間挿し合う複数本の電極指からなるＩＤＴ２と、該ＩＤＴ２の両側にグレーティング反射器３ａ、３ｂを配置する。 - 特許庁

To provide a position detecting mark which is used for optically detecting the position on a substrate surface and can surely detect the positions of diffraction grating patterns etc., disposed in multiplicity on the substrate surface.例文帳に追加

基材上の位置を光学的に検出するための位置検出マークにおいて、基材上に多数配設された回折格子パターンなどの位置を確実に検出可能な位置検出マークを提供することである。 - 特許庁

This diffraction grating 10 for hologram recording is so constructed that a shielding line 12 of a line and space pattern is formed on the surface of a transparent substrate 11 formed of glass, and a protective film 13 having the index of refraction equal to the index of refraction of the transparent substrate 11 is formed on the surface of the transparent substrate 11 including the shielding line 12.例文帳に追加

ガラスでなる透明基板１１の表面にラインアンドスペース・パターンの遮光ライン１２が形成され、遮光ライン１２を含む透明基板１１の表面に透明基板１１の屈折率と同等な屈折率を有する保護膜１３を形成する。 - 特許庁

The semiconductor substrate manufacturing method comprises forming the SiGe film on the substrate having a silicon layer on its surface, forming a mask pattern having grating-shaped grooves on the SiGe film, injecting ions to the substrate through the mask pattern, and then performing heat processing.例文帳に追加

表面にシリコン層を有する基板上に、ＳｉＧｅ膜を形成し、該ＳｉＧｅ膜上に格子状の溝を有するマスクパターンを形成し、該マスクパターンをとおして基板にイオン注入し、熱処理を行う半導体基板の製造方法が提供される。 - 特許庁

Thus, on the substrate, there are disposed both of the cells in which a diffraction grating pattern for constituting the display image has been formed and the cells in which the minute images recognized only by magnification observation have been formed, thereby constituting a diffraction grating pattern including hidden minute images.例文帳に追加

これにより、基材上に、表示画像を構成するための回折格子パターンが形成されたセルと拡大観察しなければ認識が困難な微小画像が形成されたセルの双方を設け、隠蔽微小画像を含む回折格子パターンを構成する。 - 特許庁

Analysis light r5 made incident to a diffraction grating G101 is dispersed by the diffraction grating G101 and vertically moves toward an analysis light derivation unit A101 formed on a surface P101 of a first substrate part 101 as dispersed analysis light r6.例文帳に追加

回折格子Ｇ１０１に侵入した分析光ｒ５は、回折格子Ｇ１０１によって分光され、分光された分析光ｒ６として、第１基材部１０１の表面Ｐ１０１に形成される分析光導出部Ａ１０１に向かって垂直に進行する。 - 特許庁

To provide an information recording medium which can securely perform authenticity determination even when a substrate having a fine diffraction grating element with a diffraction grating disposed on its surface has poor surface smoothness and has a higher-level forgery prevention effect.例文帳に追加

表面に回折格子を有する微小な回折格子要素を配した基板の表面平滑性が悪い場合でも、確実に真贋判定を行うことが可能であると共に、より一層高度な偽造防止効果を備えた情報記録媒体を提供すること。 - 特許庁

The optical transmitter-receiver 100 comprises a transparent substrate 110 where a surface light emitting laser 10 is mounted, a transparent substrate 111 where a photodetector 12 is mounted, a transparent substrate 112 where gratings 16, 20 are formed, and a transparent substrate 113 where a grating 18 is formed, all substrates are laminated to form layers.例文帳に追加

光送受信機１００は、面発光レーザ１０が実装された透明基板１１０と、フォトディテクタ１２が実装された透明基板１１１と、回折格子１６、２０が形成された透明基板１１２と、回折格子１８が形成された透明基板１１３を層状に貼り合わせて構成されている。 - 特許庁

Consequently, the pattern forming system attains to properly form the pattern approximate to the grating form on the substrate 9 while discharging the pattern forming material from the plurality of the discharge openings.例文帳に追加

これにより、パターン形成材料を複数の吐出口から吐出しつつ基板９上に格子状に近いパターンを適切に形成することが実現される。 - 特許庁

A spectral module 1 comprises a package body 2, a package cover 7 and a supporting substrate 11, a transmission type grating element 13, a mirror element 20, and an optical detection element 15.例文帳に追加

分光モジュール１は、パッケージ本体２と、パッケージ蓋７及び支持基板１１と、透過型グレーティング素子１３と、ミラー素子２０と、光検出素子１５と、を備えている。 - 特許庁

This is an OADM in which a Mach-Zehnder(MZ) interferometer, a grating and a thermo-optic(TO) switch are integrated on a silicon substrate.例文帳に追加

上記の課題を解決する方法として、本発明においてはシリコン基板上にＭＺ干渉計とグレーティングとＴＯスイッチとを集積したＯＡＤＭを提案する。 - 特許庁

To provide a high-definition semiconductor substrate where the crystal defect of a single crystal semiconductor layer caused by the difference of a grating constant and a coefficient of thermal expansion is reduced.例文帳に追加

格子定数及び熱膨張係数の差に起因して生じる単結晶半導体層の結晶欠陥を低減した高品の半導体基板の提供。 - 特許庁

The optical device 10 is equipped with an optical fiber 4 having a diffraction grating 6 formed, and the optical fiber 4 is adhered and fixed to the substrate 1 with a second adhesive 5.例文帳に追加

光学装置１０は回折格子部６が形成された光ファイバ４を備え、この光ファイバ４は第２接着剤５により基材部１に接着固定される。 - 特許庁

A birefringent film 13 having a grating of recesses and projections and a transparent substrate 12 are adhered with a multilayered adhesive layer 15 including a first adhesive layer 15a and a second adhesive layer 15b.例文帳に追加

凹凸格子を有する複屈折膜１３と透明基板１２とを、第１接着剤層１５ａ、第２接着層１５ｂを含む多層の接着層１５で接着する。 - 特許庁

A two-dimensional diffraction grating 24 is provided so as to determine the wavelength of light to be generated in the active layer 16 and extends along the direction in which the main surface of the substrate 10 extends.例文帳に追加

２次元回折格子(24)は、活性層(16)において発生されるべき光の波長を規定するように設けられ、基板(10)の主面が延びる方向に沿って延びている。 - 特許庁

To provide a grating trim retarder fabricated from a form-birefringent multi-layer dielectric stack including at least one anti-reflection coating and supported on a transparent substrate.例文帳に追加

少なくとも１つの反射防止コーティングを含み、透明基板の上において支持される形態複屈折多層誘電体スタックから製作された格子トリム・リターダを提供する。 - 特許庁

Then, the fiber grating 4 pasted to the polyethylene substrate 1 into one body is also expanded (contracted), and the Bragg wavelength is shifted to the longer wavelength side (shorter wavelength side).例文帳に追加

このとき、ポリエチレン基板１に接着されて一体化しているファイバグレーティング４も伸縮（収縮）され、Bragg波長が長波長側（短波長側）にシフトすることとなる。 - 特許庁

Thus, the miniaturization of the OADM and the low insertion loss are realized by integrating the MZ interferometers in which the grating is written and the TO switch on the silicon substrate.例文帳に追加

グレーティングを書き込んだＭＺ干渉計とＴＯスイッチとをシリコン基板上に集積することにより小型化と低挿入損失とを実現することができる。 - 特許庁

The grating element 13 is supported by the substrate 11, and splits the light L incident from the outside of the cavity 3 and transmits such to the bottom surface 3b of the cavity 3.例文帳に追加

グレーティング素子１３は、基板１１によって支持されており、空洞３外から入射した光Ｌを分光すると共に空洞３の底面３ｂ側に透過させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a nitride semiconductor substrate having a less fluctuation in the direction of a grating surface in the surface and between substrates from a curved nitride semiconductor crystal.例文帳に追加

湾曲した窒化物半導体結晶から、面内および基板間で格子面方向のばらつきが少ない窒化物半導体基板を得る方法を提供する。 - 特許庁

An active layer 2 is provided on an n-type InP substrate 1 while a diffraction grating 5 and a p-type InP clad layer 4 are provided on the active layer 2.例文帳に追加

ｎ型ＩｎＰ基板１の上には活性層２が設けられており、活性層２の上方には、回折格子５およびｐ型ＩｎＰクラッド層４が設けられている。 - 特許庁

To provide a method for forming an oxide superconducting thin film on a sapphire substrate which can improve film characteristics by reducing grating mismatching with the oxide superconducting thin film.例文帳に追加

酸化物超伝導体薄膜との格子ミスマッチを緩和し、膜特性向上を図ることができるサファイア基板への酸化物超伝導薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

This optical apparatus employs a double-groove diffraction grating having periodic sets of TiO_2 elements 14 and 16 on one or more surfaces 12 of an SiO_2 substrate 10.例文帳に追加

光学装置は、ＳｉＯ_2基板１０の一つ以上の表面１２上に周期的なＴｉＯ_2要素１４，１６の組を有する二つ溝の回折格子を使用する。 - 特許庁

A plurality of protrusion parts 3 are formed by using a polyimide having birefringence as a grating material on a glass transparent substrate 2 composed of a transparent base material such as glass.例文帳に追加

ガラス等の透明基材からなるガラス透明基板２上に、格子材料として、複屈折性を有するポリイミドを用いて突条部３を形成するようにしている。 - 特許庁

To provide a method for forming a diffraction optical grating of high diffraction efficiency, with which the deterioration in a shape is reduced in forming a step-wise diffraction structure by etching a substrate.例文帳に追加

基板をエッチングして階段状回折構造を形成する際に、形状の劣化を少なくして回折効率の高い回折光学格子の形成方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture an optical circuit member higly precisely and inexpensively by forming an alignment marker to a lens forming pattern substrate simultaneously with the formation of a diffraction grating for optical coupling in a waveguide.例文帳に追加

導波路に光結合用の回折格子を形成すると同時にレンズ形成用型基板とのアライメントマーカを形成して、高精度で低コストで製造するようにする。 - 特許庁

In a second embodiment, linear photodiode array is formed on the substrate, the diffraction grating of variable space is formed in a metallization layer, and a series collar sensor is provided.例文帳に追加

第２の実施態様において、線形フォトダイオードアレイが基板上に形成され、間隔が変化する回折格子が金属層に形成されて、連続カラーセンサを提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of a diffraction grating structure for coupling light into or out of the high refractive index dielectric film on a substrate, a high refractive index dielectric film and/or a substrate is irradiated with UV laser beams that are subjected to simultaneous, spatially periodic intensity modulation and, moreover, the period of intensity modulation is selected in accordance with a desired grating period.例文帳に追加

基板上の高屈折率の誘電皮膜に光を結合及び解離するための回折格子構造を製造する方法において、高屈折率の誘電皮膜及び／又は基板に、同時空間的に周期的に強度変調した紫外レーザー光を照射し、しかも強度変調の周期を所望の格子周期に対応して選択する。 - 特許庁

In the quantum well structure formed by an organic metal vapor growth method on an InP substrate 13 and containing a quantum well layer 10 having a grating constant larger by 2% or more than a grating constant of the InP substrate 13, the quantum well layer 10 is formed at a growth temperature of 440 to 510°C and at a growth rate of 1.5 μm/hour or larger.例文帳に追加

ＩｎＰ基板１３上に有機金属気相成長法で形成され、該ＩｎＰ基板１３の格子定数に対して２％以上大きい格子定数を有する量子井戸層１０を含む量子井戸構造において、前記量子井戸層１０は、成長温度が４４０℃以上５１０℃以下、かつ、成長速度が１．５μｍ／時以上で形成した。 - 特許庁