「inductive-coupling」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an integrated circuit which performs communication between stacked semiconductor chips by inductive coupling at a rate faster than a system clock while reducing a required area.例文帳に追加

積層実装されるチップ間で誘導結合による通信を行う集積回路において、少ない所要面積でシステムクロックよりも高速に半導体チップ間の通信を行うことができる集積回路を提供すること。 - 特許庁

A Faraday shield 9 shielding a capacity coupling between the high frequency induction antennas and the plasma and making an inductive coupling is endowed with a power supply of an output from a high frequency power source 45 for the Faraday shield controlled by a phase controller 44 via a matching unit 46, based on monitoring by a phase detector 47-2.例文帳に追加

高周波誘導アンテナとプラズマ間の容量結合を遮断し誘導結合させるファラデーシールド９には、位相検出器４７−２による監視の基に、位相制御器４４から制御を受けたファラデーシールド用高周波電源４５からの出力が整合器４６を介して電源供給される。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device of an inductive coupling type capable of various and arbitrary controls not depending on process conditions or plasma states for a current distribution inside an RF antenna, with a burden made light of a high-frequency power feeding system.例文帳に追加

高周波給電系統の負担を軽くし、ＲＦアンテナ内の電流分布についてプロセス条件あるいはプラズマ状態に依存しない多様かつ任意な制御可能な誘導結合型のプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Transmission data is multiplexed at a rate faster than a system clock, and a timing pulse Txclk for multiplexing and a multiplexed signal Txdata are transferred from a transmission chip 100 to a reception chip 150, respectively, through communication by inductive coupling.例文帳に追加

送信データをシステムクロックよりも高速に多重化して、その多重化のためのタイミングパルスＴxclkと多重化信号Ｔxdataとを、それぞれ誘導結合による通信によって送信チップ１００から受信チップ１５０に転送する。 - 特許庁

In an inductive-coupling plasma processing apparatus 1, the protecting plate 41 functions as an anode electrode to a bias electric field formed by a high-frequency power supplied to a susceptor 22 from a high-frequency power supply 29.例文帳に追加

また、誘導結合プラズマ処理装置１では、保護プレート４１が、高周波電源２９からサセプタ２２に対して供給される高周波電力によって形成されるバイアス電界に対するアノード電極として作用する。 - 特許庁

To improve a device for coping with various problems caused by scale-up of the device in an inductive coupling plasma processing device where a dielectric wall is disposed at the ceiling of a processing chamber corresponding to a high frequency antenna.例文帳に追加

高周波アンテナに対応して処理室の天井に誘電体壁が配設された誘導結合プラズマ処理装置において、装置の大型化に伴って生じる種々の問題に対処するための改良を装置に加える。 - 特許庁

To provide a piezoelectric ceramic composition that mainly comprises PbZrO3-PbTiO3-Pb(Sn1/3 Sb2/3)O3 and can be fired at a low temperature without large deterioration of the excellent electromechanical coupling factor and specific inductive capacity and its production.例文帳に追加

優れた電気機械結合係数や比誘電率を大きく劣化させることなく、低温での焼成が可能なＰｂＺｒＯ_3 −ＰｂＴｉＯ_3 −Ｐｂ（Ｓｎ_1/3 Ｓｂ_2/3 ）Ｏ_3 を主体とする圧電磁器組成物とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent inductive coupling between adjacent resonators from becoming too strong with miniaturization, while preventing reductions in Qs of all the resonators, in an electronic component including a plurality of resonators provided within a layered substrate.例文帳に追加

積層基板内に設けられた複数の共振器を備えた電子部品において、全ての共振器のＱが低下することを防止しながら、小型化に伴って、隣接する共振器間の誘導性結合が強くなりすぎることを防止する。 - 特許庁

One inductive component L7a of a first mutual inductance is connected between an input port 1 and an input side of a first filter circuit 3, the other inductive component L8a of the first mutual inductance is connected between an output port 2 and an output side of the first filter circuit 3, to apply an interlacing magnetic coupling between the input and output of the first filter circuit 3.例文帳に追加

入力ポート１と第１のフィルタ回路３の入力側との間に第１の相互誘導インダクタンスの一方のインダクタンス成分Ｌ７ａを接続し、出力ポート２と第１のフィルタ回路３の出力側との間に第１の相互誘導インダクタンスの他方のインダクタンス成分Ｌ８ａを接続して、第１のフィルタ回路３の入出力間を飛越し磁界結合する。 - 特許庁

In the chamber of an inductive coupling type plasma etching apparatus, selective etching is made to the second insulating film 105 by a first etching gas using a fluorocarbon gas having a ring structure as a main constituent, and an upper section 108a of the hole is formed.例文帳に追加

誘導結合型プラズマエッチング装置のチャンバー内において、第２の絶縁膜１０５に対して、環構造を有するフルオロカーボンガスを主成分とする第１のエッチングガスにより選択的エッチングを行なって、ホールの上部１０８ａを形成する。 - 特許庁

In a dry etching method with an inductive coupling etching unit, an etching gas contains a chlorine gas and an etching step is carried out with a flow rate of chlorine gas of 0.0025 to 0.034 Pa.m3/sec under the atmosphere that doesn't contain an argon gas and nitrogen gas.例文帳に追加

誘導結合型のエッチング装置を用いるドライエッチング方法において、エッチングガスとして塩素ガスを含み、かつアルゴンガス及び窒素ガスを含まない雰囲気中であって、かつ塩素ガスの流量が0.0025Pa・m^3／sec以上0.034Pa・m^3／sec以下で当該エッチングを行なう。 - 特許庁

A probe 15 is interposed in a communication channel constituted of the inductive coupling by the first and second transmission coils 21a, 21b and the first and second reception coils 23a, 23b to test an LSI by a tester 11, buffers 12, 13, and a Tx/Rx switch 14.例文帳に追加

第１、第２送信コイル２１ａ、２１ｂ、及び第１、第２受信コイル２３ａ、２３ｂによる誘導性結合で構成される通信チャネルにプローブ１５を介入させて、テスタ１１、バッファ１２、１３、及びＴx／Ｒxスイッチ１４によってＬＳＩを試験する。 - 特許庁

To provide an inductive coupling plasma processing apparatus capable of suppressing a bent of a partition structure for partitioning between a processing chamber and an antenna chamber including a dielectric wall without the need for upsizing a support part of the dielectric wall and thickening the dielectric wall.例文帳に追加

誘電体壁の支持部分を大きくすることなく、しかも誘電体壁を厚くすることなく、誘電体壁を含む、処理室とアンテナ室との間を仕切る仕切構造の撓みを抑制することができる誘導結合プラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

By adjusting the current magnitude and the location of the maximum inductive coupling within each coil, the plasma density in different radial and azimuthal regions can be varied and controlled, and therefore radially and azimuthally uniform plasma can be achieved.例文帳に追加

各コイル内の電流の大きさおよび最大誘導結合の場所を調整することによって、異なる半径方向方位角領域内のプラズマ密度を変化させ制御することができ、したがって半径方向に方位角的に均一なプラズマを得ることができる。 - 特許庁

An amplifier circuit 3 comprises: a buffer amplifier transistor Tr1; an oscillation transistor Tr2; bias resistors R1 to R4; capacitors C4 to C7; bypass capacitors C1, C3, a coupling capacitor C2; a choke coil SL1; a resonance capacitor C8; and a resonance inductor SL3 acting as an inductive element.例文帳に追加

増幅回路３は、緩衝増幅用トランジスタＴｒ１と、発振用トランジスタＴｒ２と、バイアス抵抗Ｒ１〜Ｒ４と、コンデンサＣ４〜Ｃ７と、バイパスコンデンサＣ１，Ｃ３と、結合コンデンサＣ２と、チョークコイルＳＬ１と、共振用コンデンサＣ８と、インダクタンス素子である共振用インダクタＳＬ３とで構成されている。 - 特許庁

Since transfer by inductive coupling which is broadband super-proximity wireless communication is employed, the reception chip 150 can acquire the timing information of the timing pulse Txclk containing jitter generated from a simple oscillator faithfully, so that original data can be restored correctly even at high-speed transmission.例文帳に追加

広帯域な超近接無線通信である誘導結合による転送のため、受信チップ１５０では簡易な発振器で発生されたジッタを含むタイミングパルスＴxclkのタイミング情報を忠実に取得することができるので、高速伝送であってしかも正確に元のデータを復元することができる。 - 特許庁

A part or the whole of the injector tube of an inductive coupling plasma torch with which a carrier gas comes into contact is constituted of a solvent vapor, transmitting material to selectively transmit the solvent vapor evaporated from the liquid droplets of a sample during the passing period of the carrier gas through the injector tube.例文帳に追加

キャリヤーガスが接する誘導結合プラズマトーチのインジェクターチューブの一部又は全部を溶媒蒸気透過材で構成することによって、キャリヤーガスがインジェクターチューブを通過する間に試料液滴から蒸発した溶媒蒸気を選択的に透過させて除去する。 - 特許庁

The plasma P is generated in a region where inductive coupling is strong, so that the plasma density is enhanced and no deposit develops on the inside surface of the closed end part, and the high density plasma P never locally concentrates, so that the abrasion of the plasma generation container 2 never occurs.例文帳に追加

誘導性結合が強い範囲でプラズマＰが生成されるためプラズマ密度が高くなるとともに閉端部の内壁面に堆積物が生ずることがなく、高密度のプラズマＰが局所的に集中することもないのでプラズマ生成容器２の削れも生じない。 - 特許庁

An SOI substrate having a three-layer structure of the conductive silicon layer/silicon oxide layer/conductive silicon layer is prepared, and inductive coupling type plasma etching for removing selectively only silicon from the upper layer is performed, and L-shaped slits S1-S4 are carved, thereby to separate the substrate into a cross-shaped member 120 and fixed members 121-124.例文帳に追加

導電性シリコン層／酸化シリコン層／導電性シリコン層の３層構造をもったＳＯＩ基板を用意し、上層からシリコンのみ選択除去可能な誘導結合型プラズマエッチングを行い、Ｌ字形スリットＳ１〜Ｓ４を掘り、十字形部材１２０と固定部材１２１〜１２４とに分離する。 - 特許庁

To provide an equipment that generates a signal which operates on the antenna of a portable equipment and can be detected by the antenna of a fixed equipment while a modulating function maintains consistency to a remote power source function as to a remote communication equipment which operates by electromagnetically inductive coupling between a portable equipment and a fixed equipment.例文帳に追加

携帯装置と固定装置との間で電磁誘導結合により作動する遠隔交信装置において、変調機能が遠隔電源機能との整合性を維持しつつ、携帯装置のアンテナに作用するものであって、固定装置のアンテナで検出可能な信号を発生する装置を提供する。 - 特許庁

The power line communication device 1 employing a power line P as a transmission path includes an inductive coupling section 2 for injecting and/or taking a signal with respect to the power line P and receiving power form the power line P by being inductively coupled to the power line P.例文帳に追加

電力線Ｐを信号の伝送路として使用する電力線通信装置１であって、前記電力線Ｐに対して誘導結合することで、前記電力線Ｐに対する信号の注入及び／又は取出を行うとともに前記電力線Ｐから給電を受ける誘導結合部２を備えている。 - 特許庁

The operation part 50 calculates a change in the degree of the inductive coupling by a vector operation of the vector detected by the detecting part when the sensor part is driven by a prescribed driving signal by the driving part and of the reference vector stored in the storage part, thereby detecting the input object information on the input object input to the sensor part.例文帳に追加

演算部５０は、駆動部により所定の駆動信号でセンサ部を駆動したときに、検出部により検出されるベクトルと記憶部に記憶される基準ベクトルとをベクトル演算することにより電磁結合度の変化を算出し、センサ部に入力される入力体の入力体情報を検出する。 - 特許庁

The probe card includes: a thin film substrate 3 having a plurality of bump electrodes 3a provided on a first surface facing a wafer 4 at positions facing respective pad electrodes 4a and a non-contact pattern 3b electrically connected with the pad electrodes by capacitive coupling or inductive coupling; and a wiring board 2 arranged on the opposite side of the thin film substrate and provided with a plurality of electrodes 21a on positions facing bump back electrodes.例文帳に追加

ウェーハ４と対向する第１の面上で、且つ各パッド電極４ａと対向する位置に設けられた複数のバンプ電極３ａ及び容量性結合又は誘導性結合によりパッド電極と電気的に接続される非接触パターン３ｂを有する薄膜基板３と、薄膜基板の反対側に配置され、バンプ裏面電極と対向する位置に設けられた複数の電極２１ａを有する配線基板２とを備えている。 - 特許庁

The process further contains the process forming a high-density plasma from the process gas 28 in the process chamber 10 during the initial period by applying a power to an inductive coupling coil 26 and the process applying a bias towards a substrate 45 in the plasma, promoting the sputtering effect of the plasma and depositing a PSG film over the substrate during the initial period.例文帳に追加

さらに、プロセスは、誘導結合コイル２６にパワーを印加して上記初期期間中、プロセスチャンバ１０内のプロセスガス２８から高密度プラズマを形成する工程、上記プラズマを基板４５に向かってバイアスをかけ、プラズマのスパッタリング効果を促進させ、上記初期期間中、基板にわたりＰＳＧ膜を堆積させる工程を含む。 - 特許庁

This communication system includes of a transponder and a reader/writer carrying out proximal wireless communication by an inductive coupling method, wherein determination of whether the transponder is brought close to the reader/writer becomes accurate because electric field intensity is drastically changed with respect to distance, and can start communication according to the intention of a user carrying out an operation bringing the transponder close to the reader/writer.例文帳に追加

通信システムは、誘導結合方式により近接無線通信を行なうトランスポンダ及びリーダライタで構成され、距離に対し電界強度が急峻に変化するので、近接させたか否かの判断が正確になり、リーダライタにトランスポンダを近づける動作を行なうユーザの意図に応じて通信を開始させることができる。 - 特許庁

The light emitting element drive circuit comprises a first differential switching circuit for driving a light emitting element, and a second differential switching circuit connected with an inductive load wherein steep rising/falling of optical output from the light emitting element is realized at the time of lighting/unlighting by performing AC coupling of two differential switching circuits with a capacitor thus achieving optical communication with higher rate.例文帳に追加

発光素子を駆動させる第１の差動スイッチング回路と、誘導負荷を接続した第２の差動スイッチング回路を有し、前記２つの差動スイッチング回路をコンデンサにより交流結合することによって、点灯時および消灯時の発光素子の光出力の急峻な立上がりと立下りを実現し、より高速な光通信を可能にした。 - 特許庁

The antenna device for performing radio communication by inductive coupling is equipped with: a loop antenna in which a conductor is wound in a planar shape; and a metal plate positioned to be shifted into a first direction from the loop antenna and for partially surrounding circumference of the loop antenna by being viewed from the first direction, wherein an end portion of the metal plate is overlapped with a part of the loop antenna by being viewed from the first direction.例文帳に追加

誘導結合による無線通信を行うアンテナ装置において、平面状に導体が巻き線されたループアンテナと、前記ループアンテナとは一の方向でずれて位置し、前記一の方向から見て前記ループアンテナの周囲を部分的に囲む金属板と、を備え、前記金属板の端部は、前記一の方向から見て、前記ループアンテナの一部と重なっている。 - 特許庁

An electric circuit board 336 is disposed facing a lower main surface (the other main surface) of an electrode substrate 332 disposed with a plurality of first electrodes 333 and is formed with a plurality of wires 337 at ends of wiring regions Ra of the plurality of first electrodes 333 corresponding one-to-one therewith on the electric circuit board 336 so as to be electrically connected to the plurality of first electrodes 333 by inductive coupling.例文帳に追加

複数の第１電極３３３が配置された電極基板３３２の下方主面（他方主面）に対向して電気回路基板３３６が配置されるとともに、当該電気回路基板３３６に対し、複数の第１電極３３３の配線領域Ｒａ上の端部に一対一で対応して複数の配線３３７が形成されて誘導結合により複数の第１電極３３３とそれぞれ電気的に接続される。 - 特許庁