「layer pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(70ページ目) - Weblio英語例文検索

Therefore, limitation of a recess/projection shape of the recess/projection pattern 22A which can be formed on the outer periphery surface of the base layer 22 can be suppressed even when the outer periphery surface of the base layer 22 is curved.例文帳に追加

このため、ベース層２２の外周面が湾曲されている場合でも、ベース層２２の外周面に形成できる凹凸柄２２Ａの凹凸形状が制限されることを抑制できる。 - 特許庁

A conductive layer 2 is formed uniformly on the surface of an insulating basic material 1, and an oxide film 4 is formed in the unwanted region of the conductive layer 2, other than a region for forming a required wiring pattern.例文帳に追加

絶縁基材１面に一様に導電層２を形成し、導電層２に於ける所要の配線パタ−ンを形成する領域以外の不要な領域に酸化膜４を形成する。 - 特許庁

The recording medium 10 has a structure comprising a front cover glass 11, a random pattern layer 12, an intermediate cover glass 13, a hologram recording layer 14 and a rear cover glass 15 successively layered.例文帳に追加

記録媒体１０は、前面カバーガラス１１、ランダムパターン層１２、中間カバーガラス１３、ホログラム記録層１４及び後面カバーガラス１５を順番に積層した構造を有する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a laminated electronic component, capable of increasing bonding strength between an internal electrode pattern and a dielectric layer while maintaining a function as the dielectric layer.例文帳に追加

誘電体層としての機能を維持しつつ内部電極パターンと誘電体層との間の接合強度を高めることができる積層型電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The first non-conductive patterns 30, 31, and 32 are placed so that the pattern density is uniform within the same layer, thereby planarizing the surface of the insulator layer to be formed thereupon.例文帳に追加

第１の非導電性パターン３０，３１，３２は、パターン密度が同一層内において均一になるように配置され、その上に形成される絶縁層の表面が平坦化される。 - 特許庁

On a side surface of a peripheral edge of the coating resin layer 2, a crack induction pattern 3 to alleviate stress occurring on the interface between the coating resin layer 2 and the heater board 1 is formed.例文帳に追加

被覆樹脂層２の外周縁部の側面には、被覆樹脂層２とヒーターボード１との界面に生じる応力を緩和するためのクラック誘発パターン３が形成されている。 - 特許庁

To provide a method of obtaining a decorative molded article which faithfully reflects an irregular shape of a skin protective layer and has a fine relief pattern (irregular shape) having high designability on the skin layer.例文帳に追加

表皮保護層の凹凸形状を忠実に反映し、デザイン性の高い繊細なレリーフパターン（凹凸形状）を表皮層に有する加飾成形物品を得る方法を提供する。 - 特許庁

Then a mask 14 is formed on the foundation layer 12 in a pattern-like form and an initial epitaxially-grown layer 16 having facets 15 and composed of a III nitride is formed through the mask 14.例文帳に追加

次いで、下地層１２上にマスク１４をパターン状に形成し、マスク１４を介してファセット１５を有し、III族窒化物からなる初期エピタキシャル成長層１６を形成する。 - 特許庁

A circuit constituent 102 is provided with: a base material 21 containing resin and a functional pattern layer 20 containing a metallic foil fixed through an adhesive layer 22 on the surface of the base material 21.例文帳に追加

回路構成体１０２は、樹脂を含む基材２１と、基材２１の表面の上に接着剤層２２を介在して固着された金属箔を含む機能パターン層２０とを備える。 - 特許庁

If the sticker 10 for preventing vehicle theft once stuck is stripped, the self-destruction type film layer 13 and the printed layer 14 are destroyed together with the prescribed pattern and the vehicle information.例文帳に追加

貼付された車両盗難予防用ステッカー１０を剥がすと、自己破壊型のフイルム層１３および印刷層１４が所定のパターンおよび車両情報とともに破壊される。 - 特許庁

It is then developed to form a negative resist pattern which is used as a mask for etching a first conductive layer thus forming a first metallization layer 11a.例文帳に追加

その後、現像処理を施すことによりネガレジストパターンを形成し、これをマスクとして第１導電層にエッチングを施すことにより第１金属配線層１１ａを形成する。 - 特許庁

The optical diffraction structure comprises an emboss formed layer generating optical diffraction and a metal reflective layer so that the hidden pattern can be developed by the interference or moire thereof with the discrimination device.例文帳に追加

光回折構造体は、光回折を生じさせるエンボス形成層と金属反射層を有し、隠しパターンが判別具との干渉またはモアレにより出現するものとすることかできる。 - 特許庁

The flexible printed board 1a is formed three-dimensionally by performing vacuum pressure forming after forming the circuit pattern layer 3, the circuit protective layer 5 and the design print layers 6, 7.例文帳に追加

そして、フレキシブルプリント基板１ａは、回路パターン層３、回路保護層５、意匠印刷層６，７の形成後に真空圧空成形を施すことによって、立体的に成形されている。 - 特許庁

An alignment mark M for performing pattern formation by irradiating electron beam is formed so as not to penetrate an active Si layer 53 to prevent charge-up in a box layer 52.例文帳に追加

電子線照射によるパターン形成を行うためのアライメントマークＭは、活性Ｓｉ層５３を貫通することのないように形成し、ボックス層５２におけるチャージアップを防ぐようにした。 - 特許庁

The transfer layer 13 constituting the pattern P is constituted of the metal membrane part 13h on the surface protective layer 12 and the ink part 13i superposed on the metal membrane part 13h.例文帳に追加

図柄Ｐを構成する転写層１３を表面保護層１２上の金属薄膜部分１３ｈと該金属薄膜部分１３ｈに重ね合わせたインキ部分１３ｉとで構成する。 - 特許庁

A metal pattern of chromium oxide is deposited on the upper surface of a glass substrate, and a covering resin layer comprising a cured product of an acrylic resin and a urethane-based resin composition is applied on the coated resin layer.例文帳に追加

ガラス基板の上面に酸化クロムの金属パターンを被着させ、その上にアクリル系樹脂及びウレタン系樹脂組成物の硬化物からなる被覆樹脂層を被覆形成する。 - 特許庁

Since this mask pattern includes a phase component in addition to an amplitude component, in steps 33 and 34, the objective photomask having a phase shifting layer disposed on a transmissivity modulating layer is produced.例文帳に追加

このマスクパターンは振幅成分に加えて位相成分も含んでいるので、ステップ３３および３４で透過率変調層に位相シフト層が積層されたフォトマスクを製造する。 - 特許庁

Then, a photosensitive fluorene derivative layer 4 is continuously applied on the under-clad layer 3, and continuously exposed in a specified pattern via a photomask 5, and then continuously exposed and heated.例文帳に追加

次いで、アンダークラッド層３の上に、感光性フルオレン誘導体層４を連続して塗工し、フォトマスク５を介して連続して所定のパターンで露光した後、連続して露光後加熱する。 - 特許庁

Thereby, when a metal layer 40 such as remainder of a metal pattern exists under the positive-hole transport layer 32, the short circuit between the pixel electrode 25 and the negative electrode 33 is prevented.例文帳に追加

これにより、金属パターン残りなどの金属層４０が正孔輸送層３２の下に存在する場合にも、画素電極２５と陰極３３の間で短絡が発生するのが抑制される。 - 特許庁

A photoresist is formed around the metal layer provided between apertures, and air bridge wiring is plated on the metal layer between the wiring pattern and the aperture.例文帳に追加

開口穴と開口穴間に設けられる金属層の周囲にフォトレジストを形成し、各開口穴下の配線パターンと開口穴間の金属層上にエアブリッジ配線をメッキ形成する。 - 特許庁

The conductive pattern 4 is formed on a substrate 1 having a porous receiving layer 2 containing pseudo boehmite, and a porous surface layer 3 containing inorganic particles sequentially stacked thereon.例文帳に追加

導電パターン４は、擬ベーマイトを含有する多孔質受容層２及び無機粒子を含有する多孔質表面層３が順次積層されている基板１上に形成されている。 - 特許庁

To provide a photocatalyst composition exhibiting high activity in a short time, a photocatalyst-containing layer and a pattern forming body using the photocatalyst-containing layer.例文帳に追加

本発明は、短時間で、高い活性を示す光触媒組成物や光触媒含有層、およびこの光触媒含有層を用いたパターン形成体を提供することを主目的としている。 - 特許庁

The metal reflecting layer of the diffraction structure formation body having the metal reflecting layer conforming with the shape of the diffraction structure is provided in a pattern shape on the surface of the diffraction structure.例文帳に追加

回折構造の形状に追従した金属反射層を有する回折構造形成体の金属反射層が、回折構造の面上にパターン状に設けられていること。 - 特許庁

Further, a pattern layer comprising opaque or translucent ink may be formed between the base material 2 and translucent synthetic resin layer 4 of the decorative sheet 11.例文帳に追加

また、上記化粧シート１１において基材２と半透明合成樹脂層４との間に不透明もしくは半透明のインキにて柄模様を印刷し模様層を形成してもよい。 - 特許庁

The shell member 36 is obtained by forming a poly-para-xylylene resin layer 40 in a pattern shape on the outer periphery of a coating layer 38 comprising fluororubber coated on the outer periphery of the net-like tube 34.例文帳に追加

外皮部材３６は、網状管３４の外周に被覆されたフッ素ゴムからなる被覆層３８の外周に、ポリパラキシリレン樹脂層４０がパターン状に形成されたものである。 - 特許庁

After a first sacrificial layer is formed by etching using the resist mask, a second sacrificial layer is formed by etching using the resist mask where the pattern is formed by using the same photomask.例文帳に追加

レジストマスクにより第１の犠牲層をエッチングして形成した後に、同一のフォトマスクを使用してパターンを形成されたレジストマスクを用いて第２の犠牲層をエッチングして形成する。 - 特許庁

To obtain a manufacturing apparatus of electronic circuit in which an electronic circuit structure layer of desired pattern can be formed surely and well on a conductor layer by applying an electrophotography system.例文帳に追加

電子写真方式を適用した電子回路の製造装置において、導体層上に所望パターンの電子回路構成層を良好かつ確実に形成することを可能にする。 - 特許庁

A photoresist layer 4 is formed only at a part of the wiring pattern 2 subjected to electrodeposition painting, and then a reforming layer 6 is formed in the exposed region of the conductive film 3.例文帳に追加

そこで、配線パタ−ン２に対する電着塗装を行う部分のみフォトレジスト層４を形成した後、導電性膜３の露出領域に対して変性層６を形成する。 - 特許庁

The LDD diffusion layer 107, which specifies the distance L between PN junctions, is formed on the surface layer of the semiconductor substrate 101 by ion implantation employing the gate electrode pattern 105 as a mask.例文帳に追加

ゲート電極パターン１０５をマスクにしたイオン注入によって、半導体基板１０１の表面層にＰＮ接合間距離Ｌを規定するＬＤＤ拡散層１０７を形成する。 - 特許庁

Data x_t corresponding to a prescribed time series pattern are inputted to an input layer 11 of a recurrent neural network 1, and a predictive value x*_t+1 is obtained from an output layer 13.例文帳に追加

リカレント型ニューラルネットワーク１の入力層１１に、所定の時系列パターンに対応するデータｘ_ｔを入力し、出力層１３から予測値ｘ^＊_ｔ＋１を得る。 - 特許庁

The ceramic product 1 is provided with: a ceramic base material 2; and a covered glass layer 3 formed on the surface of the ceramic base material 2, wherein a projected and recessed pattern 7 is formed on the covered glass layer 3.例文帳に追加

セラミックス製品１は、セラミックス基材２と、セラミックス基材２の表面に形成した被覆ガラス層３とを備え、被覆ガラス層３に凹凸パターン７を形成してなる。 - 特許庁

The inclined faces 61 are formed in a pattern having regularity at least in one direction, and the reflecting layer 53 has inclined faces 71 like the inclined faces 61 of the resin layer 52.例文帳に追加

傾斜面６１は、少なくとも一方向に規則性を有するパターン形状を備えてなり、反射層５３は樹脂層５２の傾斜面６１に倣って傾斜面７１を有している。 - 特許庁

On the same surface of a light-reflective substrate 1, a light scattering layer 2 and a light blocking layer 3 in the mixed pattern of a light transmission part 31 and a light blocking part 32 are formed.例文帳に追加

光反射性基材１の同一面上に、光散乱層２、および光透過部３１と遮光部３２の混在パターンからなる遮光層３を有するように構成する。 - 特許庁

After coating a semiconductor substrate with a CMP cut-off layer, the CMP cut-off layer is patterned to form a CMP cut-off pattern in a shape having an opening for exposing a device separating region.例文帳に追加

半導体基板上にＣＭＰ遮断層を塗布した後にこれをパターニングして素子分離領域を露出させる窓を有する形状のＣＭＰ遮断パターンを形成する。 - 特許庁

The photosensitive film for circuit formation has a cushion layer, a photosensitive layer of 0.1 to 50 μm in thickness, and a cover film in order on a base film and the surface which comes into contact with the pattern mask does not contaminate the mask.例文帳に追加

ベースフィルムの上に逐次クッション層、厚みが０．１〜５０μｍの感光層、カバーフィルムを有し、パターンマスクと密着する面がマスク汚染性のない回路形成用感光性フィルム。 - 特許庁

In the light emitting module 10A, an insulating layer 24 remains in a lower region of the conductive pattern 14, and an insulating layer 24 is removed in a region, where no conductive patterns 14 exist.例文帳に追加

更に、発光モジュール１０Ａでは、導電パターン１４の下方の領域の絶縁層２４が残存し、導電パターン１４が存在しない領域の絶縁層２４が除去されている。 - 特許庁

There is also provided a method for forming a fine pattern according to the present invention comprising the steps of: forming a first protruding pattern on a film to be processed; forming a spacer formed from the resin composition at a sidewall of a protruding part of the protruding pattern; and forming a fine pattern by using the spacer or a resin layer disposed around the spacer as a mask.例文帳に追加

また、本発明により微細パターンの形成方法は、被加工膜上に、第一の凸パターンを形成させ、その凸パターンの凸部側壁に前記樹脂組成物から形成されたスペーサーを形成させて、そのスペーサー、またはスペーサーの周りに配置された樹脂層をマスクとして微細パターンを形成させるものである。 - 特許庁

To provide a conductive pattern manufacturing method which does not visibly recognize a conductive pattern even if a width of an insulation processing region is widened by partly insulating a transparent conductive layer when the conductive pattern is formed and which is capable of obtaining a conductive pattern having stable electric performance by surely insulating an insulating part.例文帳に追加

透明な導電層を部分的に絶縁化して導電パターンを形成する際に絶縁化処理の領域の幅を広くしても、導電パターンが視認されず、また、絶縁部を確実に絶縁させて安定した電気的性能を有する導電パターンを得ることができる導電パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

In a plurality of conductor patterns for the capacitor for composing the capacitor, a through hole 20 in a shape corresponding to the innermost winding shape of the coil pattern 7 is provided opposite to the winding center of the coil pattern 7 in at least conductor pattern 3 for the capacitor adjacent to the coil pattern 7 via the insulating layer.例文帳に追加

コンデンサ部を構成する複数のコンデンサ用導体パターンのうち、少なくとも、絶縁層を介してコイルパターン７と隣り合っているコンデンサ用導体パターン３には、コイルパターン７の巻回中心部分に対向させて、コイルパターン７の最内巻き形状に応じた形状の透孔部２０を設ける。 - 特許庁

A TFT-LCD pixel electrode layer structure includes a pixel electrode pattern corresponding to a display region of a liquid crystal panel, a peripheral region pattern corresponding to a non-display region of the liquid crystal panel, and a peripheral filling pattern corresponding to a region of the non-display region, in which no peripheral region pattern is formed.例文帳に追加

ＴＦＴ−ＬＣＤ画素電極層構造であって、液晶パネルの表示領域に対応する画素電極パターンと、液晶パネルの非表示領域に対応する周辺領域パターンと、非表示領域における周辺領域パターンを設けていない領域に対応する周辺充填パターンとを備える。 - 特許庁

The printed matter has the printed layer 1A formed on the normal paper 1 and the varnish layer N arranged on the printed layer 1A, which has the plurality of numerous-line uneven pattern 3 changing in orientation, and is constituted by processed to be transparent.例文帳に追加

この印刷物は、普通紙１上に形成された印刷層１Ａと、上記印刷層１Ａ上に設けられ複数の方向性の変化する万線状凹凸模様３が形成され透明化処理されてなるニス層Ｎと、を具備する。 - 特許庁

Then, the semiconductor multi-layer film is etched to the InP substrate 100 with the pattern of the SiN film as a mask, a plurality of island-shaped semiconductor multi-layer films 110 are formed, and the multi-layer films at the peripheral section of the substrate are simultaneously etched.例文帳に追加

次に、ＳｉＮ膜のパターンをマスクとして半導体多層膜をＩｎＰ基板１００までエッチングして複数の島状の半導体多層膜１１０を形成するとともに、基板の外周部の多層膜も同時にエッチングする。 - 特許庁

A metal film 7 bonded to the pad electrode 2 is formed over the substrate 1 in the shape of a re-wiring pattern, and a plated power supply layer metal film 8 and a Cu plated layer 11 are formed in sequence on the metal film 7 to form a wiring layer.例文帳に追加

基板１上にパッド電極接着メタル膜７が再配線パターン状に形成され、このメタル膜７上にメッキ給電層メタル膜８及びＣｕメッキ層１１が順次形成されて配線層が形成されている。 - 特許庁

The plurality of the holes 6a are arrayed on a substantially straight line along the tape width, and are disposed downward under the region in which the part of the copper layer 1 is eliminated by patterning at the copper wiring pattern layer forming time from the copper layer 1 or are disposed in the lower vicinity region.例文帳に追加

穴６ａは、テープ幅に沿った略直線上に複数配列し、銅層１からの銅配線パターン層形成時のパターンニングにより銅層１の一部が無くなった領域の下方又は下方近傍領域に配置する。 - 特許庁

In order to manufacture a photovoltaic module, a front electrode layer 3, a semiconductor layer 4 and a rear electrode layer 5 are machined in pattern using split lines 8 so that serially connected cells (C_1, C_2, ..., C_n, C_n+1) can be formed.例文帳に追加

光起電モジュールを製造するために、前側電極層３、半導体層４、および後ろ側電極層５が、直列接続されたセル（Ｃ_１、Ｃ_２、・・・、Ｃ_ｎ、Ｃ_ｎ＋１）を形成するように分割線８によってパターン加工される。 - 特許庁