「mask edge」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The mask attaching portion is a pinching means for pinching the edge 3a' of the mask.例文帳に追加

前記マスク取付部は、マスクの縁部３ａ’を挟持するための挟持手段である。 - 特許庁

To provide a three-dimensional mask without a gap between a peripheral edge part of the mask and a skin.例文帳に追加

マスクの周縁部と肌との間に隙間が生じないようにした立体マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a mask hardly forming a clearance between the upper edge of a mask body part and a face surface.例文帳に追加

本体部の上縁と顔面との間の隙間が生じにくいマスクを提供する。 - 特許庁

The mask stage 1 includes a mask holder 16 that adherently holds the mask M, and the mask holder 16 has a recessed part 16c on the adhering face with the mask M, at a position corresponding to an edge of the mask M.例文帳に追加

また、マスクステージ１がマスクＭを密着保持するマスクホルダ１６を有すると共に、このマスクホルダ１６がマスクＭに対する密着面であってマスクＭのエッジ部に対応する位置に凹部１６ｃを有している。 - 特許庁

The edge code of each pixel in the mask M is compared with the edge code of the pixel g in succession.例文帳に追加

そして、このマスクＭ内の各画素のエッジコードと画素ｇのエッジコードとを順に比較する。 - 特許庁

A mask generating part 4 acquires the edge data from the edge data list 3 by sub scan line to generate graphic mask information.例文帳に追加

マスク生成部４は、エッジデータリスト３からエッジデータをサブスキャンライン単位で取得し、図形のマスク情報を生成する。 - 特許庁

After molding the skirt portion 14 formed at the mask 13 and near surrounding edge of the mask portion 13 the shadow mask 11 is composed.例文帳に追加

マスク部13およびこのマスク部13の周縁に形成されるスカート部14を成形し、シャドウマスク11を構成する。 - 特許庁

A printing mask 1 comprises a protrusion 13 so as to increase a thickness from other mask region on a mask region of a peripheral edge of a second opening 12.例文帳に追加

印刷用マスク１には、第２の開口１２の周縁部のマスク領域に、他のマスク領域より厚みが増すような突部１３が設けられる。 - 特許庁

An electronic mask reference position calculating section then determines the size and the position of a mask so that the edge 1'is covered with the mask as shown in the fundus image Er' of (c).例文帳に追加

電子マスク基準位置演算部において（ｃ）のように眼底像Ｅｒ’中のマスクの位置、大きさをエッジ１’を覆うように決定する。 - 特許庁

The face mask set consists of a face mask 1 having a pressure-sensitive adhesive layer on its peripheral edge part of the back surface, and a face mask cover 8 having air-permeable function detachably mounted to the face mask 1 so as to cover the surface of the face mask 1.例文帳に追加

粘着層を裏面の周縁部にもつマスク１と、そのマスク１表面を覆うようにマスク１に着脱可能に装着される通気機能を持つマスクカバー８とからなるマスクセット。 - 特許庁

Specifically, the method further comprises the steps of mask processing a binary edge reference image C with a binary edge expanded inspecting image I, and mask processing a binary edge inspecting image H with a binary edge expanded reference image D.例文帳に追加

具体的には２値エッジ基準画像Ｃを２値エッジ膨脹検査画像Ｉによりマスク処理し、２値エッジ検査画像Ｈを２値エッジ膨脹基準画像Ｄによりマスク処理する。 - 特許庁

The result of discriminating an edge of an isolated point (an edge area of an isolated point) is defined as a mask area (C) of the isolated point in edge emphasis.例文帳に追加

孤立点のエッジ判別結果（孤立点のエッジ領域）を、エッジ強調の際の孤立点のマスク領域（Ｃ）とする。 - 特許庁

A mask pattern 1a having a plurality of pattern forming parts 2 and light-shielding parts 3 arranged into a mosaic is formed in one edge part of an exposure mask, and a mask pattern 1b having the pattern forming parts 2 and the light-shielding parts 3 arranged in the complementary relation with the mask pattern 1a is formed on the other edge of the mask.例文帳に追加

露光マスクの一方の縁部に、パターン形成部２と遮光部３を複数モザイク状に配置したマスクパターン１ａを形成し、その他方の縁部には、パターン形成部２と遮光部３をマスクパターン１ａと相補関係となるように配置したマスクパターン１ｂを形成する。 - 特許庁

The mask 2 is provided with a rib 21 around the mask 2 on the outer surface of the peripheral edge part, and the hood 3 is provided with an annular member 23 forming the edge of an opening 22 for exposing the face of a mask wearing person.例文帳に追加

マスク２は、その周縁部の外面にマスク２を一周するリブ２１を有し、フード３は、マスク着用者の顔を露出させる開口２２の縁を形成する環状部材２３を有する。 - 特許庁

A mask frame 32 mounted on an upper side of an elevating plate 37, a peripheral edge of a shadow mask material 33 is mounted on a lower mold plate 35 and the peripheral edge of the shadow mask material 33 is supported by a pressure pad 43.例文帳に追加

昇降プレート37の上面にマスクフレーム32を載支し、下型プレート35にシャドウマスク材33の周縁部を載支し、シャドウマスク材33の周縁部を圧力パッド43で支持する。 - 特許庁

This mask is used for sealing the aperture of the cell of the honeycomb structure, and has a plurality of first through-holes penetrating the mask in the thickness direction, in a region where the mask comes into contact with the edge surface of the honeycomb structure during using the mask.例文帳に追加

本発明に係るマスクは、ハニカム構造体のセルの封口に使用されるものであり、使用時においてハニカム構造体の端面と当接する領域に、マスクの厚さ方向に貫通する複数の第１の貫通孔を有する。 - 特許庁

The eye mask is provided with: an eye mask part having heat insulation property; a heat-insulating protrusion line edge part projectingly formed at an outer periphery on one face side of the eye mask part to cover the surroundings of the eyes; and a band fitting part extended or disposed at both of the ends of the eye mask part.例文帳に追加

断熱性を有する目隠し部と、前記目隠し部の一面側の外周に突設されて目の周囲を覆う断熱性の凸条縁部と、前記目隠し部の両端部に延設又は配設されたバンド取付部と、を備えている。 - 特許庁

An opening is provided to a metal mask, so as to make the edge of the opening of the metal mask or the edge of a solder 11 below an electrode 2, located inside the edge of a land 14.例文帳に追加

電極２の下側では、はんだ１１の縁部、すなわちメタルマスクの開口部の縁部をランド１４の縁部よりも内側となるようにメタルマスクの開口部を形成する。 - 特許庁

The edge area image is used as a mask image to form a luminance histogram of pixels belonging to the mask image of the grayscale image (S4).例文帳に追加

エッジ領域画像をマスク画像としてグレースケール画像のマスク画像に属する画素の輝度ヒストグラムを作成する（Ｓ４）。 - 特許庁

To accurately and easily correct both of astigmatism deteriorating the edge resolution of a mask image and astigmatism generating the linear distortion of a mask image highly.例文帳に追加

マスク像のエッジ分解能を劣化させる非点収差とマスク像の線形歪を生じさせる非点収差の双方を、高精度かつ容易に補正する。 - 特許庁

Thereafter, the processed film is subjected to etching using the first and second mask as a mask for the formation of the pattern free from edge roughness.例文帳に追加

その後、第１マスク及び第２マスクをマスクとして、被加工膜をエッチングしてパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a rim member which is attached to an upper edge of a mask and can conform to a shape of a nose to eliminate an aperture when wearing the mask.例文帳に追加

マスクの上縁に取付けて該マスクを着用した場合に鼻の形状になじんで隙間を無くすことが出来る縁部材の提供。 - 特許庁

Of the outer peripheral edge part of the mask body, at a part crossing the nose when wearing the mask, a long-length core material 3 made of paper is arranged.例文帳に追加

マスク本体の外周縁部のうち、マスク装着時に鼻筋を横切る部分には、紙製の長尺芯材３を配置する。 - 特許庁

The edge mask generation unit generates an edged mask, based on the data to which the band pass filter is applied.例文帳に追加

エッジマスク生成部は、帯域通過フィルタが適用されたデータに基づいてエッジマスクを生成する。 - 特許庁

In the mask 50, the guide pieces 30 can be formed projecting upward from the upper end edge of the mask body 10.例文帳に追加

このマスク５０において、ガイド片３０がマスク本体１０の上端縁から上方に突出して形成しても良い。 - 特許庁

The holes of the shadow mask has horizontal pitch Ph and vertical pitch Pv; the horizontal pitch Ph is larger in the edge part of eh shadow mask short axis than in the center part by 5% or more; Ph/Pv is larger in the edge part of the shadow mask short axis than in the shadow mask center.例文帳に追加

シャドーマスクの孔は水平方向ピッチＰｈと垂直方向ピッチＰｖを有し、水平方向ピッチＰｈはシャドーマスク中央よりもシャドーマスク短軸の端部において５％以上大きく、Ｐｈ／Ｐｖはシャドーマスク中央よりもシャドーマスク短軸の端部で大である。 - 特許庁

An exposure mask pattern 22A has such a form of which the branch point part 22Ad is formed by connecting a part between the edge part 22Ab1 of a 1st branching mask part 22Ab and the edge part 22Ac1 of a 2nd branching mask part 22Ac with straight edge parts 51, 52, 53 in a trapezoidal shape.例文帳に追加

露光用マスクパターン２２Ａは、分岐点部分２２Ａｄが、第１の分岐マスク部２２Ａｂの縁部２２Ａｂ１と第２の分岐マスク部２２Ａｃの縁部２２Ａｃ１との間とが、直線状の縁部５１、５２，５３でもって台形状に繋いである形状である。 - 特許庁

A waveform bead 42, having a gentle curve is formed on the peripheral edge of a rectangular shadow mask face 41a.例文帳に追加

矩形状のシャドウマスク面41a の周縁部に、緩やかな曲線の波形のビード42を形成する。 - 特許庁

A mask 29 having an edge extending along a [011] direction is formed on a cap film 19.例文帳に追加

キャップ膜１９上に［０１１］方向に沿って伸びるエッジを有するマスク２９を形成する。 - 特許庁

To suppress the influence of diffraction of a laser beam at the edge of the light transmission part of a projection mask.例文帳に追加

投影マスク透光部のエッジによるレーザビームの回折の影響を抑制する。 - 特許庁

To efficiently remove an unnecessary coating film on the edge part of a mask substrate with the coating film formed on the surface.例文帳に追加

表面に塗布膜が形成されたマスク基板の縁部の不要な塗布膜を効率良く除去すること。 - 特許庁

Also, a gate valve 37 is provided on one side edge of the mask storing container 39.例文帳に追加

また、マスク保管容器３９の一側端には、ゲートバルブ３７が設けられている。 - 特許庁

The step 880 opens at least one interrupt mask of an edge interrupt.例文帳に追加

ステップ８８０では、エッジ割り込みの割り込みマスクの少なくとも１つを開く。 - 特許庁

To surely remove a film from the edge of a thick substrate such as a mask substrate.例文帳に追加

マスク基板のような厚みの厚い基板の端縁部の被膜を確実に除去する。 - 特許庁

The edge area of a character portion and the mask area can be prevented from overlapping.例文帳に追加

文字部のエッジ領域とマスク領域とが重なることを防ぐことができる。 - 特許庁

To efficiently remove unrequired coating films at the edge parts of a mask substrate with a coating film formed on the surface.例文帳に追加

表面に塗布膜が形成されたマスク基板の縁部の不要な塗布膜を効率良く除去すること。 - 特許庁

METHOD FOR COMPUTING MANUFACTURABILITY OF LITHOGRAPHIC MASK BY SELECTING TARGET EDGE PAIR例文帳に追加

ターゲット・エッジ・ペアを選択することによるリソグラフィ・マスクの製造可能性の計算方法 - 特許庁

The short circuit preventing part is composed of an insulator composing the recessed part and projecting part in the edge face of the mask.例文帳に追加

該短絡防止部は、マスク端面の凹部および凹部を構成する絶縁体より成る。 - 特許庁

Next, while the resist film is used as a mask, a p-type impurity is introduced to the edge of the semiconductor film 123.例文帳に追加

次いで、レジスト膜をマスクとし、半導体膜１２３の縁部にｐ型不純物を導入する。 - 特許庁

Engagement portions 2 and 2a to be mounted to a horizontal member 50 of the face mask grill 5 are formed in the upper edge and the lower edge of the protective plate portion 1.例文帳に追加

保護板部１の上縁部と下縁部には、面金５の横金５０に取り付けられる嵌合部２，２ａが形成されている。 - 特許庁

As a result, by the inner side edge of the cutting part and the side edge of a mask main body, an opening H for inserting an ear is sectioned and formed.例文帳に追加

この結果、切断部の内側縁とマスク本体の側縁とによって、耳を通すための開口Ｈが区画形成される。 - 特許庁

The mask stage device MST includes a plurality of supporting devices 102 supporting an edge of a mask M from below, a plurality of holding devices 104 sucking and holding the mask M, and an intermediate supporting device 103 supporting an intermediate portion in a longitudinal direction of the mask M from below to suppress distortion of the mask M.例文帳に追加

マスクステージ装置ＭＳＴは、マスクＭの端部を下方から支持する複数の支持装置１０２と、マスクＭと吸着保持する複数の保持装置１０４と、マスクＭの長手方向中間部を下方から支持してマスクＭの撓みを抑制する中間支持装置１０３とを有している。 - 特許庁

To provide an edge mask capable of preventing the contact of a steel strip end and the edge mask and preventing edge overcoating and dendrite deposits over the entire area in the transverse direction of the steel strip and undercoating near the edge by covering the delay in follow-up control of the edge mask in spite of the presence of meandering of the steel strip and a change in the width thereof.例文帳に追加

鋼帯の蛇行や幅変更があってもエッジマスクの追従制御の遅れをカバーし、鋼帯端部とエッジマスクの接触を未然に防ぎ、鋼帯幅方向全域にわたってエッジオーバーコート、デンドライト析出物やエッジ部付近のアンダーコートを防止できるエッジマスクを提供する。 - 特許庁

Concretely, an expansion image C and contraction image D are produced from the reference edge image B, the inspection edge image G is mask-processed by the reference expansion image C, and the reference edge contraction image D is mask-processed by the inspection edge image G.例文帳に追加

具体的には基準エッジ画像Ｂから膨張画像Ｃと収縮画像Ｄを作成し、検査エッジ画像Ｇを基準エッジ膨脹画像Ｃによりマスク処理し、基準エッジ収縮画像Ｄを検査エッジ画像Ｇによりマスク処理する。 - 特許庁

A mask frame has long edge side walls in parallel with a horizontal axis H, short edge side walls in parallel with a vertical axis V, and opposite corner side walls connecting the long edge side walls and the short edge side walls.例文帳に追加

マスクフレームは、水平軸Ｈに平行な長辺側壁部と、垂直軸Ｖに平行な短辺側壁部と、長辺側壁部及び短辺側壁部を連接する対角側壁部と、を有している。 - 特許庁