「measuring process」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a broken yarn position measuring apparatus capable of measuring the position of broken yarn which allows clarifying of at what part of a process the broken yarn occurs.例文帳に追加

工程のどの部分で断糸が発生したかを明らかにできる断糸位置が測定できる断糸位置測定装置。 - 特許庁

To provide a measuring device or a measuring method capable of acquiring objective data on the bubble layer extinction process of a fermented malt drink.例文帳に追加

発酵麦芽飲料の泡層消滅過程の客観的データを得ることのできる測定装置又は測定方法を得る。 - 特許庁

To provide a plasma measuring method and a device thereof capable of measuring electron density and electron temperature simply even in process plasma.例文帳に追加

プロセスプラズマにおいても簡便に電子密度および電子温度の計測が可能なプラズマ計測方法および装置を提供する。 - 特許庁

The connection process further includes a rearrangement process for rearranging a measuring order of battery cells CL, etc., in a next measuring series in the order of largeness of each voltage value measured this time, after finish of the measuring series.例文帳に追加

接続工程は、測定シリーズを終えた後に、次回の測定シリーズにおける電池セルＣＬ，ＣＬ，…の測定順序を、今回測定された電圧値の大きさの順に並べ替える並べ替え工程とをさらに含む。 - 特許庁

This method for measuring the total amount of the urine comprises a process of incorporating a substrate of an enzyme in a container, a process of accumulating the urine, a process of measuring the enzyme substrate concentration by using the urine containing the enzyme substrate and the enzyme, and a process of calculating the total amount of the urine.例文帳に追加

容器に、酵素基質を含有させる工程、蓄尿する工程、該酵素基質を含んだ尿および酵素により該酵素基質濃度を測定する工程、全尿量を算出する工程を含む、全尿量を測定する方法。 - 特許庁

To provide an optical measuring part with excellent measurement process speed and measurement precision, a member for optical measuring, and a micro particle measuring device arranged therewith.例文帳に追加

優れた測定処理速度及び測定精度を備える光学測定部及び光学検出用部材、並びにこれらを配設した微小粒子測定装置の提供。 - 特許庁

Here, the first measuring path 71 and second measuring path 72 set in the measuring path setting process have a spiral shape on the surface of the master ball 7.例文帳に追加

ここで、測定経路設定工程にて設定される第１測定経路７１および第２測定経路７２は、マスターボール７の表面において螺旋形状である。 - 特許庁

To correct the influence of an increase in a stage temperature generated in a measuring process in a dimension measuring apparatus, and to highly precisely and swiftly measure the position of a mark of a measuring object panel.例文帳に追加

寸法測定装置において測定過程に発生するステージ温度上昇の影響を補正し、対象基板のマーク位置を高精度にかつ迅速に測定すること。 - 特許庁

To highly integrate a process condition measuring device and a handling system with a production environment.例文帳に追加

プロセス条件測定装置と処理システムとを製造環境と高度に統合化する。 - 特許庁

The measured thickness obtained at the first thickness measuring process are stored in a storing means 72.例文帳に追加

この第一厚さ測定工程で得られた厚さ測定値を、記憶手段７２に記憶する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING PAD PROFILE, AND CLOSED LOOP CONTROL FOR PAD CONDITIONING PROCESS例文帳に追加

パッドプロファイルを測定する方法および装置、ならびにパッドコンディショニングプロセスの閉ループ制御 - 特許庁

The measuring device performs a capture process to intermittently capture packets in a session (#12 to #14).例文帳に追加

計測装置は、あるセッションのパケットを間欠的にキャプチャするキャプチャ処理を実行する（＃１２〜＃１４）。 - 特許庁

To provide a techniques for measuring integrated circuit interconnecting process parameters.例文帳に追加

本発明は、集積回路の相互接続プロセスパラメータを測定するための技術に関する。 - 特許庁

A measurement schedule is prepared from the calculated in-process schedule and measuring time.例文帳に追加

そして、この算出した仕掛り日程と測定時間から、測定スケジュールを作成する。 - 特許庁

THREE-DIMENSIONAL SHAPE MEASURING DEVICE, ETCHING CONDITION DETERMINATION METHOD, AND ETCHING PROCESS MONITORING METHOD例文帳に追加

立体形状測定装置、エッチング条件出し方法およびエッチングプロセス監視方法 - 特許庁

The aligning method comprises a measuring process of measuring non-rotationally symmetric higher order aberrations of the object optical system and an aligning process for aligning the low-order comatic aberrations of the object optical system, in accordance with the aligning index determining based on the result of measurement obtained by the measuring process.例文帳に追加

対物光学系の非回転対称な高次収差を計測する計測工程と、計測工程で得られた計測結果に基づいて決定された調整指標にしたがって対物光学系の低次コマ収差を調整する調整工程とを含む。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR ELEMENT HAVING PATTERN FOR MEASURING RESISTANCE OF CONDUCTIVE PLUG AND PROCESS EVALUATION METHOD例文帳に追加

導電性プラグ抵抗測定用パターンを有する半導体素子およびプロセス評価方法 - 特許庁

The base side wafer measurement process S3 includes measuring a resonance frequency f_r of the piezoelectric part.例文帳に追加

基体側ウェハ測定プロセスＳ３は、圧電部の共振周波数ｆ_ｒを測定する。 - 特許庁

To provide a real-time measuring method for a uranium oxide reduction process by metal lithium.例文帳に追加

金属リチウムによる酸化ウラニウム還元工程のリアルタイム測定方法を提供する。 - 特許庁

DIRECT IMAGING PROCESS WITH FEED BACK CONTROL BY MEASURING AMOUNT OF TONER DEPOSITED例文帳に追加

堆積したトナー料を測定することによるフィードバック制御を伴う直接画像化処理 - 特許庁

DIRECT IMAGING PROCESS WITH FEEDBACK CONTROL BY MEASURING AMOUNT OF DEPOSITED TONER例文帳に追加

堆積したトナー量を測定することによるフィードバック制御を伴う直接画像化処理 - 特許庁

METHOD OF MEASURING QUANTITY OF FLOW OF SOLID CONTENT IN COFFEE EXTRACTION PROCESS, AND COFFEE EXTRACTOR例文帳に追加

コーヒー抽出工程における固形分流量の計測方法およびコーヒー抽出機 - 特許庁

This detection method has a process for measuring the anti-cardiomuscular type troponin I antibody value in a biosample of the subject.例文帳に追加

被験者の抗心筋型トロポニンI抗体価を指標とすることを特徴とする。 - 特許庁

MEASURING METHOD FOR REDUCING POWER OF ALCOHOLIC MALT BEVERAGE, AND METHOD AND SYSTEM FOR CONTROLLING PRODUCTION PROCESS例文帳に追加

麦芽アルコール飲料の還元力測定方法、製造工程管理方法及びシステム - 特許庁

COAGULOGEN RAW MATERIAL, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND PROCESS AND APPARATUS FOR MEASURING ORGANISM-DERIVED BIOLOGICALLY ACTIVE SUBSTANCE USING THE SAME例文帳に追加

コアギュロゲン原料及びその製造方法、それを用いた生物由来の生理活性物質の測定方法及び測定装置 - 特許庁

In each process, process conditions in performing the process are measured by a process condition measuring means 32, and the measured conditions are stored in a control means, masking the conditions correspond to the data peculiar to the iron band.例文帳に追加

各処理工程において、プロセス条件測定手段32で処理が施される時のプロセス条件をそれぞれ測定し、シャドウマスク用鉄帯の固有の情報と対応させて制御手段に記憶する。 - 特許庁

To manufacture a sensor for measuring biological information capable of measuring biological information without collecting blood, in a simple process.例文帳に追加

血液を採取することなく生体情報を測定することができる生体情報測定用センサをより単純な工程で製造する。 - 特許庁

During measuring process, the data processing unit 20 photographs the flow meter 2 and detects the coordinate at the top of the measuring indicator 4.例文帳に追加

計測工程において、データ処理ユニット２０が、流量計２を撮影し、計測値指示体４の上端部の座標を検出する。 - 特許庁

The control means 14 has a temperature measuring part 14b for measuring temperatures of the pot bottom and the pot side from the means 9 and 10 to execute the soak process.例文帳に追加

これによって、鍋底温度および鍋側面温度の計測結果に基づいて鍋加熱手段２の通電量を制御する。 - 特許庁

To provide a method of measuring both electrophoretic mobility and mass concentration of particles in a fluid dispersion on the basis of only one measuring process.例文帳に追加

１回の測定過程で分散液中の粒子の質量濃度および電気泳動度の双方を測定できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of controlling the cross section shape of a measuring pattern or process conditions by a length measuring SEM in an apparatus for monitoring the manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造プロセスをモニタする装置において、計測パターンの断面形状、あるいはプロセス条件を、測長ＳＥＭにより管理することを可能とする方法を提供する。 - 特許庁

This circuit corresponds to both a measuring means for measuring electrical conductivity between probes and a potential control means for controlling the potential of the electrode, and executes a process 1 and a process 2.例文帳に追加

測定回路５４は探針間の電気伝導度を計測する計測手段と電極の電位を制御する電位制御手段にあたり、工程１及び工程２を実施する。 - 特許庁

In a measuring process, the quantity of the light-element gas in the closed space after the deaerating process is measured by the time a prescribed period of time elapses from the start of the sealing process.例文帳に追加

また、測定工程は、排気工程の後、密閉空間内の軽元素ガスの量を、封入工程の開始から所定時間が経過するまでに測定する。 - 特許庁

This monitor for monitoring the effect of the chemical for manufacturing the paper is provided with a measuring part for measuring the water quality of water for the paper manufacturing process added with the chemical for manufacturing the paper, and a pipe for introducing water for the paper manufacturing process added with the chemical into the measuring part.例文帳に追加

製紙用薬剤が添加された製紙工程水の水質を計測する計測部と、該計測部に、薬剤が添加された製紙工程水を導入する配管とを備えてなる製紙用薬剤の効果監視装置。 - 特許庁

To provide a resistance measuring method capable of measuring accurately and stably an electric resistance of a sheet-shaped, cloth-shaped or film-shaped measuring object, and a component inspection process to which the resistance measuring method is applied.例文帳に追加

シート状や布状や膜状の測定対象物の電気抵抗の測定を正確かつ安定に行なうことができる抵抗測定方法およびその抵抗測定方法が適用された検査部品プロセスを提供する。 - 特許庁

A first measuring path 71 and a second measuring path 72 are set as measuring path for performing profiling measurement of the surface of a master ball 7, a sphere whose radius and center coordinate value are known (measuring path setting process).例文帳に追加

半径および中心座標値が既知の真球であるマスターボール７の表面を倣い測定する測定経路として第１測定経路７１と第２測定経路７２とを設定する（測定経路設定工程）。 - 特許庁

The concentration measuring method includes both a detecting process for detecting the presence or absence of an object substance by adding an indicator to a liquid to be measured, and a concentration measuring process for measuring concentration by performing gradual titration when the presence of the object substance is detected in the detecting process.例文帳に追加

濃度測定方法は、被測定液に指示薬を添加して対象物質の有無を検出する検出工程と、検出工程において対象物質の存在を検出したとき、段階的に滴定することにより濃度を測定する濃度測定工程とを含んでいる。 - 特許庁

A control part 50 performs a first film thickness measuring process T20 in a time lag period T20, during which etching processing is started and performs second film thickness measuring process T21 to fifth film thickness measuring process T24 in the time lag periods T6 to T12, during which the supply of hydrofluoric acid L2 is stopped.例文帳に追加

制御部５０は、エッチング処理が開始されるタイムラグ期間Ｔ２０に第１の膜厚測定工程Ｔ２０を行い、フッ酸Ｌ２の供給が停止されるタイムラブ期間Ｔ６〜Ｔ１２に第２の膜厚測定工程Ｔ２１〜第５の膜厚測定工程Ｔ２４を行う。 - 特許庁

A method for lithography process control may include measuring (22) at least one property of a resist disposed upon a wafer during a lithography process (16).例文帳に追加

リソグラフィ・プロセス（１６）中にウェハ上に配置されたレジストの少なくとも１つの特性を測定する（２２）ことを含むことができる。 - 特許庁

Then, the combination process is performed again so that a smaller number of the measuring hoppers 29 than that in the combination process performed firstly is selected.例文帳に追加

その後、初回組み合わせ処理時より少ない数の計量ホッパ２９が選択されるように、再組み合わせ処理を実行する。 - 特許庁

When a development process is carried out after a pattern exposure process, the resist film is removed from the film thickness measuring region 42 to make the region 42 flat.例文帳に追加

パターン露光を経て現像処理すると、膜厚測定領域４２のレジスト膜を取り去り、平坦な状態にすることができる。 - 特許庁

To provide a process monitoring method measuring a physical change of a semiconductor wafer observed before and after each semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

各種半導体製造プロセス前後の半導体ウェハの物理量の変化を計測することができるプロセスモニタ方法を提供する。 - 特許庁

The adaptive value process generation program functions as an interface between a measuring device and the DOE tool.例文帳に追加

適合値手順生成プログラムは計測装置とＤＯＥツールとのインターフェースとして機能する。 - 特許庁

ELECTROPHOTOGRAPHIC IMAGE FORMING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, DEVELOPING DEVICE, DEVELOPER FEEDING CONTAINER, AND MEASURING EQUIPMENT例文帳に追加

電子写真画像形成装置、プロセスカートリッジ、現像装置、現像剤供給容器及び測定部品 - 特許庁

To soften stress of a subject in an elevating process of the cuff pressure in a blood pressure measuring devices.例文帳に追加

血圧測定用装置におけるカフ圧の上昇工程での測定者のストレスを緩和する。 - 特許庁