「measuring process」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

An output value of a detection sensor of the profiling probe in the measuring process is compared with the coordinate values on the measuring paths 71 and 72, and corrective data for correcting the output value of the detection sensor is calculated (corrective data calculating process).例文帳に追加

測定工程における倣いプローブの検出センサの出力値を測定経路７１、７２上の座標値と対比して、この検出センサの出力値を補正する補正データを算出する（補正データ算出工程）。 - 特許庁

The process control equipment 10 acquires a quality characteristic value from a plurality of predetermined number of measuring points of a substrate W by means of a measuring device 11 for the substrate W on which a predetermine process is carried out by a manufacturing apparatus 1.例文帳に追加

工程管理装置１０は、製造装置１により所定の工程が実施された基板Ｗについて、測定装置１１により、基板Ｗの所定の複数の測定位置から品質特性値を取得する。 - 特許庁

This includes a perception element, the outside of a process medium including a measuring means, a lever shape transmission element 11 for transmitting the effect of a force to the measuring means and a diaphragm 1 for separating the process medium from the outside.例文帳に追加

感知要素９と、計測手段１０を含むプロセス媒体の外部と、力の影響を計測手段に伝達するレバー状伝達要素１１と、プロセス媒体を外部から分離するためのダイヤフラム１とを含む。 - 特許庁

To provide a visualization measurement method and a visualization measurement apparatus capable of simultaneously measuring the deformation of toner and load applied to the toner in a fixing process and capable of visibly measuring toner behavior concerned with the fixing process.例文帳に追加

定着プロセスにおいて、トナーの変形とトナーにかかる荷重を同時に計測し、定着プロセスに関わるトナーの挙動を可視化計測することができる可視化計測方法および可視化計測装置を提供すること。 - 特許庁

This measuring method for thickness profile comprises the process of detecting the lateral non-contact thickness profile signal of the web under traveling; the process of detecting the contact thickness profile signal; the process of calculating the thickness profile from the resulting non-contact thickness profile signal and contact thickness profile signal; and the process of switching the contact measuring mode and the non-contact measuring mode.例文帳に追加

走行中のウェブの幅方向の非接触厚さプロファイル信号を検出する工程と、接触厚さプロファイル信号を検出する工程と、得られた非接触厚さプロファイル信号と接触厚さプロファイル信号から厚さプロファイルを演算する工程と、接触測定モードと非接触測定モードを切り替える工程とを備えることを特徴とする厚さプロファイルの測定方法である。 - 特許庁

In a permeability measuring process, the spectacle lens L, of which the anti-staining layer is colored in the coating process, is irradiated with light to measure the permeability of the anti-staining layer and it is judged whether the wettability of the spectacle lens L is proper on the basis of the permeability, which is measured in the permeability measuring process, in an evaluation process.例文帳に追加

そして、透過率測定工程において、塗布工程で防汚層が着色された眼鏡レンズＬに光を照射して防汚層の透過率が測定され、評価工程において透過率測定工程で測定された透過率に基づいて眼鏡レンズＬの濡れ性が適正か否かの判定が行われる。 - 特許庁

A lithographic manufacturing process comprises an input section 8, a preliminary imaging process 10, a section for measuring a substrate 12, a section for exposing a substrate 14, a post-imaging process 16 and an output section 18.例文帳に追加

リソグラフィック製造プロセスは、入力セクション８、予備画像化プロセス１０、基板を測定するセクション１２、基板を露光するセクション１４、画像化後プロセス１６及び出力セクション１８からなっている。 - 特許庁

The transmission element includes a first rod 2 arranged so as to be installed in the process medium flow route and a second rod 3 arranged so as to be installed on one part of the process measuring device of the outside of the process.例文帳に追加

伝達要素は、プロセス媒体流路中に設置されるように配置された第１ロッド部２と、プロセスの外部のプロセス計測装置の一部に設置されるように配置された第２ロッド部３とを含む。 - 特許庁

To improve processing performance by actually measuring a process operation characteristics and conducting process-scheduling, on the basis of a process operating characteristic measured value in a computer or computer cluster system having a plurality of processors.例文帳に追加

複数プロセッサを有する計算機又は計算機クラスタシステムにおいて、プロセスの動作特性を実測し、プロセス動作特性実測値に基づきプロセススケジューリングを行うことで、処理性能を向上させる。 - 特許庁

In a process load measuring process (S201), the round time needed for single repetition of the base processes is measured and then the process load on the processor (CPU) corresponding to the round time is measured.例文帳に追加

処理負荷計測処理（Ｓ２０１）では、ベース処理の１回の繰り返しに要する周回時間が計測されることにより、当該周回時間に対応した処理装置（ＣＰＵ）の処理負荷が計測される。 - 特許庁

A method for reducing in-wafer variation in critical measurement standard of the lithography process includes a process 22 of measuring at least one characteristic of resist arranged on a wafer during the process.例文帳に追加

リソグラフィ・プロセスのクリティカルな測定基準のウェハ内変動を低減するための方法は、リソグラフィ・プロセス中にウェハ上に配置されたレジストの少なくとも１つの特性を測定する工程２２を含む。 - 特許庁

A process (d) for performing reversed-phase liquid chromatography on each eluate fraction acquired in the process (b); a process (e) for fractionating a column eluate of reversed-phase liquid chromatography; and a process (f) for measuring the reducing activity of each eluate fraction acquired in the process (e) can also be conducted.例文帳に追加

さらに(d)工程(b)で得られた各溶出画分について、逆相液体クロマトグラフィーを行う工程、(e)逆相液体クロマトグラフィーのカラム溶出液を分画する工程、及び(f)上記工程(e)で得られた各溶出画分の還元活性を測定する工程、を行うこともできる。 - 特許庁

This thinning operation is carried out by the three processes: a measurement process of measuring the thickness of the SOI layer, an oxidation process of selectively oxidizing the surface of the SOI layer based on the measurement result obtained through the measurement process, and a removal process of selectively removing a silicon oxide formed through the oxidation process.例文帳に追加

この薄化は、ＳＯＩ層の厚さを測定する測定工程と、測定工程における測定結果に基づいて、ＳＯＩ層の表面を選択的に酸化する酸化工程と、酸化工程により形成された酸化シリコンを選択的に除去する除去工程とにより行う。 - 特許庁

With ensuring the convenience, the power consumption required for the measuring process in not so needed circumstances is saved.例文帳に追加

利便性を確保しつつ、あまり必要としない状況での計測処理に要する消費電力を削減する。 - 特許庁

The process sensor may be for example a pressure sensor and/or a temperature sensor for measuring the processing conditions.例文帳に追加

プロセスセンサは、例えば、加工条件を計測するための圧力センサおよび／または温度センサであってもよい。 - 特許庁

To control a phase difference to a target phase difference by measuring the phase difference on the way of a phase shifting mask fabrication process.例文帳に追加

位相シフトマスク作製工程途中で位相差を測定し、目標とする位相差になるよう制御する。 - 特許庁

The evaluation method for contamination on surface of material comprises a process for measuring the surface resistivity of a material.例文帳に追加

用材の表面における汚れの評価方法は、用材の表面抵抗率を測定する工程を含む。 - 特許庁

When the measuring is required, in the resist correction value collecting process, the resist correction value is collected (S25).例文帳に追加

測定が必要とされた場合には、レジスト補正値採取処理において、レジスト補正値が採取される（Ｓ２５）。 - 特許庁

The evaluation method for bacterial count on surface of material comprises a process for measuring the surface resistivity of the material.例文帳に追加

用材の表面における菌数の評価方法は、用材の表面抵抗率を測定する工程を含む。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING THICKNESS OF EPITAXIAL LAYER, METHOD FOR MANUFACTURING EPITAXIAL WAFER AND METHOD FOR CONTROLLING MANUFACTURING PROCESS OF EPITAXIAL WAFER例文帳に追加

エピタキシャル層の膜厚測定方法、エピタキシャルウェーハの製造方法およびエピタキシャルウェーハ製造工程管理方法 - 特許庁

To simplify the mechanism for making a fingertip ischemic by pressing the fingertip in the process of measuring the blood viscosity.例文帳に追加

血液粘度の測定過程において、指先を圧迫して虚血状態とするための機構を簡易化する。 - 特許庁

To provide a measuring apparatus capable of the reliability improvement of coordinate reading values and the acceleration of a latch process.例文帳に追加

座標読取値の信頼性の向上、およびラッチ処理の高速化を実現可能な測定装置を提供する。 - 特許庁

The apparatus and method is disclosed for detecting, identifying, and classifying faults occurring in sensors measuring a process.例文帳に追加

プロセスを測定するセンサに発生する故障を検出し、識別し、分類するための装置と方法が開示される。 - 特許庁

The heat treatment conditions are decided based on measurement values of the line width measured in the first line width measuring process.例文帳に追加

第１の線幅測定工程で測定した線幅の測定値に基づいて熱処理条件を決定する。 - 特許庁

To provide an inertia sensor and an inertia measuring device that have an easy production process, are miniaturized and are highly accurate.例文帳に追加

製造プロセスが容易で小型化可能、かつ、高精度な慣性センサおよび慣性測定装置を提供する。 - 特許庁

METHOD OF MEASURING ELECTRIFIED QUANTITY AND FED QUANTITY OF TONER, AND METHOD OF EVALUATING DEVELOPING PROCESS IN ELECTROPHOTOGRAPHIC SYSTEM例文帳に追加

トナーの帯電量，搬送量の測定方法、並びに電子写真システムにおける現像プロセスの評価方法 - 特許庁

To perform more accurate adjustment of printing process parameter by measuring media in a printer by a transfer subsystem.例文帳に追加

転写サブシステムによりプリンタ内の媒体を計測し、より精密な印刷プロセスパラメータ調整を可能とする。 - 特許庁

METHOD OF MEASURING RESIDUAL CARBON OF NONLINEAR RESISTOR, PRODUCTION PROCESS OF NONLINEAR RESISTOR, AND NONLINEAR RESISTOR例文帳に追加

非直線抵抗体の残留炭素測定方法、非直線抵抗体の製造方法、及び非直線抵抗体 - 特許庁

The speed of the motion member 1 in the collision process is detected momently by the measuring part 17 of a laser Doppler speedometer.例文帳に追加

衝突過程における運動部材１の刻々の速度をレーザードップラー速度計の計測部１７が検知する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional membrane structure measuring method of a scanning probe microscope capable of measuring the surface shapes of respective layers at every manufacturing process in a manufacturing process of a semiconductor device having a multilayered structure to synthesize the measurement results and capable of analyzing and evaluating those measuring results using the data of a multilayer.例文帳に追加

多層構造を有する半導体デバイスの製造プロセスで、各層の表面形状を製造工程毎に計測し、それらの計測結果を合成し、多層のデータを用いて解析・評価することができる走査型プローブ顕微鏡の立体膜構造測定方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a combination weighing apparatus and a measuring method for a combination weighing apparatus which are capable of increasing matching probability of a target weight and improving measuring precision in a combination process by a measuring portion.例文帳に追加

計量部の組み合わせ処理において、計量精度を向上するとともに、目標重量に適合する確率を高めることができ組み合わせ秤及び組み合わせ秤における計量方法を提供する。 - 特許庁

To provide a handy device for measuring a characteristic of a high output laser beam in an in-process, particularly, a laser beam measuring device for measuring a characteristic of a vibrating pulse laser in a work position and a laser beam control device.例文帳に追加

高出力レーザビームの特性をインプロセスで計測する軽便な装置、特に振動するパルスレーザの加工位置における特性を計測するレーザビーム計測装置およびレーザビーム制御装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a solid-state image pickup device, capable of correctly measuring in inspecting process and shortening a time taken for measuring, and to provide a method and an apparatus for measuring the solid-state image pickup device.例文帳に追加

検査工程における測定を正しくかつ測定にかかる時間を短縮することができる固体撮像素子の製造方法、並びに固体撮像素子の測定方法及び測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of measuring a specimen that does not require a cleaning process, does not require an expensive measuring instrument, and allows sensitive and quick measurement.例文帳に追加

洗浄工程を必要とすることなく、高価な測定機器が不要あり、そして高感度かつ迅速な測定が可能な被験物の測定方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a tool length measuring process and a tool length measuring device that can securely stop a tool from shifting even when no skip signal is read in.例文帳に追加

スキップ信号が読み込まれない場合であっても、工具の移動を確実に停止させることができる工具長測定方法及び工具測定装置を提供する。 - 特許庁

The method of measuring the diameter of the single crystal comprises measuring diameter data of the single crystal by using the camera, which data are necessary for controlling in a single crystal growth process.例文帳に追加

単結晶が成長する過程で制御のために必要となる単結晶の直径データをカメラを用いて測定する単結晶の直径測定方法である。 - 特許庁

In the method for measuring the collagen, the sample to be tested is treated by using reducing agents in a collagen measuring process carrying out an immunity analysis using an anti-collagen antibody.例文帳に追加

抗コラーゲン抗体を用いる免疫分析によるコラーゲンの測定方法において被験試料を還元剤で処理することを特徴とする、コラーゲンの測定方法。 - 特許庁

To provide a process and a system for measuring the position of a moving body noncontactly at a high accuracy, without being influenced by obstacles in a measuring environment such as vapor, smoke, etc.例文帳に追加

蒸気、煙等による測定環境の障害に影響されることのなく、移動物体の位置を高精度に非接触測定するプロセスとシステムを提供する - 特許庁

To provide a pattern measuring system which can obtain dimensional distribution of a pattern on a wafer correctly, a pattern measuring method, a process management method and an exposure condition resolution method.例文帳に追加

ウエーハ上のパターンの寸法分布を正確に求めることができるパターン計測システム、パターン計測方法、プロセス管理方法及び露光条件決定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for controlling an injection molding machine which can stabilize a measuring time even when a resin which makes it difficult to form a backpressure during a measuring process is used.例文帳に追加

計量工程中に背圧が立ちにくいような樹脂であっても、計量時間を安定化させることのできる射出成形機の制御方法を提供する。 - 特許庁

RESIDUAL MOISTURE MEASURING METHOD IN DRYING PROCESS OF RADIOACTIVE SOLID WASTE, AND DRYING TREATMENT APPARATUS FOR RADIOACTIVE SOLID WASTE PROVIDED WITH RESIDUAL MOISTURE MEASURING APPARATUS例文帳に追加

放射性固体廃棄物の乾燥工程における残留水分測定方法および残留水分測定装置が設けられた放射性固体廃棄物の乾燥処理装置 - 特許庁

To provide an automatic measuring system and an automatic measuring method which use an measuring device which has been installed in each household as it is to process measured values of the measuring gauge from a location remote from the measurement gauge, permitting the reduction of introduction cost.例文帳に追加

既に各戸に設置されている計測計器をそのまま使用して、計測計器より離れた位置から計測計器の測定値の処理をすることができ、導入コストを削減することができる自動計測システムおよび自動計測方法を提供する。 - 特許庁

The blood viscosity estimation method includes: a process of measuring the entrance pressure and exit pressure of an artificial lung; a process of measuring the flow rate of blood flowing through the artificial lung; and a process of calculating the blood viscosity from the entrance pressure, the exit pressure and the flow rate of the blood.例文帳に追加

血液粘度の推定方法は、人工肺の入口圧力及び出口圧力を測定する工程と、人工肺を流れる血液の流量を測定する工程と、入口圧力、出口圧力、及び血液の流量から血液粘度を算出する工程と、から構成される。 - 特許庁

The method of measuring the antibody includes: a sampling process for sampling a biological sample from a subject; a selection process for selecting a part having high antigenicity in the GluRδ2 of the biological sample; and a measurement process for measuring the antibody with the part having high antigenicity as an antigen by peptide synthesis.例文帳に追加

被験者から生物サンプルを採取する採取工程と、前記生物サンプル中のＧｌｕＲδ２のうち、抗原性が高い部位を選択する選択工程と、前記抗原性が高い部位をペプチド合成により抗原として、抗体を測定する測定工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The method according to the present invention to control the variable cam timing system for an internal combustion engine, works with a process to determine the measuring angle phase between a cam shaft and a crank shaft using measuring pulses, a process to determine the switching value equivalent to the difference between the set point and the measuring angle phase, and a process to control an on-off solenoid on the basis of the switching value.例文帳に追加

内燃機関のための可変カムタイミングシステムを制御する方法であって、測定パルスを用いて、カムシャフトおよびクランクシャフト間の測定角度位相を決定する工程と、セットポイントおよび測定角度位相間の差に等しい切換値を決定する工程と、切換値に基づいてオン/オフソレノイドを制御する工程とを設ける。 - 特許庁