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measuring processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1249件
To provide a combined error measuring mark for performing a correct positioning in a metal photolithographic process.例文帳に追加
メタルフォトリソグラフィ工程で正確な位置合わせを行うための合わせ誤差計測マークを提供する。 - 特許庁
To improve stability in adjustment process of a sensor device for measuring the physical quantities of equipment.例文帳に追加
機器の物理量を測定するためのセンサ装置の調整プロセスの安定性を向上させること。 - 特許庁
A process of displaying the degree of fatigue (degree of blood circulation), etc., is performed (S14, 15) and measuring procedures are finished.例文帳に追加
疲労度(血行度)等の表示処理をし(ステップ14,15)、計測手順を終了する。 - 特許庁
LINE WIDTH MEASURING METHOD, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND SUBSTRATE COOLING PROCESS UNIT例文帳に追加
線幅測定方法,基板の処理方法,基板の処理装置及び基板の冷却処理ユニット - 特許庁
To provide a magnetic characteristic measuring device and a magnetic characteristic measuring method capable of stably and accurately measuring a magnetic characteristic of a magnetic substance of moving in a manufacturing process.例文帳に追加
製造工程などにおいて移動する磁性体の磁気特性を、安定して精度良く測定することができる磁気特性測定装置及び磁気特性測定方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a slurry property measuring device capable of precisely measuring the property of a slurry such as an aggregated slurry, and an aggregation process device for performing control of chemical feeding using the measuring device.例文帳に追加
凝集スラリー等のスラリーの性状を的確に計測することができるスラリー性状測定装置と、これを用いて薬注制御するようにした凝集処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide an automatic measuring apparatus for curing process for continuously measuring and displaying the elastic modulus of a sample by measuring the acoustic velocity of ultrasonic wave propagating in the sample in real time.例文帳に追加
試料中を伝播する超音波の音速をリアルタイムで測定することによって、同試料の弾性率を連続的に測定し、表示する硬化過程自動測定装置を提供する。 - 特許庁
To provide a blood flow velocity and blood flow measuring instrument reconstructing a visualized image of a blood flow by a process tomography and measuring the blood flow velocity and the blood flow by the reconstructed image.例文帳に追加
プロセストモグラフィーによって血流の可視化画像を再構成し、その再構成画像によって血流速・血流量を計測すること。 - 特許庁
In a measuring error removing step, a forecasted characteristic value wherein only the measuring error ν among the process errors w and measuring errors ν is removed from the measuring characteristic value can be computed with a measuring error removing unit 14, on the basis of the computed characteristic value and the measured characteristic value.例文帳に追加
計測誤差除去工程では、計測誤差除去部14によって、演算特性値と計測特性値とに基づいて、プロセス誤差wおよび計測誤差νのうち計測誤差νだけを計測特性値から除去した予測特性値を演算することができる。 - 特許庁
After pH, total ammonia, total VFA (total volatile organic acid), etc., are measured by a measuring process 1, free ammonia, nonelectrolytic VFA, etc., are calculated based on the measurement of the measuring process 1 by a calculating process 2 and the volume load of organic materials is limited by a load range limiting process 3.例文帳に追加
pH、全アンモニア、全VFA(全揮発性有機酸)などを測定工程1で測定した後、この測定工程1の測定に基づいて、遊離アンモニアおよび非電離VFAなどを算出工程2で算出するとともに、有機物容積負荷を負荷範囲限定工程3で限定する。 - 特許庁
A process of measuring a ground current which measures the ground current value through the ground cable 8 at the time of spraying the powder coating and a process of inspecting the quality of a coating film thickness based on the earth current value metered by the process of measuring the ground current are prepared in the powder coating process.例文帳に追加
粉体塗布工程に、粉体塗料の吹き付け時に、接地ケーブル8を介して接地電流値を計測する接地電流計測工程と、接地電流計測工程により計測された接地電流値に基づいて塗膜厚の良否を検査する検査工程とを設ける。 - 特許庁
When a single-wafer thin-film process device performs thin-film process for attaining a prescribed thickness, the device once suspends the process before the process reaches the prescribed thickness, and after measuring the film thickness obtained in the process performed thus far, starts the remaining thin film process by deciding the condition of the process, based on the measured film thickness.例文帳に追加
枚葉式薄膜プロセス装置において、薄膜プロセスを所定の厚みまで行う際、処理が所定の厚みにまで達する前に処理を一時中断し、そこまでの処理により行われた膜厚を測定した後、測定した膜厚をもとに,残りの薄膜プロセスの条件を決定し処理を行う。 - 特許庁
The method for measuring the moisture content of the low moisture content tea leaves is featured by measuring the moisture content of the tea leaves discharged from a final tea roller in the tea rolling process and drying process at the final step of the tea production-processing processes.例文帳に追加
製茶加工工程の最終段階に位置する精揉工程及び乾燥工程において、精揉機から排出された茶葉の含水率を測定することを特徴としてなるものである。 - 特許庁
This method for measuring the activity of amylase comprises a process for bringing cyclodextrin modified with a coloring matter into contact with a specimen and a process for measuring the intensity of light emitted from the coloring matter or the absorbance of the coloring matter.例文帳に追加
(1)色素で修飾したシクロデキストリンと被検試料とを接触させる工程、及び(2)色素の発する光の強度又は色素の吸光度を測定する工程を含むアミラーゼ活性の測定方法。 - 特許庁
In the irradiation process of UV rays, the cumulative UV dose on each disk substrate is adjusted based on the measurement result of the measuring process.例文帳に追加
紫外線照射工程において測定工程の測定結果に基づき各ディスク状基板に対する積算紫外線光量を調整する。 - 特許庁
PROCESS CARTRIDGE, IMAGE FORMING APPARATUS WITH THE SAME, BIAS VOLTAGE MEASUREMENT DEVICE FOR PROCESS CARTRIDGE, AND DEVELOPMENT BIAS CONDITION MEASURING METHOD USING THE DEVICE例文帳に追加
プロセスカートリッジ、それを備えた画像形成装置、プロセスカートリッジのバイアス電圧測定装置、及びそれを用いた現像バイアス条件測定方法 - 特許庁
To provide a measuring probe for simultaneously transmitting optical information for measuring a distance between plasma electrodes in a plasma discharge processor for implementing a plasma discharge process under an atmosphere pressure and optical information for measuring a spectral intensity of a plasma, and a measuring apparatus for measuring the gap distance and the spectral intensity using the measuring probe.例文帳に追加
大気圧近傍の圧力下でプラズマ放電処理を行うプラズマ放電処理装置のプラズマ電極間距離およびプラズマの分光強度を測定するための光情報を同時に伝送可能な測定プローブおよびそれを用いて間隙距離測定および分光強度測定を行う測定装置を提供する。 - 特許庁
In a position calculation process, on the basis of potential measured in the potential measuring process, an amount of misregistration of the probe needle to a checking pad is computed (a position calculation process).例文帳に追加
次に、位置算出工程においては、電位測定工程において測定された電位に基づいて、検査用パッドに対するプローブ針の位置ずれ量を算出する(位置算出工程)。 - 特許庁
Further, a process for measuring the activity of cement on the basis of the fluctuation pattern of a value of a current flowing across electrodes is provided as a front process performing the electrolytic process.例文帳に追加
さらには、前記電解工程を実施する前工程として、電極間を流れる電流値の変動パターンによってセメントの活性度を測定する工程が備えられていること。 - 特許庁
After the current measurement process and process to measure the number of revolutions under the non-load condition in an induced voltage measuring process, application of voltage is stopped and an induced voltage under this condition is measured.例文帳に追加
無負荷電流測定工程及び無負荷回転数測定工程の後、誘起電圧測定工程にて、電圧の印加を停止し、その停止時における誘起電圧を測定する。 - 特許庁
To precisely make a decision without any misdecision even if a machining process measuring signal varies large and still has variation even after being averaged by predicting a machining process end point by extrapolation from a way of variation of the mean gradient of averaged data in a specific cycle of a machining process measuring signal.例文帳に追加
加工プロセス計測信号の変動が大きくて平均化しても変動が残るような場合でも、誤判定することなく精度良く加工プロセス終了点の判定ができる加工プロセス終了点実時間判定方法を提供する。 - 特許庁
To provide a device for measuring substrate potential capable of measuring substrate potential as quickly as possible in a process of treatment or after treatment, with simple structure.例文帳に追加
処理中または処理後に可及的速やかに基板電位を測定できるようにした簡単な構成の基板電位測定装置を提供する。 - 特許庁
To provide a color measuring method and a color measuring device capable of confirming visually and easily a changing process with time of an object color.例文帳に追加
対象物の色が時間的に変化する過程を視覚的に容易に確認することができる色計測方法及び色計測装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of precisely measuring the Si concentration of a steel product in no contact manner by improving a conventional eddy current process with insufficient measuring precision.例文帳に追加
従来測定精度が不十分であった渦電流法を改良することにより、非接触で鋼材のSi濃度を正確に測定する方法を提供する。 - 特許庁
ABERRATION MEASURING INSTRUMENT FOR CHARGED PARTICLE BEAM OPTICAL SYSTEM, CHARGED PARTICLE BEAM ALIGNER COMPRISING ABERRATION MEASURING INSTRUMENT, AND PROCESS FOR FABRICATING DEVICE USING THAT INSTRUMENT例文帳に追加
荷電粒子線光学系用収差測定装置、該収差測定装置を具備する荷電粒子線露光装置及び該装置を用いたデバイス製造方法 - 特許庁
When the products A pass through a measuring point P during their transferring process, a length of the products A in their transferring direction is measured by a measuring device 30.例文帳に追加
製品Aはその搬送過程にて、所定の計測地点Pを通過する際、計測ユニット30によりその搬送方向への長さを計測される。 - 特許庁
To prepare an accurate measurement schedule in accordance with the irregularity of a measuring time that fluctuates due to a yield in a measuring process of a wafer.例文帳に追加
ウェハーの測定工程で、歩留りによって変動する測定時間のばらつきに対応して、正確な測定スケジュールを作成できるようにする。 - 特許庁
To provide an angle measuring apparatus capable of performing an angle measuring process after removing multipath waves, even if complex gain patterns of all sensor elements are not necessarily known.例文帳に追加
必ずしも全てのセンサ素子の複素ゲインパターンが既知でなくてもマルチパス波を除去してから測角処理を行える測角装置を提供する。 - 特許庁
To detect a defect caused by interference of bit lines without decreasing the number of simultaneous measuring in a selection process.例文帳に追加
選別工程での同時測定数を減らすことなく、ビット線の干渉による不良を検出する。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING WATER CONTENT BY MICROWAVE AND TEA MAKING PROCESS CONTROL METHOD USED THEREIN例文帳に追加
マイクロ波による含水率測定方法及びその装置並びにこれらを用いた製茶工程制御方法 - 特許庁
DEVICE AND METHOD FOR MEASURING WINDING DENSITY OF FIBER PACKAGE, AND METHOD FOR MANAGING WINDING PROCESS OF FIBER PACKAGE例文帳に追加
繊維パッケージの巻密度測定装置、測定方法、ならびに繊維パッケージ巻き上げ工程管理方法 - 特許庁
PROCESS CARTRIDGE, ELECTROPHOTOGRAPHIC IMAGE FORMING DEVICE, IMAGE FORMING DEVICE, DEVELOPING DEVICE, DEVELOPER CONTAINER AND MEASURING COMPONENTS例文帳に追加
プロセスカートリッジ、電子写真画像形成装置、画像形成装置、現像装置、現像剤容器及び測定部品 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING SUB-OSCILLATION OF CRYSTAL OSCILLATOR PIECE, AND PROCESS CONTROL METHOD OF CRYSTAL OSCILLATOR PIECE例文帳に追加
水晶振動片の副振動測定方法及び測定装置、水晶振動片の加工管理方法 - 特許庁
To provide a measuring recording device suitable for recording a measurement result following monitoring control of a batch process.例文帳に追加
バッチプロセスの監視制御に伴う測定結果の記録に適した測定記録装置を実現すること。 - 特許庁
In the measuring process, the energy of the light whose intensity is measured is larger than band gap energy of the sample S.例文帳に追加
測定工程において、強度を測定する光のエネルギーは試料Sのバンドギャップエネルギーより大きい。 - 特許庁
In a test pattern measuring process (ST12), the size of a test pattern transferred onto a wafer is measured.例文帳に追加
テストパターン測定工程ST12において、ウェハ上に転写されたテストパターンの寸法を測定する。 - 特許庁
The confirmation method for performance of antibacterial material comprises a process for measuring the surface resistivity of a material.例文帳に追加
抗菌用材の性能の確認方法は、用材の表面抵抗率を測定する工程を含む。 - 特許庁
EVALUATION METHOD AND MEASURING METHOD OF DOPANT CONTAMINATION, AND MANAGING METHOD OF THERMAL TREATMENT PROCESS例文帳に追加
ドーパント汚染の評価方法及び熱処理工程の管理方法並びにドーパント汚染量の測定方法 - 特許庁
The confirmation method for performance of antifouling material comprises a process for measuring the surface resistivity of a material.例文帳に追加
防汚用材の性能の確認方法は、用材の表面抵抗率を測定する工程を含む。 - 特許庁
This method for obtaining the resistivity distribution of the ground or the reclaimed land is characterized by comprising a preliminary measuring process for measuring a potential distribution of the ground or the reclaimed land and a calculation process for calculating the resistivity distribution of the ground or the reclaimed land based on the potential distribution measured in the preliminary measuring process.例文帳に追加
地盤又は埋立地の比抵抗分布を求める方法において、地盤又は埋立地の電位分布を測定する予備測定工程と、予備測定工程で測定した電位分布を基に地盤又は埋立地の比抵抗分布を算出する算出工程からなることを特徴とするものである。 - 特許庁
After performing a reference potential difference measuring process (process S2) for measuring a reference potential difference on a potential difference measuring position near the repaired welding crack when sending a current into a structure by applying a voltage to a voltage application position near the repaired welding crack, a plant using the structure is operated (process S3).例文帳に追加
補修溶接き裂の近傍の電圧印加位置に電圧を印加して構造物に電流を流したときの補修溶接き裂の近傍の電位差測定位置における基準電位差を測定する基準電位差測定工程(工程S2)を行った後にその構造物を用いたプラントを運転する(工程S3)。 - 特許庁
The measuring device is configured such that the measuring instrument (10) moves in the conveying direction of the printing object (7) above the printing object (7) moving during a measuring process.例文帳に追加
本発明の測定装置は、測定器具(10)が測定プロセス中に動いている被印刷体7の上方で、当該被印刷体の搬送方向へ移動するように構成されていることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a resistance measuring method for accurately measuring an electrical resistance of a plate material formed with a film on its surface, and a component inspecting process to which the resistance measuring method is applied.例文帳に追加
表面に膜が形成された板材の電気抵抗の測定を正確に行なうことができる抵抗測定方法およびその抵抗測定方法が適用された検査部品プロセスを提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the inkjet recording head has a process of measuring a height of a principal plane of the head substrate at least on three measuring points (S101), and a process of setting a reference plane that passes two points on the principal plane of the measuring points (S103).例文帳に追加
本発明のインクジェット記録ヘッドの製造方法は、ヘッド基板の主面の高さを少なくとも3つの測定点で測定する工程(S101)と、測定点のうち、主面上の2点を通る基準面を設定する工程(S103)とを有する。 - 特許庁
In a data acquisition process, the adaptive value process generation program automatically decides a selection technique for a measuring point, and transfers a result thereof to the DOE tool (S3).例文帳に追加
データ取得処理において、適合値手順生成プログラムは、計測点の選択手法を自動的に決定しその結果をDOEツールに渡す(S3)。 - 特許庁
To provide a thin film measuring device of an ellipsometry system suitable for inline measurement, for example, in a semiconductor manufacturing process or an FPD manufacturing process.例文帳に追加
例えば、半導体製造プロセスやFPD製造プロセス等におけるインライン計測に好適なエリプソメトリ方式の薄膜計測装置を提供すること。 - 特許庁
Moreover, by introducing a measuring process and a dicing process per block, a manufacturing method of the circuit device suitable for resource saving and mass production can be realized.例文帳に追加
更にブロック毎の測定工程およびダイシング工程を導入して省資源で大量生産に適した回路装置の製造方法を実現できる。 - 特許庁
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