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measuring processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1249件
In the connection process, when measuring a voltage of one battery cell CL and then measuring a voltage of the next battery cell CL, the capacitor C is connected to the next battery cell CL without being discharged.例文帳に追加
接続工程は、一の電池セルCLの電圧を測定した後、次の電池セルCLの電圧を測定するときに、コンデンサCを、放電させることなく、次の電池セルCLに対して接続する。 - 特許庁
The diagnostic method of acute renal failure includes the process of measuring the amount of aquapolin 1 in the urine of a specimen preferably by an immunological measuring method using an anti-aquapolin antibody.例文帳に追加
本発明は、被検体の尿中のアクアポリン1の量を好ましくは抗アクアポリン抗体を用いた免疫学的測定法により測定する工程を含む、急性腎不全の診断方法に関する。 - 特許庁
To provide a moisture percentage measuring device capable of measuring the moisture percentage of a raw material in line in a drying process for the raw material without sampling the raw material from a dryer.例文帳に追加
原料の乾燥工程において原料中の水分率測定を乾燥装置から原料サンプリングをすることなしにインラインで行うことができる水分率測定装置を提供すること。 - 特許庁
To discriminate the start timing of an automatic regeneration process of a DPF, and to calculate of fuel consumption by arranging a measuring tool capable of measuring a worked area in a farm working vehicle.例文帳に追加
農作業車において、作業済み面積を計測可能な計測具を装備してDPFの自動再生処理の開始時期の判別と燃料消費量を算出しようとするものである。 - 特許庁
The displacement characteristic is discriminated by performing at least a driving/measuring process for measuring an electrostatic capacitance of a piezoelectric material layer by applying a predetermined voltage to the piezoelectric element under condition that the piezoelectric element can be driven.例文帳に追加
圧電素子が駆動可能な条件で、所定電圧を圧電素子に印加して圧電体層の静電容量を測定する駆動測定工程を少なくとも実行することにより、その特性を識別する。 - 特許庁
In the press-fitting process, a value of load applied by a servo-press 22 is measured by a load measuring device 23, and the stroke of the servo-press 22 is measured by a stroke measuring device 24.例文帳に追加
圧入工程においては、サーボプレス22により印加される荷重値を荷重計測装置23により計測するとともに、サーボプレス22のストローク量をストローク量計測装置24により計測する。 - 特許庁
When it is discriminated that the level of the measuring signal is recovered to the initial state, the cleansing process is terminated.例文帳に追加
測定信号の信号レベルが初期レベルに復帰した場合には、初期状態に復帰したと判定して、洗浄処理を終了する。 - 特許庁
To provide a wafer type temperature sensor where the measuring process of temperature can be automated and the accuracy of measurement will not degrade, even at a high temperature.例文帳に追加
温度の測定工程を自動化することができ、かつ、高温中でも測定精度が劣化しないウェハ型温度センサを提供する。 - 特許庁
In a light volume measuring process, when the same gradation value G0 is designated on each, a light volume P0 of each electro-optical element E is measured.例文帳に追加
光量測定過程では、各々に同じ階調値G0を指定したときの各電気光学素子Eの光量P0を測定する。 - 特許庁
Also the method has a process of obtaining the distance of each measuring point other than the two points included in the reference plane from the reference plane (S104).例文帳に追加
また、基準面内に含まれる2点以外の測定点の基準面からの距離をそれぞれ求める工程(S104)を有する。 - 特許庁
To solve the following problem: if measuring instrument has a high resolution, a process of determining measurement parameters of a reference source having a high resolution can be quite expensive.例文帳に追加
測定機器が高分解能だと、一層高い分解能の基準ソースの測定パラメータを決定する処理が非常に高価となる。 - 特許庁
Preferably, the determination method also includes a measurement process for measuring expression level of GSTπ in the biological sample.例文帳に追加
また、上記判定方法は、上記生体試料中のGSTπの発現量を測定する測定工程を有することが好ましい。 - 特許庁
In S5, an eccentricity amount of the alignment in the XY direction between the center of the pupil and a measuring beam axis is computed, then the process shifts to S7.例文帳に追加
S5において瞳孔中心と装置の測定光軸とのXY方向のアライメントのずれ量を算出しS7に移行する。 - 特許庁
In a rush current measuring process, the DC motor is driven with application of voltage, after assembling of motor components of measure the rush current, when the motor is driven.例文帳に追加
突入電流測定工程にて、モータ部品組付け後に電圧を印加して起動し、その起動時の突入電流を測定する。 - 特許庁
To provide a noncontact shape measuring device capable of in-lining shape evaluation of hot forging of special shape to a mass production process.例文帳に追加
熱間鍛造異形品の形状評価の量産工程へのインライン化を可能とする非接触形状測定装置を提供する。 - 特許庁
In the production unit 1, measuring devices 10 which find a process parameter are installed in order to control the treatment quality of the production processes.例文帳に追加
製造ユニット(1)の中には、製造工程の処理品質を管理するために、プロセスパラメータを求める測定装置(10)が設けられている。 - 特許庁
To provide a measurement method of accurately measuring rate of reduction of chrome in a process of reducing trivalent chrome to divalent chrome.例文帳に追加
3価クロムを2価クロムに還元する工程において、クロムの還元率を正確に測定することができる測定方法を提供する。 - 特許庁
Since the noise component captured during an actual measuring process is removed at that time, the precision of an output signal value of the three-dimension lookup table is improved.例文帳に追加
その際に、実測過程で含んだノイズ成分を除去するので、3次元ルックアップテーブルの出力信号値の精度が向上する。 - 特許庁
To achieve high-accuracy pattern formation by preliminarily measuring warpage of a substrate and forming a pattern complying with the amount of warpage in the process of manufacturing a photomask.例文帳に追加
フォトマスクの製造で、基板のそり事前に測定し、そり量に応じたパターンを作成し、高精度なパターン作成を実現する。 - 特許庁
In this case, a particle measurement result acquired by measuring particles in the process gas can be used as a determination reference for switching the channel.例文帳に追加
その際、プロセスガス中のパーティクルを計測するパーティクル測定結果を流路切換えの判定基準として用いることができる。 - 特許庁
To provide a wafer type temperature sensor capable of automating a temperature measuring process, and preventing deterioration of measurement accuracy even at high temperatures.例文帳に追加
温度の測定工程を自動化することができ、かつ、高温中でも測定精度が劣化しないウェハ型温度センサを提供する。 - 特許庁
To provide magnetic layer thickness measuring instrument which calculates the magnetically effective film thickness of a magnetic recording medium in real time, during a coating application process.例文帳に追加
塗布工程中リアルタイムに磁気記録媒体の磁気的に有効な膜厚を算出する磁性層厚み測定装置を提供する。 - 特許庁
To provide a biomolecule detection element capable of measuring a bonding reaction process and capable of being simply used without being subjected to washing operation.例文帳に追加
結合反応過程を計測することができ、かつ、洗浄操作なしで簡便に使用できる生体分子検出素子を提供する。 - 特許庁
To provide a small lightweight process cartridge easy to replace and capable of measuring toner image density by a simple configuration and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加
交換が容易で小型軽量、簡易な構成でトナー像濃度の測定可能なプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁
The method also includes a step (44) for measuring multiple locations and attributes of the manufactured in-process part including the primary features.例文帳に追加
本方法はまた、1次特徴部を含む製造された中間部材の複数の位置及び属性を測定する段階(44)を含む。 - 特許庁
DEVELOPER DAMMING MEMBER, TONER CONCENTRATION MEASURING DEVICE, STIRRING DEVICE, DEVELOPING DEVICE, PROCESS CARTRIDGE, IMAGE FORMING APPARATUS, DEVELOPING METHOD AND IMAGE FORMING METHOD例文帳に追加
現像剤堰き止め部材、トナー濃度測定装置、攪拌装置、現像装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置、現像方法及び画像形成方法 - 特許庁
MEASURING PROCESS FOR COMBUSTION PROPAGATION ANALYSIS OF FUEL AND FLAME SPREADING, AND TEST METHOD OF FLAME PROPAGATION MODE OF FUEL USING DEVICE例文帳に追加
燃料の燃焼伝播解析及び火炎燃え広がりの測定装置、及び該装置を用いた燃料の火炎伝播モードの試験方法 - 特許庁
This adhesive strength simple measuring method is practiced in a production process of the multiple layer tube 1 on which a plurality of resin layers are laminated.例文帳に追加
接着力簡易測定方法は、複数の樹脂層が積層された複層チューブ1の生産工程内において行われる。 - 特許庁
For example, in a design process a, design data of the product is, in a manufacturing process b, manufacturing condition of each process such as casting and processing when the product is manufactured is, in a measuring process c, the result of measurement of prescribed measurement items about the product is, and in an assessment process d, the result of a test or assessment of the product is registered.例文帳に追加
例えば設計工程aでは当該製品の設計データが、製造工程bでは当該製品を製造する際の鋳造、加工などの各工程での製造条件が、測定工程cではその製品についての所定測定項目の測定結果が、評価工程dではその製品についての試験結果や評価が登録される。 - 特許庁
The method includes the process of receiving a first and a second diversity signals, the process for measuring signal strength of the first and the second diversity signals, the process of estimating noise floor of the first and the second diversity signals.例文帳に追加
上記方法は、第1および第2のダイバーシチ信号を受信する工程と、前記第1および第2のダイバーシチ信号の信号強度を測定する工程と、前記第1および第2のダイバーシチ信号のノイズ・フロアを推定する工程とを含む。 - 特許庁
This measuring method of the viscera function parameter includes following processes: [1] A process for collecting gingival crevice liquid from mammal; [2] A process for determining biologically the numerical value of the viscera function parameter in the gingival crevice liquid collected in the process [1].例文帳に追加
下記[1]及び[2]に記載の工程を含む内臓機能パラメータの測定方法; [1]哺乳動物より歯肉溝液を採取する工程: [2][1]で採取された歯肉溝液中の内臓機能パラメータの数値を生化学的に決定する工程。 - 特許庁
One or more microprocessors are provided with programming to control: a process for acquiring measured charge signals with time; a process for using a mathematical model and an error minimization method; and a process for measuring the quantity or the concentration of glucose in a subject.例文帳に追加
1つ以上のマイクロプロセッサが、経時的に測定電荷シグナルを得る工程;数学的モデルと誤差最小化方法を使用する工程;および被験体中のグルコースの量または濃度を測定する工程を制御するためのプログラミングを備える。 - 特許庁
When the detected temperature of the heating cylinder by a temperature sensor deviates from the prescribed range in relation to the set temperature, the rotation speed of a screw is controlled by a measuring servo-motor during a measuring process and/or the back pressure applied to the screw is controlled by an injecting servo-motor during the measuring process.例文帳に追加
温度センサによる加熱シリンダの検出温度が設定温度値に対して所定範囲を超えて外れると、温度センサによる検出温度が設定温度値に近づくように、計量工程時の計量用サーボモータによるスクリューの回転速度または計量工程時に射出用サーボモータによりスクリューに付与する背圧の少なくとも何れか一方を制御する。 - 特許庁
The image data processing method includes a haze value measuring process for measuring the haze value corresponding to each of the respective surface positions of the wafer using a wafer surface inspection device and a noise removing process for removing a noise component by performing the processing of image data along the measuring direction of the haize value with respect to the image data comprising the haze value corresponding to each of the surface positions of the wafer.例文帳に追加
ウェーハ表面検査装置を用いて、ウェーハ表面の各位置に対応したヘイズ値を測定するヘイズ値測定工程と、ウェーハ表面の各位置に対応したヘイズ値からなる画像データに対し、ヘイズ値の測定方向に沿って画像データ処理を行ってノイズ成分を除去するノイズ除去工程とを含む画像データの処理方法である。 - 特許庁
The fault supervisory system of a plasma processing apparatus is characterized in comprising a particle measuring means for measuring the amount of particle generated by the plasma process at the area near the plasma processing portion, and a fault detecting means for detecting the occurrence of the fault in the plasma process on the basis of the result of measurement by the particle measuring means.例文帳に追加
プラズマ処理装置の異常監視システムであって、プラズマ処理部近傍において、プラズマ処理により発生するパーティクル量を計測するパーティクル計測手段と、前記パーティクル計測手段による計測結果に基づいて、プラズマ処理における異常発生を検出する異常検出手段とを備えていることを特徴とするシステム。 - 特許庁
The measuring method of the electromagnetic characteristics using a measuring system, equipped with the electromagnetic characteristics measuring tool, includes at least a process for imparting a signal having a fixed magnitude to the electromagnetic characteristics measurement tool, and measuring the magnitude of the output signal with respect to frequency; and a process for determining the resonance frequency and the Q-value, and determining the dielectric characteristic and magnetic permeability characteristics.例文帳に追加
前記電磁気特性測定治具を備えた測定システムを用いた電磁気特性の測定方法であって、前記電磁気特性測定治具に、一定の大きさの信号を与え、周波数に対する出力信号の大きさを測定する工程と、共振周波数とQ値とを求め、誘電特性及び透磁特性を求める工程を少なくとも含むことを特徴とする電磁気特性の測定方法。 - 特許庁
In this surface state measuring method for measuring the surface state of a semiconductor wafer 12 based on infrared rays emitted from the semiconductor wafer 12 after multiple reflection by the inside of the semiconductor wafer 12, a reference spectrum is measured before a prescribed manufacturing process, and a measuring spectrum is measured after a prescribed manufacturing process, and the noise caused by the interference fringe is reduced based on the reference spectrum and the measuring spectrum.例文帳に追加
半導体ウェハ12内部を多重反射した後に半導体ウェハ12より出射される赤外線に基づいて半導体ウェハ12の表面状態を測定する表面状態測定方法において、所定の製造工程前に参照スペクトルを測定し、所定の製造工程後に測定スペクトルを測定し、参照スペクトル及び測定スペクトルに基づいて、干渉縞に起因するノイズを低減する。 - 特許庁
To provide a contactless temperature measuring instrument and device capable of measuring a temperature of a semiconductor wafer or the like under treatment in a process chamber at high precision over a wide range, and a manufacturing method and device for a semiconductor device using the contactless temperature measuring method and device.例文帳に追加
プロセスチャンバ内で処理中の半導体ウエハ等の温度を、広い領域で高精度に非接触で測定できる非接触温度測定方法およびその装置、ならびにそれを用いた半導体装置の製造方法とその装置とを提供すること。 - 特許庁
Besides, the analysis method includes: a process for putting a sample into the inner tube 12 of the NMR sample tube 10; and a process for measuring the NMR of the sample by using the NMR sample tube 10 in which the sample is put.例文帳に追加
また、分析方法は、NMR試料管10の内管12に試料を入れる工程と、試料が入れられたNMR試料管10を用いて、試料のNMRを測定する工程を有する。 - 特許庁
The information is used in the downstream exposure apparatus 18 for a preliminary deformation process of an exposure pattern and for measuring the substrate so as to reduce a process time in the downstream exposure apparatus 18.例文帳に追加
下流側露光装置18で、この情報を、予め行う露光パターンの変形処理、および、基板計測に使用することにより、下流側露光装置18での処理時間を短縮する。 - 特許庁
In a first leak inspection process S4, a predetermined reverse bias voltage is impressed between a positive electrode and a negative electrode after an element formation process A1 for measuring a first leak current value.例文帳に追加
第1のリーク検査工程S4は、素子形成工程S1後に、陽極及び陰極からなる両電極間に所定の第1の逆バイアス電圧を印加し、第1の漏れ電流値を計測する。 - 特許庁
When the ion implantation process is started, the ion beam current measuring part 4 is disconnected from the direct current generator 6 by the operation of the exchange unit 7, and connected to the platen 2 to start ion implantation process.例文帳に追加
イオン注入処理開始時に、切り替えユニット7が動作し、イオンビーム電流計測部4は直流電流発生器6と接続を遮断し、プラテン2と接続され、イオン注入処理が開始される。 - 特許庁
To provide a measuring device that can execute flexible process control without executing any useless processes when a prescribed process is executed, based on results of condition decision for measured data.例文帳に追加
測定データに対する条件判断の結果に基づいて所定の処理を実行させるのにあたり、無駄な処理を実行させないで柔軟な処理制御が行える測定装置を提供すること。 - 特許庁
To provide an apparatus for measuring fluid inside a pipe line and a clogging diagnosing system, capable of accurately diagnosing clogging in a connecting pipe at all times, without being affected by process flow rates or process states.例文帳に追加
プロセス流量やプロセス状態に影響されることなく、常に、高い確度で導圧管の詰まり診断を行える管路内流体の測定装置および詰まり診断システムを提供する。 - 特許庁
A process management device 10 acquires quality characteristic values from a plurality of prescribed measurement positions of a substrate W subjected to a prescribed process by a production device 1, by a measuring instrument 11.例文帳に追加
工程管理装置10は、製造装置1により所定の工程が実施された基板Wについて、測定装置11により、基板Wの所定の複数の測定位置から品質特性値を取得する。 - 特許庁
When the injection abnormality occurs in a period from starting the injection process till finishing the injection process, the inline screw type injection molding machine performs a measuring operation and, after finishing the measuring operation, controls to stop the operation of the machine.例文帳に追加
インラインスクリュ式の射出成形機において、射出工程が開始されてから射出工程が完了する前までの間に、射出動作異常が発生した場合には、計量動作を実行させて、計量動作が完了した後に、マシンの運転を停止させるように制御する。 - 特許庁
The second evaluation method of the emulsion stability includes a heating process and a hydrophobic degree measuring method for measuring the surface hydrophobic degree of protein contained in the emulsion, after the heating process and the emulsion stability of the emulsion is evaluated, on the basis of the surface hydrophobic degree.例文帳に追加
第二の乳化安定性の評価方法は、加熱工程と、加熱工程後の乳化物に含まれるタンパク質の表面疎水性の度合いを測定する疎水性度測定工程とを備え、該表面疎水性の度合いに基づいて乳化物の乳化安定性が評価される。 - 特許庁
This failure detecting apparatus for a DPF (diesel particulate filter) executes a sampling process (S3) for adhering PM (particulate matter) to a sensor electrode by applying a predetermined voltage to the sensor electrode, and thereafter, executes a measuring process (S4) for measuring an electrostatic capacity changed quantity ΔC of the sensor electrode.例文帳に追加
本発明のDPFの故障検知装置は、センサ電極部に所定の電圧を印加することでこのセンサ電極部にPMを付着させるサンプリング処理(S3)を実行した後、センサ電極部の静電容量変化量ΔCを測定する測定処理(S4)を実行する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a spiral steel pipe and an apparatus for measuring the shape, capable of measuring the shape of the steel pipe online after a forming/welding process of a steel strip in a manufacturing process of the spiral steel pipe, and capable of carrying out the measurement by using a facility which is altered simply as much as possible by utilizing a current facility.例文帳に追加
スパイラル鋼管の製造工程において、鋼帯の成形・溶接後の鋼管の形状をオンラインで計測可能であるとともに、現状の設備を活用し極力簡単な設備改造で計測可能なスパイラル鋼管の製造方法および形状測定装置を提供する。 - 特許庁
The evaluation method of an electrode has a feature having a potential measuring process immersing an electrode and a reference electrode in electrolyte solution and measuring potential of the electrode against the reference electrode, and an evaluation process evaluating its electrode by comparing the measured electrode potential and a given potential.例文帳に追加
電極及び参照電極を電解液内に浸漬しその電極の参照電極に対する電位を測定する電位測定工程と、測定した該電極の電位を所定電位と比較することでその電極を評価する評価工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁
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