「measuring process」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a film deposition system capable of precisely measuring a film thickness and confirming whether a film quality is good or not in a process of performing a film deposition by using an aerosol deposition method.例文帳に追加

エアロゾルデポジション法を用いて成膜を行う過程において、精密に膜厚を測定すると共に、膜質の良否を確認することができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

The current input terminal 106 and the battery terminal 108 also serve as terminals for measuring the resistance of the detection resistor Rsense in the inspection process.例文帳に追加

電流入力端子１０６、電池端子１０８は、検査工程において検出抵抗Ｒｓｅｎｓｅの抵抗値を測定するための端子としても機能する。 - 特許庁

Further, since the specimen treatment apparatus can smoothly be transferred to an inspection process after the release of the resting state of the measuring instrument 10, wasteful power consumption can be avoided.例文帳に追加

また、休止状態の解除の後、装置を検査工程へと円滑に移行させることができるため、無駄に電力が消費されるのを回避することができる。 - 特許庁

When a service start signal is outputted, a rotational speed of a rotor is changed from an ordinary speed to a high speed to start a measuring process of a remaining interval time.例文帳に追加

役物始動信号が出力されたときにはロータの回転速度が通常速度から高速度に切換わり、残りインターバル時間の計測処理が開始される。 - 特許庁

To provide an apparatus for safely measuring a bioelectrical information by making it possible to stably constitute a section for holding an electrode within a short period of time in the mass production process.例文帳に追加

量産工程において短時間に安定して把持部に把持部電極を構成することを可能にし、かつ、安全な生体情報測定装置を提供すること。 - 特許庁

To obtain a thin film magnetic head capable of preventing insulation deterioration and dielectric breakdown and measuring insulation characteristics in its process and its treating method.例文帳に追加

工程中において、絶縁劣化、絶縁破壊を防止できると共に、絶縁特性測定の可能な薄膜磁気ヘッド集合体、及び、その処理方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the quality of signal after equalization process can be monitored only by measuring amplitude of the Q signal of BPSK signal, with no complex calculation.例文帳に追加

これにより、複雑な計算をせずとも、ＢＰＳＫ信号のＱ信号の振幅を測定するのみで、等化処理後の信号の品質を監視することが可能となる。 - 特許庁

A zero point adjusting means 61 is provided for adjusting the zero point of the displacement measuring means 27 at idle during which a tool in a working process does not make contact with a workpiece.例文帳に追加

加工工程中の工具がワークに接していない空転状態時に変位測定手段２７のゼロ点調整を行うゼロ点調整手段６１を設ける。 - 特許庁

A process for measuring a system load of the server device and delay of the network for transmitting the message between the client device and the server device is included in the switching method.例文帳に追加

この切り替え方法には、サーバ装置のシステム負荷と、クライアント装置とサーバ装置の間でメッセージを伝達するネットワークの遅延とを計測する過程が含まれる。 - 特許庁

A measuring section MS measures at least either one of rotation angles S1 and S2 for the feeding side core 11 and the take-up side core 12 in the carrying process.例文帳に追加

測定部ＭＳは、搬送する工程での供給側コア１１および巻取側コア１２の少なくともいずれかの回転角度Ｓ１，Ｓ２を測定するものである。 - 特許庁

The method for evaluating presence or absence of functional abnormalities of the skin barrier comprises a process of measuring the expression of protease and/or its inhibitor on the skin surface of a specimen.例文帳に追加

被検体における皮膚表面のプロテアーゼ及び／又はそのインヒビターの発現を測定する工程を含む、皮膚バリアの機能異常の有無を評価する方法等。 - 特許庁

To provide a method for measuring the thickness of a metal layer formed on a flexible substrate in a flexible wiring substrate manufacturing process used for flexible electronics.例文帳に追加

フレキシブルエレクトロニクスに使用されるフレキシブル配線基板製造工程中に、フレキシブル基板上に形成された金属層の厚さを測定する方法を提供する。 - 特許庁

A link-down is generated within the network 2 in the transmission process, and change time is measured from the number of frame transmission and reception times in the respective ports 4a, 4b of the measuring instrument 4.例文帳に追加

この送信過程でネットワーク２内にリンクダウンを発生させ、測定器４の各ポート４ａ，４ｂでのフレーム送受信数から切り替わり時間を測定する。 - 特許庁

The manufacturing method has an inspection process for determining the depth from the surface at which a constant carbon concentration is acquired by using the measuring method, and performing nondestructive inspection of the carburized member.例文帳に追加

また、前記測定方法を用いて、一定炭素濃度となる表面からの深さを求め、浸炭部材を非破壊検査する検査工程を有する製造方法とする。 - 特許庁

To provide a lens measuring instrument and its control method capable of promoting the efficiency of the measurement of lens characteristics (spectral transmittance characteristics and stop characteristics) and the process of the writing operation.例文帳に追加

レンズ特性（分光透過率特性と絞り特性）の測定と書き込み作業を効率化することのできるレンズ測定機及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide an automatic measurement apparatus for aluminum for measuring high-concentration aluminum containing a solid component and a soluble component in order to manage the aluminum concentration in a water purification process.例文帳に追加

浄水プロセスにおけるアルミニウム濃度の管理のため、固形成分と溶解成分を含む高濃度のアルミニウムを測定するためのアルミニウムの自動測定装置を提供する。 - 特許庁

To properly process neutron detection signals by more surely improving the noise immunity of signal cables in a device for measuring neutrons for a nuclear power generation facility.例文帳に追加

原子力発電設備用中性子測定装置において、信号ケーブルのノイズ耐性をより確実に向上させ、中性子検出信号を正しく処理することにある。 - 特許庁

A temperature measuring apparatus monitors temperature of a semiconductor substrate, which is housed inside a processing chamber so as to supply gas to the process chamber of a wafer processing system.例文帳に追加

ウエハ処理システムの処理チャンバ内にガスを送出することもできるように、処理チャンバ内に容れられた半導体基板の温度をモニタするための温度測定装置。 - 特許庁

To provide a DLTS sample structure, a DLTS measuring method, and a semiconductor device for detecting an impurity coming into a semiconductor layer during a process.例文帳に追加

プロセス中に半導体層中に混入された不純物を検出することができるＤＬＴＳサンプル構造、ＤＬＴＳ測定方法および半導体デバイスを提供する。 - 特許庁

A velocity component in a beam axis direction induced by irradiation with an ultrasonic beam U is measured by an ultrasonic Doppler method using a second probe 2 in a velocity measuring process.例文帳に追加

超音波ビームＵの照射により誘起されるビーム軸方向の速度成分を速度測定工程において第２プローブ２を用いて超音波ドップラー法により測定する。 - 特許庁

The scheduling function controls a performance measuring means provided, in a processor or system control circuit within the each computer and acquires the processor operating characteristics of each process.例文帳に追加

前記スケジューリング機能は、各計算機内のプロセッサ又はシステム制御回路に設けた性能測定手段を制御し、各プロセスのプロセッサ動作特性を採取する。 - 特許庁

Next, the sheet resistance RS of the temperature monitoring wafer 10 having completed the process is measured under the heat treatment condition including the unknown temperature with the heat treatment furnace as the temperature measuring object.例文帳に追加

つぎに温度測定対象である熱処理炉にて未知の温度を有する熱処理条件で処理を施した温度モニタウェーハ１０のシート抵抗ＲＳを検出する。 - 特許庁

The measuring device further performs a loss rate correction process to correct a loss rate in such a way that the smaller the average value of the capture-enabled numbers in each time period, the larger the increase of the loss rate(#16).例文帳に追加

そして、各時間帯のキャプチャ可能個数の平均値が小さいほど増加率が大きくなるようにロス率を補正するロス率補正処理を実行する（＃１６）。 - 特許庁

To provide a voltage supply parameter measurement device of a wafer burn-in system capable of measuring voltage supply parameters to more DUTs simultaneously by a single test process.例文帳に追加

単一のテスト工程によってより多くのＤＵＴに対するＶＳパラメータを同時に測定できるウェハバーンインシステムのＶＳパラメータ測定装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a comparatively inexpensive semiconductor measuring jig, where a probe can be exchanged and the measurement of high-frequency characteristic in the pellet check process of a semiconductor device can be improved.例文帳に追加

プローブが交換可能で、かつ、半導体装置のペレットチェック工程における高周波特性の測定を改善できる比較的安価な半導体測定冶具を提供すること。 - 特許庁

To provide a hybrid water quality measuring device for water treatment process which can exactly specify the characteristics of water quality element of water to be treated and to provide a water treatment system having the same device.例文帳に追加

被処理水の水質要素の特性を正確に特定することができる水処理プロセスハイブリッド水質計測装置およびこれを有する水処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide an optical inspection apparatus which can surely carry out a filtering process to a scattering light from a measuring object,, and has its efficiency of utilizing light improved.例文帳に追加

測定対象からの散乱光に対して確実にフィルタ処理を行うことができるとともに、その光利用効率が向上される光学検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a detection element for an infrared gas analyzer constituted so as not to generate gas exerting an adverse effect on measuring precision, simple in manufacturing process and ehnanced in yield.例文帳に追加

測定精度に悪影響を及ぼすガスが発生することがなく、製造工程が簡単で歩留まりのいい赤外線ガス分析計用検出素子を提供する。 - 特許庁

To improve imprinting accuracy, and to improve a yield, by automatically determining transfer accuracy in a transfer process, by measuring pattern strain in imprinting when press-fitting a mold.例文帳に追加

インプリント時のパターン歪みをモールド圧着時に測定し、転写精度を転写工程中に自動判定することによりインプリント精度の向上、収率の向上を図る。 - 特許庁

By applying a dielectric constant measuring method using electron energy loss spectroscopy to a semiconductor device in the middle of a process, the dielectric constant in a localized region is evaluated.例文帳に追加

工程途中の半導体装置に対して、電子エネルギ損失分光法を用いた誘電率計測法を適用することで、局所領域での誘電率を評価する。 - 特許庁

To realize an IC tester, capable of measuring a settling waveform at a high speed with high accuracy, by sequentially executing an averaging process of data to the high-speed settling waveform.例文帳に追加

高速セトリング波形について連続的にデータの平均化処理を行なうことにより、高速高精度にセトリング波形の測定ができるＩＣテスタを実現する。 - 特許庁

To provide a bimetal coin that is hard to be faked, and to provide a coin selector capable of measuring a metallographic change caused in a manufacturing process of the bimetal coin.例文帳に追加

偽造が困難なバイメタルコインを提供し、かつバイメタルコインの作成加工行程において生じた金属組織変化を測定できるコインセレクタを提供すること。 - 特許庁

This evaluation method of the endoplasmic reticulum amerioration stress action includes a process for measuring a generation level of the endoplasmic reticulum stress in an SHR/NDmc-cp rat.例文帳に追加

ＳＨＲ／ＮＤｍｃ−ｃｐラットにおける小胞体ストレスの生成レベルを測定する工程を含む、小胞体ストレス改善作用の評価方法が提供された。 - 特許庁

To provide a measuring method and device by which an internal machining process of a transparent sample can be observed in detail by laser.例文帳に追加

レーザーによる透明試料内部加工過程を詳細に観察することができるレーザーによる透明試料の内部加工過程の測定方法及びそのための装置を提供する。 - 特許庁

Infrared thermography is used at a specified wavelength for measuring a temperature change, and physiological and molecular events for inducing thermogenesis reaction in a physiological process are monitored.例文帳に追加

温度変化測定に特定波長において赤外サーモグラフィーを用い、生理学的プロセスにおける発熱反応を誘発する生理学的あるいは分子学的事象をモニターする。 - 特許庁

To provide an inexpensive, high-sensitivity, and high-performance chromatographic measuring apparatus which uses a reduced number of constituent members and in which the test piece preparing process is simplified.例文帳に追加

構成部材の削減を図り、かつ試験片作製工程を簡易化した、低コストで高感度・高性能なクロマトグラフィ測定装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method for adjusting an inkjet drawing apparatus includes a process for measuring a liquid droplet parameter for the liquid droplets generated by each liquid droplet generator in a plurality of liquid droplet generators.例文帳に追加

本発明の方法は、複数の液滴生成器における各液滴生成器によって生成された液滴に対する液滴パラメータを測定する工程を含んでいる。 - 特許庁

LITHOGRAPHIC PROCESS, EVALUATING METHOD FOR LITHOGRAPHY SYSTEM, ADJUSTING METHOD FOR SUBSTRATE-PROCESSING APPARATUS, LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD AND APPARATUS FOR EXPOSURE, AND METHOD FOR MEASURING CONDITION OF PHOTOSENSITIVE MATERIAL例文帳に追加

リソグラフィ・プロセス及びリソグラフィ・システムの評価方法、基板処理装置の調整方法、リソグラフィ・システム、露光方法及び装置、並びに感光材料の状態の測定方法 - 特許庁

In addition to the respective processes, the blood viscosity ratio estimation method includes: a process of measuring the hematocrit value of the blood and a blood temperature; a process of calculating normal blood viscosity from the hematocrit value and the blood temperature; and a process of calculating the viscosity ratio of the blood viscosity and the normal blood viscosity.例文帳に追加

血液粘度比の推定方法は、上記の各工程に加え、血液のヘマトクリット値及び血液温度を測定する工程と、ヘマトクリット値及び血液温度から正常血液粘度を算出する工程と、血液粘度と前記正常血液粘度との粘度比を算出する工程と、から構成される。 - 特許庁

An evaluation method has a process obtaining correlation of parameter indicating irradiation damage and hardness of a material identical to a member receiving irradiation, a process measuring the hardness of the member after exposed to radiation, and a process obtaining a parameter value of the member from the hardness of the member after exposed to the radiation and the correlation.例文帳に追加

照射を受ける部材と同等の材料について、照射損傷を表すパラメータと硬さとの相関関係を求める工程と、部材の放射線照射後の硬さを測定する工程と、部材の放射線照射後の硬さと相関関係とから当該部材のパラメータの値を求める工程と、を有する。 - 特許庁

A process state measuring means 108 acquires information for the state of each process operating on an external system 120, and a HW (hardware) resource use process number comparison part 110 detects a HW unused state where the number of processes using HW resources is smaller than the number of HW resources from the acquired result.例文帳に追加

プロセス状態計測手段１０８は、外部のシステム１２０の上で動作する各プロセスの状態に関する情報を取得し、取得した結果から、ＨＷ（ハードウェア）資源利用プロセス数比較部１１０は、ＨＷ資源を利用中のプロセスがＨＷ資源数より少ないＨＷ未活用状況を検出する。 - 特許庁

Then, the voltage is applied to the voltage application position arranged identically to Process S2 to make flow current into the test piece, and potential difference actual measurement data is obtained by measuring the difference in potentials for the plurality of combinations with the cracks of the potential difference measurement position placed therebetween for the potential difference measurement position arranged identically to Process S2 (Process S4).例文帳に追加

その後、工程Ｓ２と同一に配置された電圧印加位置に電圧を印加して試験体に電流を流し、工程Ｓ２と同一に配置された電位差測定位置に対して、その電位差測定位置のき裂を挟んだ複数の組み合わせについての電位の差を測定して電位差実測データを求める（工程Ｓ４）。 - 特許庁

This measuring method has a process for diluting a measured gas in a prescribed dilution condition, a process for detecting the odor of a diluted gas prepared by diluting the measured gas, using the odor sensors, and a process for calculating the odor intensity of the measured gas, based on an output values of the odor sensors and the dilution condition.例文帳に追加

本匂い測定方法は、被測定気体を所定の希釈条件で希釈する工程と、被測定気体を希釈した希釈気体の匂いを匂いセンサーを用いて検知する工程と、匂いセンサーの出力値と希釈条件とに基づいて、被測定気体の匂い強度を算出する工程とを有する。 - 特許庁

In a printer having a flash ROM, when writing data designated from a main control unit 10 to the flash ROM, a memory access process unit 102 obtains a process time from a time measuring unit 104 for each write command to the flash ROM, and compares the process time with a timeout time predefined in a memory characteristic managing unit 106.例文帳に追加

フラッシュＲＯＭを備えるプリンタにおいて、メモリアクセス処理部１０２は、主制御部１００から指定されたデータをフラッシュＲＯＭに書き込む際、フラッシュＲＯＭに対する書き込みコマンドごとに処理時間を時間計測部１０４から取得して、メモリ特性管理部１０６に予め定めたタイムアウト時間と比較する。 - 特許庁

The method includes: an arrangement process for arranging a reference member at a position having a specific relation with the mounting part; a measurement process for measuring respective coordinate values of the reference member; and a calculation process for calculating the rotational error distribution by the moving part based on a difference between respective measurement coordinate values by at least two measurement probes.例文帳に追加

載置部上と所定の関係を持った位置に基準部材を配置する配置工程と、測定プローブの少なくとも２つが、基準部材の座標値をそれぞれ測定する測定工程と、各々の測定座標値の差分に基づいて移動部による回転誤差分布を算出する算出工程と、を備える。 - 特許庁