「measuring process」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for measuring the thickness of the epitaxial layer in a manufacturing process of the epitaxial wafer includes formation of the epitaxial layer on the surface of a semiconductor wafer by subjecting the semiconductor wafer to an epitaxial growth process.例文帳に追加

半導体ウェーハをエピタキシャル成長工程に付すことにより、該半導体ウェーハの表面にエピタキシャル層を形成することを含むエピタキシャルウェーハの製造工程におけるエピタキシャル層の膜厚測定方法。 - 特許庁

The ordnance system includes an initiator joined to the addressable bus for responding to the controlling process, and a remote measuring sensor structured to join the addressable bus for interacting with the remote measurement process.例文帳に追加

オードナンス・システムは、アドレス可能なバスに結合され且つ制御プロセスに応答するイニシエータと、アドレス可能なバスに結合され且つ遠隔計測プロセスと相互作用するよう構成された遠隔計測センサとを含む。 - 特許庁

In the measuring process, using a glow discharge light emission analysis method, concentration distribution of a component element in the depth direction from the surface of the sample S is measured.例文帳に追加

測定工程では、グロー放電発光分析法を用いて、試料Ｓの表面からの深さ方向における成分元素の濃度分布を測定する。 - 特許庁

This work picking device has a sampling means 41 sampling and measuring a weight of the work W several times in a lifting process of the picked work W.例文帳に追加

このワークピッキング装置は、ピッキングしたワークＷの持ち上げ過程でワークＷの重量を複数回サンプリング測定するサンプリング手段４１を備える。 - 特許庁

To attain high inspection yield in and after the assembly process, by measuring the DC parameter of each FET accurately, thereby eliminating a failure element.例文帳に追加

各ＦＥＴのＤＣパラメータを正確に測定して、ＤＣ検査において不良素子を排除し、組立工程以降で高いＲＦ検査歩留まりを実現する。 - 特許庁

To provide a VOC measuring system capable of achieving compactness by effectively using one thermostatic chamber of a process gas chromatograph having two thermostatic chambers.例文帳に追加

２つの恒温槽を有するプロセスガスクロマトグラフの一つの恒温槽を有効活用することにより小型化を実現したＶＯＣ測定システムを提供する。 - 特許庁

To accurately determine a quantity of rice to be cooked by measuring twice the determination data for determining the quantity of the rice in a rice cooking process.例文帳に追加

炊飯量判定の基礎となる判定データを炊飯工程中に２回求めることにより、正確な炊飯量判定を行い得るようにする。 - 特許庁

In this case, if a temperature detection member 18 is moved, a positioning guide monitors to cause no positional shift to the detection member 18, thereby improving measuring precision with respect to a process.例文帳に追加

この場合、温度検知部材１８の可動は、ガイドにより位置変動がないので、プロセスに対して測定精度を向上させることが可能となる。 - 特許庁

To perform measurement in a real time by measuring emission at the same time as irradiation, and to prevent any waste from being generated in the process of measurement.例文帳に追加

照射と同時に発光が計測できるようにしてリアルタイムで計測が可能であり、かつ廃棄物が計測の過程で発生しないようにする。 - 特許庁

To provide a shot blasting device providing improved work efficiency by shortening a time for measuring a process state of a steel friction joint surface.例文帳に追加

鋼材の摩擦接合面の処理状態を測定する時間を短縮して、作業性を向上させることができるショットブラスト処理装置を提供する。 - 特許庁

When the measuring process is completed, the oil pressure of the suck-back side oil chamber is held, and the forward/backward movement of the screw 12 is prevented.例文帳に追加

計量工程が完了されるのに伴って、サックバック側の油室の油圧が保持され、スクリュー１２が前方及び後方に移動するのが防止される。 - 特許庁

This method is applicable for measuring a surface temperature of a substrate surface not irradiated directly with the light, when the substrate is arranged in midair in the oxidation process system.例文帳に追加

前記酸化プロセス系内では基板を中空に配置させると、光が直接当たらない基板表面の表面温度測定に適用できる。 - 特許庁

To provide a TEM cell-process measuring jig for a LSI tester, capable of easily performing the work of the radiation noise evaluation and immunity evaluation of an LSI.例文帳に追加

ＬＳＩの放射ノイズ評価及びイミュニティ評価の作業を容易に行うことができるＬＳＩテスター用ＴＥＭセル法測定治具を提供する。 - 特許庁

The process (C) is carried out by measuring display characteristics of pixels in a first region R1 and display characteristics of pixels in a second region R2.例文帳に追加

工程（Ｃ）は、第１の領域Ｒ１内の画素の表示特性と、第２の領域Ｒ２内の画素の表示特性とを測定することによって行われる。 - 特許庁

By this, a process of adhesive application to hardening is made unnecessary, and the number of assembling processes of the air flow rate measuring device 1 can be significantly reduced.例文帳に追加

これにより、接着剤塗布〜硬化工程を不要として、空気流量測定装置１の組付け工数を大幅に低減することができる。 - 特許庁

To provide a molding apparatus capable of increasing durability by suppressing abrasion of a check ring and also capable of stably conducting measuring process with high degree of accuracy.例文帳に追加

チェックリングの磨耗を抑止することで耐久性を向上し、計量工程を高精度で安定的に行うことができる射出成形機を提供する。 - 特許庁

To provide a circuit for measuring lots of semiconductor elements which enables the abundant measurings of each variation parameter in order to establish a high precision model used for a submicron process.例文帳に追加

サブミクロンプロセスに用いる高精度モデルを確立するための、各ばらつきパラメータの多量測定が可能となる多量測定回路を提供する。 - 特許庁

To provide a sample-measuring apparatus having high accuracy, at low cost, which is simple, compact and suitable for transportation and readily performs the concentration computing process after carrying out measurements.例文帳に追加

簡素かつ小型で運搬に適するとともに、計測後の濃度算出処理も簡易な精度のよい試料測定装置を安価に提供すること。 - 特許庁

To accurately and quickly measure the luminance distribution of an LCD panel, miniaturize and simplify a brightness distribution measuring apparatus, to efficiently operate an inspecting process.例文帳に追加

ＬＣＤパネルの輝度分布を、正確にかつ高速に測定し、輝度分布測定装置も併せて小型、簡素化にし、検査工程を効率的に運用する。 - 特許庁

To provide a probe for measuring quickly and accurately the oxidation degree of slag existing on the surface of a molten metal in a steel melting process.例文帳に追加

本発明は、溶鋼工程における溶融金属の表面に存在するスラグの酸化度を迅速且つ精度良く測定するためのプローブを提供する。 - 特許庁

To provide an operating method of a sensor capable of accurately measuring distance information by compensating a loss of photoelectron generated in the process of demodulation of optical signal.例文帳に追加

光信号の復調過程で発生する光電子の損失を補償して距離情報を正確に測定するセンサーの動作方法を提供する。 - 特許庁

To compensate deterioration of load impedance measurement accuracy caused by measurement errors in a load impedance measuring circuit and waveform distortions, or the like, of high frequency in actual process.例文帳に追加

負荷インピーダンス測定回路の測定誤差や実プロセス中の高周波の波形ひずみ等に起因する負荷インピーダンス測定精度の低下を補償すること。 - 特許庁

When a matching AR film is formed, a process consisting of a surface reflectance measuring step S11, a tarnish layer characteristics estimating step S12, and a film forming step S13 is performed.例文帳に追加

マッチングＡＲ膜を成膜するときに、表面反射率測定ステップＳ１１、ヤケ層特性推定ステップＳ１２、成膜ステップＳ１３の工程を行う。 - 特許庁

That is, the supply of the hydrofluoric acid L2 is stopped intermittently during the etching processing, the film thickness measuring process is performed and the end point of etching is detected.例文帳に追加

すなわち、エッチング処理の間、断続的にフッ酸Ｌ２の供給を停止して膜厚測定工程を行いエッチングの終点を検出する。 - 特許庁

The measuring process successively measures the suspending distances D_1 and D_2 of the extension part 24 on the sides of a plaster layer 22 and a support 21.例文帳に追加

この測定手順は、延出部２４が垂れ下がる距離Ｄ_１、Ｄ_２を、膏体層２２側及び支持体２１側の各々について順次測定する手順である。 - 特許庁

Preferably, the computer further executes a process for computing and measuring a particle size distribution and a collision force distribution when the liquid is jetted from the nozzle, and displaying a result thereof.例文帳に追加

好ましくは、ノズルから液体が噴射されるときの衝突力分布と粒度分布を演算して測定し、その結果を表示させる処理を更に行う。 - 特許庁

In the circulating process, while the endotoxin (ET) concentration in the water storing tank 2 is monitored by a measuring device 20, the circulating amount of the EDI treated water is controlled.例文帳に追加

循環工程では、貯水タンク２内のエンドトキシン（ＥＴ）濃度を測定装置２０でモニターしながらＥＤＩ処理水の循環量を調節する。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING END POINT OF PROCESS AND POLISHING APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE AND MEDIUM RECORDING SIGNAL PROCESSING PROGRAM例文帳に追加

工程終了点測定装置及び測定方法及び研磨装置及び半導体デバイス製造方法及び信号処理プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

To appropriately control heat quantity applied to a recording material with a toner image transferred thereto in a fixing process by accurately measuring surface temperature of the recording material.例文帳に追加

トナー像が転写された記録材の表面温度を正確に計測し、定着過程でその記録材へ加えられる熱量を適切に制御する。 - 特許庁

To provide a focusing characteristics measuring method performing focus measurement conveniently using an overlay measurement device used commonly in a semiconductor production process.例文帳に追加

半導体製造工程で広く用いられている重ね合わせ測定装置を用いて、簡便にフォーカス計測を行う結像特性計測方法を提示する。 - 特許庁

To solve a problem in a case of enhancing precision when reducing motion of a cuvette, in particular, during a measuring process, in particular, side-way or lateral motion.例文帳に追加

特に測定プロセス中におけるキュベットの運動、特に側方又は左右の運動を減少させる際の精度を向上させる場合の問題を解決する。 - 特許庁

This measuring method of a physiological function of a group of body cell contains a process of selecting a detectable active substance which can emit measurable electromagnetic beam.例文帳に追加

一群の体細胞の生理的機能を測定する方法は、測定可能な電磁線を発光し得る検出可能作用物質を選択する工程を含む。 - 特許庁

A measurement value by a weight measuring section 5 is outputted as a reference weight at the time when the dehydration speed of the dehydration process becomes nearly zero.例文帳に追加

除水処理の除水速度がほぼ０になった時点での体重計測部５による測定値を、基準体重として出力可能に構成する。 - 特許庁

To solve the problem in the conventional method using Harman process etc. and further to provide a compact and easily handleable thermoelectric characteristic measuring sensor.例文帳に追加

ハーマン法等を用いた従来の方法での問題点を解消し、さらに、コンパクトで取扱いが容易な熱電特性測定用センサを提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of measuring the positional deviation between read/write elements of a head with high accuracy in the servo writing process by a self servo writing method.例文帳に追加

セルフサーボライト方法によるサーボライト工程時に、ヘッドのリード／ライト素子間の位置ずれ量を高精度に測定できる方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method and device for inspecting a container to be executed by the hot end of a manufacturing process, and for measuring the inner diameter of the container port in detail.例文帳に追加

製造工程のホットエンドで実施できる容器の検査、より詳しくは容器口の内径を測定する方法および装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of measuring the diameter of a single crystal, by which the diameter of the single crystal can be measured with a good accuracy over whole growth process of the single crystal by using one camera, and the cost reduction can be realized.例文帳に追加

１つのカメラで単結晶成長の全行程にわたって精度よく直径測定を行うことができると共に低コスト化を図る。 - 特許庁

In an evaluation process, the aged deterioration of the measuring object is evaluated by comparing the relation between a deformation stress σ and the first ratio Ms/χ_H* with the measured value.例文帳に追加

評価工程で、変形応力σと第１の比Ｍｓ／χ_Ｈ^＊との関係と測定値とを比較して測定対象の経年劣化を評価する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional measuring system, capable of realizing high resolutions with a simple system structure and easily executing a computing process for detection data at a high speed.例文帳に追加

簡単な装置構成で高分解能を実現し、検出データの演算処理を簡単且つ高速に行うことができる３次元計測システムを提供する。 - 特許庁

(2) A process of measuring a cross leakage between the both electrodes by introducing the inactive gas into only either one of the gas introduction spaces of the both electrodes.例文帳に追加

２）前記両電極のいずれか一方のみのガス導入空間に不活性ガスを導入して、両電極間のクロスリークを測定する工程。 - 特許庁

The workpiece holding table 2 has a magnet chuck 7 for holding the workpiece W, made of a magnetic body by magnetic force, and a measuring element 13 of the in-process gauge 6 is made of a magnetic body.例文帳に追加

ワーク保持台2は、磁力により磁性体製ワークWを保持するマグネットチャック7を有しており、インプロセスゲージ6の測定子13が磁性体製とされている。 - 特許庁

Alternatively, the process can be managed by using an MIS capacitor in place of the transistor and measuring the flat band voltage, midgap voltage or interface trap thereof.例文帳に追加

トランジスタの代わりに、ＭＩＳキャパシタを使用し、そのフラットバンド電圧、ミッドギャップ電圧又は界面トラップ量を測定して工程管理に当てる事も出来る。 - 特許庁

Since a process for forming ohmic electrodes can be omitted, the semiconductor epitaxial wafer 10 can be easily subjected to a withstand voltage measuring test.例文帳に追加

したがって、オーミック電極を形成する工程が省略されるので、半導体エピタキシャルウエハ１０を容易に耐圧測定試験に供することができる。 - 特許庁

Total nitrogen can also be measured, by further including a process for acid decomposition, in advance, by causing oxidation of the measuring object sample for producing nitrate ions.例文帳に追加

被測定サンプルを予め酸化分解に供して硝酸イオンを生じさせる工程を更に含むことにより全窒素を測定することもできる。 - 特許庁

The difference between the Fa and the Fb in an identical measuring point is calculated, and the vibration component (S) of the longer material 10 is calculated (Vibration-component calculation process).例文帳に追加

次に、同一計測地点におけるＦａ及びＦｂの差を積算し、長尺材１０の振動成分（Ｓ）を算出する（振動成分算出工程）。 - 特許庁