「nm c」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The method comprises the processes of implanting oxygen ion 22 in the state where a first oxide film 17 partially having the thickness of 200 nm to 1,000 nm is formed on the surface of the substrate 12 comprising a silicon single crystal, and forming an embedded oxide film 13 in the substrate 12 by annealing the substrate 12 at a temperature of ≥1,300°C.例文帳に追加

シリコン単結晶からなる基板１２の表面に部分的に厚さが２００ｎｍ〜１０００ｎｍの第１酸化膜１７を形成した状態で酸素イオン２２を注入する工程と、基板１２を１３００℃以上でアニール処理して基板１２の内部に埋込み酸化膜１３を形成する工程とを含む。 - 特許庁

The epoxy resin composition for sealing semiconductors comprises (A) an epoxy resin, (B) a phenolic resin-based curing agent, (C) an inorganic filler other than the component (E) below, (D) a curing accelerator and (E) silicon carbide, where the average particle size of silicon carbide (E) is at least 1 nm and at most 1,000 nm.例文帳に追加

（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）フェノール樹脂系硬化剤、（Ｃ）下記（Ｅ）成分を除く無機充填材、（Ｄ）硬化促進剤、（Ｅ）炭化ケイ素を含むエポキシ樹脂組成物であって、前記炭化ケイ素（Ｅ）の平均粒径が１ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 - 特許庁

The ink jet recording sheet comprises an ink absorption layer containing inorganic fine particles having a mean particle size of 5 to 100 nm, a cationic fixing agent, a binder and a polymer dispersing material having a glass transition temperature of -50 to 40°C on a support in such a manner that a mean particle size of the polymer dispersing material is 5 to less than 50 nm.例文帳に追加

支持体上に、平均粒径が５〜１００ｎｍの無機微粒子、カチオン性定着剤、バインダー及びガラス転移温度が−５０〜４０℃の重合体分散物を含有するインク吸収層を有し、かつ該重合体分散物の平均粒径が５ｎｍ以上５０ｎｍ未満であることを特徴とするインクジェット記録用紙。 - 特許庁

The liquid curable composition comprises (A) particles containing tin-containing indium oxide (ITO) having ≤20 nm primary particle diameter and ≤50 nm secondary particle diameter as a main component, (B) a compound having two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule, (C) a photopolymerization initiator and (D) a solvent.例文帳に追加

下記成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）： （Ａ）一次粒径が２０ｎｍ以下であり、かつ二次粒径が５０ｎｍ以下である錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）を主成分とする粒子 （Ｂ）分子内に２以上の重合性不飽和基を有する化合物 （Ｃ）光重合開始剤 （Ｄ）溶剤 を含有する液状硬化性組成物。 - 特許庁

The powder cosmetic includes (a) 10-30 mass% of the total of titanium oxide and/or zinc oxide having an average primary particle diameter of <100 nm, (b) 10-50 mass% of spherical elastic resin powder and (c) 0-5 mass% of metal oxide powder having an average primary particle diameter of ≥100 nm.例文帳に追加

（ａ）平均一次粒径が１００ｎｍ未満の酸化チタン及び／又は酸化亜鉛を合計で１０〜３０質量％、（ｂ）球状弾性樹脂粉体を１０〜５０質量％、並びに（ｃ）平均一次粒径が１００ｎｍ以上の金属酸化物粉体を０〜５質量％含有する粉末化粧料。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor substrate related to a first aspect includes: a chromium layer film formation process for film-forming a chromium layer having average layer thickness of not less than 7 nm and less than 45 nm on a base substrate; and a nitriding process for nitriding the chromium layer at not less than 1,000°C temperature for forming a chromium nitride film.例文帳に追加

本発明の第１側面に係る半導体基板の製造方法は、下地基板の上にクロム層を７ｎｍ以上４５ｎｍ未満の平均層厚で成膜するクロム層成膜工程と、前記クロム層を１０００℃以上の温度で窒化してクロム窒化物膜にする窒化工程とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The surface protection film is equipped with a substrate and a coating layer of 20 nm-500 nm thickness on the surface of the substrate; wherein the coating layer is formed of a composition comprising, a conductive polymer component (A) having a polythiophene structure and an electron accepting polyacid structure, a melamine resin (B), a polyester resin (C) and an organo-siloxane (D).例文帳に追加

本発明の表面保護フィルムは、基材と、基材の表面に、ポリチオフェン構造と電子受容性ポリ酸構造とを有する導電性ポリマー成分（Ａ）、メラミン樹脂（Ｂ）、ポリエステル樹脂（Ｃ）、およびオルガノシロキサン（Ｄ）を含む組成物を用いて形成した、厚みが２０ｎｍ〜５００ｎｍのコート層とを備える。 - 特許庁

A mixture of gallium oxide powder, zinc sulfide powder and activated carbon powder is heated at 1,300 to 1,600°C for 1 to 2 hr in an inert gas stream, thus a gallium sulfide submicrometer tube whose outer diameter is 200 to 900 nm, and the thickness of the tube wall is 60 to 300 nm can be produced.例文帳に追加

酸化ガリウム粉末と硫化亜鉛粉末と活性炭粉末との混合物を不活性ガス気流中で、１３００〜１６００℃で１〜２時間加熱することにより、外径が２００〜９００ｎｍであり、チューブ壁の厚さが６０〜３００ｎｍである硫化ガリウムサブマイクロメートルチューブを製造することができる。 - 特許庁

The glass ceramic of which the surface roughness Ra without grinding is <50 nm, the thermal expansion at 20-300°C is <1.2×10^-6/K and the transmittance is >85% at near-infrared region of 1050 nm and thickness of 4 mm contains β-quartz and/or keatite solid solution.例文帳に追加

研磨することなく表面粗度Ｒａが＜５０ｎｍ、２０〜３００℃の温度範囲で熱膨張が＜１．２×１０^-6／Ｋ、近赤外領域における透過率が１０５０ｎｍにおいて、厚みが４ｍｍで＞８５％である、ベータ石英および／またはキータイト固溶体を含み、次の組成（質量％）を含を有する。 - 特許庁

This transparent conductive material is formed by laminating an intermediate refractive index layer (B) having a layer thickness in optical film thickness of 100-175 nm and a conductive layer (C) having a layer thickness in optical film thickness of 10-60 nm in order from a substrate side directly or through one or more layers on one surface or booth surfaces of a substrate (A).例文帳に追加

透明導電材料は、基材（Ａ）の片面もしくは両面に、直接もしくは一層以上の層を介して基材側から順に、層厚が光学膜厚で１００〜１７５ｎｍの中間屈折率層（Ｂ）、層厚が光学膜厚で１０〜６０ｎｍの導電層（Ｃ）が積層されたものである。 - 特許庁

A silicon carbide single crystal thin film is subjected to the epitaxial growth on a (000-1) surface of a silicon carbide single crystal substrate with the surface roughness of ≤1.0 nm at the growing temperature of ≤1,500°C by the thermochemical vapor deposition method.例文帳に追加

表面粗さが１．０ｎｍ以下である炭化珪素単結晶基板の（０００−１）面上に、熱化学蒸着法により、１５００℃以下の成長温度で炭化珪素単結晶薄膜をエピタキシャル成長させる。 - 特許庁

A main constituent of the back surface layer 13 is water-insoluble polymer with glass transition temperature (Tg) of ≥90°C, and the average reflectivity of the back surface layer 13 is ≤3.5% at wavelength in a range from 380-780 nm.例文帳に追加

裏面層１３は、ガラス転移点温度（Ｔｇ）が９０℃以上の非水溶性ポリマーを主たる構成成分とし、波長が３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの光に対する平均反射率が３．５％以下である。 - 特許庁

This invention relates to the oil-in-water type liquid composition having an average emulsified drop diameter of 200 nm or less, wherein a polyoxyalkylene sterol ether with an HLB of 14 to 20 (a), a higher alcohol (b), an oil solution (c) and water (d) are compounded.例文帳に追加

（ａ）ＨＬＢ１４〜２０のポリオキシアルキレンステロールエーテル、（ｂ）高級アルコール、（ｃ）油剤、（ｄ）水を配合し、その平均乳化滴径が２００ｎｍ以下である水中油型液状組成物に関するものである。 - 特許庁

Composite type metal nano-particles obtained by joining and coating the surroundings of nuclei consisting of metal particles having a mean particle diameter of about ≤100 nm with an organic matter consisting essentially of C, H and/or O are used as the main components for joining.例文帳に追加

平均粒径１００ｎｍ程度以下の金属粒子からなる核の周囲をＣ，Ｈ及び／またはＯを主成分とする有機物で結合・被覆した複合型金属ナノ粒子を接合の主剤とした。 - 特許庁

A fluorine-containing grease composition comprising a carbonate of a melting point of 250°C or higher and, desirably, inorganic particles having a primary particle diameter of 50 nm or smaller and a rolling apparatus prelubricated therewith are provided.例文帳に追加

融点が２５０℃以上であるカルボン酸塩、好ましくは一次粒子径が５０ｎｍ以下である無機粒子を更に含有するフッ素系グリース組成物、並びに前記フッ素系グリース組成物を封入してなる転動装置。 - 特許庁

This resin composition for an optical disk contains (A) a colored pigment, (B) an ethylenically unsaturated group-containing compound and (C) a photopolymerization initiator, and is characterized by the colored pigment A regulated so as to have ≤400 nm average particle diameter.例文帳に追加

有色顔料（Ａ）とエチレン性不飽和基含有化合物（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含有し、有色顔料（Ａ）の平均粒度が４００ｎｍ以下であることを特徴とする光ディスク用樹脂組成物。 - 特許庁

The phase difference film comprises the oriented film of the polymer film in which an absolute value (m^2/N) of the photoelastic coefficient measured with light of wavelength of 550 nm at 23°C is 50×10^-12 or less, and satisfies Re[450]<Re[550]<[650] and Rth[550]<Re[550].例文帳に追加

２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した光弾性係数の絶対値（ｍ^2／Ｎ）が、５０×１０^-12以下である高分子フィルムの延伸フィルムからなり、Ｒｅ［４５０］＜Ｒｅ［５５０］＜Ｒｅ［６５０］およびＲｔｈ［５５０］＜Ｒｅ［５５０］を満足する、位相差フィルム。 - 特許庁

The skin cleansing composition includes an anionic group-containing surfactant, a cationic group-containing polymer, and an anionic polymer fine particle having a particle diameter of 50 nm to 10 μm and a glass transition temperature of 0°C or higher.例文帳に追加

アニオン性基含有界面活性剤、カチオン性基含有ポリマー、及び粒子径が５０ｎｍ〜１０μｍであり、ガラス転移温度が０℃以上であるアニオン性ポリマー微粒子を含有する皮膚洗浄剤組成物。 - 特許庁

The photosensitive resin composition film contains (a) an alkali-soluble polyimide, (b) an unsaturated bond-containing polymerizable compound, (c) inorganic particles with an average particle size of 20 nm-1 μm, and (d) a photopolymerization initiator.例文帳に追加

（ａ）アルカリ可溶性ポリイミド、（ｂ）不飽和結合含有重合性化合物、（ｃ）平均粒子径が２０ｎｍ以上１μｍ以下である無機粒子および（ｄ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物フィルム。 - 特許庁

This adhesive composition contains (A) a compound having at least one ethyleneimine backbone and (B) a compound which generates an acid by the irradiation with light of 150-750 nm wave lengths or by heating at 80-200°C.例文帳に追加

（Ａ）分子中に１つ以上のエチレンイミン骨格を有する化合物、(Ｂ)１５０〜７５０ｎｍの光照射または８０〜２００℃の加熱によって酸を発生する化合物とを含有する接着剤組成物。 - 特許庁

To provide a binary or ternary alloy of Fe and/or Co and Pt which has ferromagnetism even if heat treatment is not performed, ≤450°C dislocation start temperature and ≤10 nm particle size, and also to provide a chemical manufacturing method therefor.例文帳に追加

熱処理無しでも強磁性を有し、転位開始温度が450℃以下である、粒子サイズが10ｎｍ以下のＦｅおよび／またはＣｏとＰｔの2元あるいは3元合金、およびその化学的な製造方法を提供する。 - 特許庁

The aqueous ink composition includes at least one water-insoluble colorant and a wax, wherein the wax is a paraffin wax with a melting point of 60 to 110°C and an average particle size of 30 to 250 nm.例文帳に追加

少なくとも1種の水不溶性の着色剤と、ワックスとを含み、前記ワックスが、融点が６０℃〜１１０℃であって平均粒子径が３０ｎｍ以上２５０以下ｎｍのパラフィンワックスである、水性インク組成物。 - 特許庁

In the semiconductor laser device wherein a semiconductor laser element 6 whose oscillation wavelength is in a range of 350-450 nm is installed in the sealed vessel 2, drive temperature of the semiconductor laser element 6 is maintained at a range of 50-80°C.例文帳に追加

密閉容器２内に、発振波長が３５０〜４５０ｎｍの範囲にある半導体レーザ素子６が設置されてなる半導体レーザ装置において、半導体レーザ素子６の駆動温度を５０〜８０℃の範囲に保つ。 - 特許庁

This method for preserving the aqueous emulsion type adhesive for the medical treatments, containing a resin emulsion having an average particle diameter of 80 to 150 nm as an adhesive resin and substantially not containing an antiseptic at a temperature of 1 to 12°C.例文帳に追加

粘着剤樹脂として、平均粒子径８０〜１５０ｎｍである樹脂エマルジョンを含んでなり、実質的に防腐剤を含有しない医療用水性エマルジョン型粘着剤を１〜２０℃の温度下で保存する方法。 - 特許庁

The cured resin layer contains fine particles A with an average primary particle size of 0.5 to 5 μm, and ultrafine particles C consisting of metal oxide and/or metal fluoride with an average primary particle size of 100 nm or less.例文帳に追加

この硬化樹脂層は、平均一次粒子径が０．５〜５μｍの微粒子Ａと、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物及び／または金属フッ化物からなる超微粒子Ｃとを含む。 - 特許庁

A raw material containing sodium terephthalate as a main component is heat-decomposed at 500-1,000°C and washed with water and subjected to drying treatment to produce the ultrafine carbon fiber having 10-200 nm wavelength.例文帳に追加

テレフタル酸ナトリウムを主成分とする原料を５００〜１０００℃の温度で熱分解させ、それを水で洗浄した後、乾燥処理することにより、１０〜２００nmの極微細な炭素繊維を製造するものである。 - 特許庁

The optical sheet is obtained by laminating one or more organic coat layers (c) onto at least one surface of a sheet (A) comprising a transparent resin (a) and a glass fiber fabric (b), wherein surface unevenness of at least one surface is 150 nm or less.例文帳に追加

透明樹脂(ａ)及びガラス繊維布(ｂ)からなるシート（Ａ）上の少なくとも片面に、１層以上の有機コート層（ｃ）を積層し、少なくとも片面の表面凹凸が１５０ｎｍ以下である光学シート。 - 特許庁

The cellulose fiber composite includes cellulose fibers having 4-100 nm number-average fiber diameter and a matrix and has ≤2 haze and ≤25 YI value when the cellulose fiber composite is subjected to heat treatment for 4 hours at 190°C and the heat treatment is repeated four times.例文帳に追加

数平均繊維径が４〜１００ｎｍであるセルロース繊維とマトリックスとを含み、ヘーズ２以下、かつ１９０℃４時間の加熱処理を４回繰り返した後のＹＩ値が２５以下であるセルロース繊維複合体。 - 特許庁

The film-shaped product having at least the network structure of 1 nm to 1 μm diameter on the surface thereof is manufactured in the electrospray deposition process using a cellulose diacetate solution prepared by dissolving cellulose diacetate in a solvent having 57-150°C boiling point.例文帳に追加

エレクトロスプレーデポジション法で沸点が５７〜１５０℃の溶媒で溶解したセルロースジアセテートの溶液を用いて、少なくとも表面に直径が１ｎｍ〜１μｍの網目構造を有するフィルム状物を製造する方法。 - 特許庁

The iridium oxide powder having an average particle diameter of 40-100 nm and comprising a single phase is obtained by roasting ammonium hexachloroiridate (IV) or potassium hexachloroiridate (IV) at 600-1,050°C in an oxidizing atmosphere.例文帳に追加

ヘキサクロロイリジウム（IV）酸アンモニウム又はヘキサクロロイリジウム（IV）酸カリウムを、酸化雰囲気下において６００〜１０５０℃で焙焼することによって、平均粒径が４０〜１００ｎｍであり、単相からなる酸化イリジウム粉を得る。 - 特許庁

A dozens to hundreds nm-thick Si epitaxial layer 106 is formed by performing epitaxial growth for Si on an SiC epitaxial layer 104 at 1,050 to 1,250°C by using mixture gas of SiH_4, N_2 by CVD.例文帳に追加

ＣＶＤによりＳｉＨ_４，Ｎ_２の混合ガスを用いて１０５０〜１２５０℃で、ＳｉＣエピタキシャル層１０４の上に、Ｓｉをエピタキシャル成長させて、Ｓｉエピタキシャル層１０６を膜厚数十〜数百ｎｍ形成する。 - 特許庁

Carbon nanotubes consisting mainly of the three-layer carbon nanotubes are manufactured by bringing a carbon-containing compound into contact with a metal catalyst comprising metal particles whose average diameter is ≤10 nm at a temperature of 600-1,000°C.例文帳に追加

炭素含有化合物を、平均直径が１０ｎｍ以下の金属粒子からなる金属触媒と、温度６００〜１０００℃で接触させることにより、３層カーボンナノチューブを主成分とするカーボンナノチューブを製造する。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition contains (A) a positive photosensitive resin, (B) a photo-acid generating agent and (C) a benzopyran ring condensed compound having photosensitizing capacity to visible light of ≥500 nm wavelength.例文帳に追加

（Ａ）ポジ型感光性樹脂、（Ｂ）光酸発生剤及び（Ｃ）波長５００ｎｍ以上の可視光に対して光増感能を有するベンゾピラン環縮合化合物を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The light curable composition contains at least (A) a urethane acrylate, (B) an epoxy acrylate, and (C) a photopolymerization initiator that absorbs light with a wavelength between 380 and 1,500 nm so as to generate radicals.例文帳に追加

少なくとも（Ａ）ウレタンアクリレート、（Ｂ）エポキシアクリレート、（Ｃ）波長３８０〜１５００ｎｍの光を吸収することによりラジカルを発生する光重合開始剤、とを含有することを特徴とする光硬化型組成物である。 - 特許庁

The curable composition for nanoimprint contains (A) a polymerizable monomer, (B) a photoinitiator, and (C) an ultraviolet light absorber having a molar absorption coefficient of 50,000 or more at a wavelength of 365 nm in ethyl acetate.例文帳に追加

（Ａ）重合性単量体、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）酢酸エチル中の波長３６５ｎｍにおけるモル吸光係数が５００００以上である紫外線吸収剤を含むナノインプリント用硬化性組成物。 - 特許庁

This cationic electrodeposition-coating composition contains (a) an amine-modified epoxy resin; (b) a block isocyanate-curing agent; and (c) an aqueous dispersion type catalyst having 50 to 200 nm mean particle diameter and containing the solid-curing catalyst and a nonionic surfactant.例文帳に追加

アミン変性エポキシ樹脂（ａ）；ブロックイソシアネート硬化剤（ｂ）；および、固体硬化触媒およびノニオン界面活性剤を含む、平均粒径５０〜２００ｎｍの水分散型硬化触媒（ｃ）；を含む、カチオン電着塗料組成物。 - 特許庁

This ceramic material is characterized by having less than 50×10^-7/°C thermal expansion coefficient, 0.2 or below absolute value of specific refractive index difference with silica glass and 0.3 dB/cm or above optical attenuation rate at 1,550 nm wave length.例文帳に追加

熱膨張係数が５０×１０^-7／℃より小さく、波長１５５０ｎｍにおいて、シリカガラスとの比屈折率差の絶対値が０．２以下、光減衰率が０．３ｄＢ／ｃｍ以上であることを特徴とするセラミック材料。 - 特許庁

This resin composition is a resin having a glass transition temperature (Tg) of not lower than 250°C and containing a layered silicate, and has light transmittance of 70% or more for the light of 420 nm at 100 μm thickness.例文帳に追加

ガラス転移温度（Ｔｇ）が２５０℃以上の樹脂が層状珪酸塩を含有してなる、厚さ１００μｍでの４２０ｎｍの光線透過率が７０％以上であることを特徴とする樹脂組成物。 - 特許庁

The water-based floor polisher performing excellently in practical application essentially comprises a combination of a polyalkoxylated aliphatic alcohol, an emulsion-polymerized resin emulsion having an MFT (Minimum Film-Forming Temperature) of ≥50°C but ≤85°C, and a polyolefin-based emulsion having a carboxy group having an average particle diameter of 20-500 nm.例文帳に追加

ポリアルコキシ化脂肪族アルコール、ＭＦＴ（最低造膜温度）が５０℃以上８５℃以下の乳化重合系樹脂エマルション及び平均粒子径が２０〜５００ｎｍのカルボキシ基を有するポリオレフィン系エマルションを必須成分として組み合わせ使用することにより、実用上優れた性能を有する水性フロアーポリッシュを得ることができる。 - 特許庁

The adhesive composition for connection in the circuit includes (a) radically polymerizable compounds, (b) a hardener generating radicals by irradiation of light having wave lengths 150 to 750 nm, or heating at 80 to 200°C or by both light irradiation and heating and (c) a compound having N atom and a carbon - carbon double bond in the molecule.例文帳に追加

(ａ)ラジカル重合性化合物、（ｂ）１５０〜７５０ｎｍの光照射、または８０〜２００℃の加熱、または前記光照射と前記加熱を併用することでラジカルを発生する硬化剤、(ｃ)分子内に窒素原子と炭素—炭素二重結合を含有する化合物からなる回路接続用接着剤組成物。 - 特許庁

This film is the laminating polyester film used for the process paper of the high density DVD light transmission protection layer, and average roughness of a center plane (SRa(A)) of one film plane (A plane) is 20 nm or less, and average roughness of a center plane (SRa(C)) of the other film plane (C plane) is larger than SRa(A).例文帳に追加

高密度ＤＶＤ光透過保護層の工程紙として使用されるポリエステルフィルムであって、一方のフィルム面（Ａ面）の中心面平均粗さ（ＳＲａ（Ａ））が２０ｎｍ以下であり、もう一方のフィルム面（Ｃ面）の中心面平均粗さ（ＳＲａ（Ｃ））がＳＲａ（Ａ）よりも大きいことを特徴とする積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁

This adhesive composition consists of (a) a thermoplastic resin, (b) a radically polymerizable compound having ≥1 (meth)acryloyl group in its molecule, (c) a curing agent generating radicals by 150-750 nm light irradiation, heating at 80-200°C or simultaneously using the heating and light irradiation and (d) a specific silane compound.例文帳に追加

(ａ)熱可塑性樹脂、（ｂ）分子内に１つ以上の（メタ）アクリロイル基を有するラジカル重合性化合物、（ｃ）１５０〜７５０ｎｍの光照射、または、８０〜２００℃の加熱または光照射と加熱を併用することでラジカルを発生する硬化剤、(ｄ) 特定のシラン化合物からなる接着剤組成物。 - 特許庁

This material has, on its support,(C) a photopolymerized layer containing (A) a compound whose maximum absorption is within 650-1,300 nm, (B) an aryl radical generating agent, and a polymerized compound; and an oxygen blocking layer whose oxygen permeability A is 0.2≤A≤20 (ml/m2 day) at 25°C under 1 atmospheric pressure.例文帳に追加

支持体上に、（Ａ）６５０〜１３００ｎｍに吸収極大を有する化合物と、（Ｂ）アリールラジカル発生剤と、（Ｃ）重合性化合物とを含有する光重合性層、及び、２５℃、１気圧下における酸素透過性Ａが０．２≦Ａ≦２０（ｍｌ／ｍ２・ｄａｙ）である酸素遮断層、を有することを特徴とする。 - 特許庁

The biaxially oriented polyester film has a sea-island structure which consists of at least polyethylene terephthalate (resin A) and polyetherimide (resin B), wherein an average dispersion diameter of the island portion is 30-500 nm, and the thermal expansion coefficient (50-150°C) of at least one of the longitudinal direction or width direction of a film is 0-25 ppm/°C.例文帳に追加

二軸配向ポリエステルフィルムは、少なくともポリエチレンテレフタレート（樹脂Ａ）とポリエーテルイミド（樹脂Ｂ）からなる海島構造を有し、島部分の平均分散径が３０〜５００ｎｍであり、フィルムの長手方向または幅方向の少なくとも一方向の熱膨張係数（５０〜１５０℃）が０〜２５ｐｐｍ／℃のフィルムである。 - 特許庁

The photocuring type composition comprises at least (A) a radically polymerizable compound having (meth)acryloyl group, (B) a photopolymerization initiator generating radical by absorbing light having 380-1,500 nm wavelength and (C) a thermal polymerization initiator having 50 to 120°C half-life temperature after 10 hr.例文帳に追加

少なくとも（Ａ）（メタ）アクリロイル基を有するラジカル重合可能な化合物、（Ｂ）波長３８０〜１５００ｎｍの光を吸収することによりラジカルを発生する光重合開始剤、（Ｃ）１０時間半減期温度５０℃〜１２０℃である熱重合開始剤、とを含有することを特徴とする光硬化型組成物である。 - 特許庁