「nm c」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

A method for producing the polymer composite comprises drying absorbed water contained in the alumina particles having the major axis of 10-500 nm, so as to attain a loss on heating to 150°C from room temperature of not more than 2 wt%, and then mixing the dried alumina particles with the organic polymer, so as to form them into the composite.例文帳に追加

長径10〜500nmのアルミナ粒子に含まれる吸着水を、室温から150℃までの加熱減量として２wt％以下になるまで乾燥した後、有機ポリマーに混合してコンポジット化する。 - 特許庁

A low temperature growth buffer layer 20 comprises a first buffer layer 21 formed by depositing silicon nitride for 100 sec at 500°C, and a GaN layer 22 having film thickness of 25 nm grown epitaxially at the same temperature.例文帳に追加

低温成長バッファ層２０は、窒化シリコンを５００℃で１００秒間積層した第１バッファ層２１と、同温で結晶成長させた膜厚２５ｎｍのＧａＮ層２２との２層から成る。 - 特許庁

The titanium oxide structure is obtained by a method including a step of applying heat treatment to an aggregation of titanium oxide having an average particle diameter of 1-100 nm in an ambient atmosphere at a temperature not higher than 950°C.例文帳に追加

該酸化チタン構造体は、例えば、平均粒子径が１〜１００ｎｍの酸化チタンの集合体を、還元雰囲気下、９５０℃以下で熱処理する工程を備える方法により得られる。 - 特許庁

The titanium oxide structure can be produced by a method including a step of bringing a 3-20 mol/L aqueous alkali solution into contact with titanium oxide having an average particle size of ≤50 nm at a temperature above 160°C.例文帳に追加

該酸化チタン構造体は、３〜２０ｍｏｌ／Ｌのアルカリ水溶液と、平均粒子径が５０ｎｍ以下の酸化チタンとを、１６０℃より高い温度で接触させる工程を備える方法により製造できる。 - 特許庁

The hybrid glassy material has a softening temperature of 50 to 350°C and meltability, and in which the reduction ratio of light transmittance due to the absorption by a silanol group with the light transmittance in 1,100 nm as the reference is ≤10%.例文帳に追加

軟化温度が５０℃〜３５０℃、溶融性を有し、１１００ｎｍでの光透過率を基準としたシラノール基の吸収による光透過の低下率が１０％以下である特徴を有す。 - 特許庁

the multilayer semiconductor sample 31 is irradiated with UV-rays 30a having a wavelength in a range of 200-350 nm for one hour in the atmosphere at the room temperature and then heat-treated at 700°C for 30 min thus activating the p-type impurities.例文帳に追加

この半導体積層試料31に対して、大気中、室温にて波長200nm〜350nmの紫外線30ａを１時間照射し、その後700℃で30分加熱処理することによりｐ型不純物を活性化させる。 - 特許庁

The number average particle diameter of the carbon black is preferably 30 nm or less, and the volatile part when the carbon black is heated at 950°C for 7 hours is preferably 1 mass% or more relative to the carbon black.例文帳に追加

カーボンブラックの数平均粒径は、３０ｎｍ以下であることが好ましく、カーボンブラックを９５０℃で７時間加熱したときの揮発分は、カーボンブラックに対して、１質量％以上であることが好ましい。 - 特許庁

The alkaline-soluble resin is featured that Tg is 200°C or more, dissolution time to 5 wt.% sodium hydroxide solution is within 10 min and light transmittance at 350 nm is 5% or more.例文帳に追加

Ｔｇが２００℃以上、５重量％水酸化ナトリウム水溶液に対する溶解時間が１０分以内、３５０ｎｍの光線透過率が５％以上であることを特徴とするアルカリ可溶性樹脂。 - 特許庁

The solid polymer electrolyte film organized by fine particles (A) of calcium phosphate with an average particle size of 500 nm or below, electrolyte salt (B) and the polymer compound (C) with polyether at its side chain is provided.例文帳に追加

平均粒径５００ｎｍ以下のリン酸カルシウム微粒子（Ａ）、電解質塩（Ｂ）、側鎖にポリエーテルを有する高分子化合物（Ｃ）からなることを特徴とする高分子固体電解質フィルムを提供する。 - 特許庁

Further, it is also possible to make the TiC powder and/or the TiCN powder finer because a powder, such as acetylene black, as fine as several tens nm can be used as the C as a starting material.例文帳に追加

また、原料のＣとしてアセチレンブラックのように数十ｎｍという微細な粉末を用いることができるため、ＴｉＣ粉末及び／又はＴｉＣＮ粉末も微細なものとすることができる。 - 特許庁

An α (hexagonal) silicon carbide mnocrystal wafer is characterised in that the off-angle from the (0001)c plane at a homoepitaxial growth surface having a surface roughness of 2 nm or less is 0.4 degrees or smaller.例文帳に追加

表面が表面粗さ２ｎｍ以下のホモエピタキシャル成長面で（０００１）ｃ面からのオフ角が０．４度以下であることを特徴とするα型（六方晶）炭化ケイ素単結晶ウェハ。 - 特許庁

The substrate layer has a glass transition temperature of 100-160°C, a heat conductivity of ≥0.10 W/(m×K), a light transmittance of ≤30% at the wavelength of 355 nm, and a Young's modulus of 5-20 GPa.例文帳に追加

なおかつ基材層は、ガラス転移温度が１００〜１６０℃、熱伝導率が０．１０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上、波長３５５ｎｍでの光線透過率が３０％以下であり、ヤング率が５〜２０ＧＰａである。 - 特許庁

The spherical activated carbon for direct hemoperfusion has 0.1 to 1 mm diameter, ≤0.14 H/C and 0.25 to 0.55 mL/g volume of a fine pore having 5 to 1,000 nm pore diameter.例文帳に追加

血液の直接灌流用球状活性炭は、直径が０．１〜１ｍｍであり、Ｈ／Ｃが０．１４以下であり、そして細孔直径５〜１０００ｎｍの細孔容積が０．２５〜０．５５ｍＬ／ｇである。 - 特許庁

The concentration of the nitric acid in the etching solution in terms of the mass ratio is to be in the range of 11.3-12.78 mass%, the liquid temperature is to be in the range of 37.5-42.5°C, and the etching rate is to be in the range of 200-400 nm/ min.例文帳に追加

エッチング液の硝酸の濃度は質量比で１１．３〜１２．７８質量％の範囲とし、液温は３７．５〜４２．５℃の範囲とし、エッチングレートは２００〜４００ｎｍ／分の範囲とする。 - 特許庁

The sintering process is carried out preferably within a temperature range of 700 to 1,600°C and under a pressure of 100 kg/cm, and the size of the MgO grains is preferably <100 nm.例文帳に追加

温度７００〜１６００℃の範囲で圧力１００ｋｇ／ｃｍ以上で焼結工程を行うのが好適であり、また、ＭｇＯ粒子の粒子径が１００ｎｍ未満であるのが好適である。 - 特許庁

In the thermosensitive recording element having an undercoat layer and a thermosensitive recording layer sequentially laminated on a support, the undercoat layer contains a latex with a particle diameter of more than 150 nm and a glass transition temperature of 0°C or lower.例文帳に追加

支持体上に、下塗層、感熱記録層を順次積層して成る感熱記録体において、該下塗層に粒径が１５０ｎｍより大きく、ガラス転移温度が０℃以下であるラテックスを含有する。 - 特許庁

The method for sterilizing or inactivating a spore bacterium includes heating ozone nanobubble water having fine foams containing ozone with foam particle diameters of 50-500 nm to ≥35°C and bringing the ozone nanobubble water into contact with the spore bacterium.例文帳に追加

気泡の粒径が５０〜５００ｎｍであるオゾンを含有する微小気泡を含んでなるオゾンナノバブル水を３５℃以上に昇温し、芽胞細菌に接触させることで行うことを特徴とする。 - 特許庁

As for the color filters 107, red filters R and cyan filters C are used and both of the filters show ≥70% average transmittance for light in the wavelength range from 450 to 660 nm.例文帳に追加

カラーフィルタ１０７は、赤フィルタＲとシアンフィルタＣが用いられ、いずれも、４５０ｎｍから６６０ｎｍの波長範囲の光に対して７０％以上の平均透過率を示す特性である。 - 特許庁

The porous coating material 24 is formed by curing a liquid composition containing carbon particles of an average particle diameter 200-400 nm and thermosetting resin (typically resole resin) in a temperature region of not higher than 300°C.例文帳に追加

多孔質被覆体２４は、平均粒子径２００〜４００ｎｍのカーボン粒子と熱硬化性樹脂（典型的にはレゾール系樹脂）とを含む液状組成物を３００℃以下の温度域で硬化させてなる。 - 特許庁

The porous membrane comprises a polyamide-imide resin layer having ≥70°C glass transition temperature and ≥0.5 dL/g logarithmic viscosity, ≥0.5 absorbance at 700 nm of the whole and 5-100 μm membrane thickness.例文帳に追加

ガラス転移温度が７０℃以上、対数粘度が０．５ｄｌ／ｇ以上のポリアミドイミド樹脂層を含み、かつ全体の７００ｎｍでの吸光度が０．５以上、膜厚が５〜１００μｍの多孔質膜に関する。 - 特許庁

Nitrogen N2 of the sealed gas shifts energy from argon to a C^3Π_U level of a nitrogen molecule by the Penning effect to emit a near ultraviolet ray (300-400 nm) of a second positive band of the nitrogen molecule.例文帳に追加

封入ガスの窒素Ｎ_２がペニング様効果により、アルゴンから窒素分子のＣ^3Π_uの準位へのエネルギーを移行させ、窒素分子の第２ポジティブバンドの300ｎｍ〜400ｎｍの近紫外線を放射させる。 - 特許庁

The composition contains: (A) a dye having absorption at 700 to 1,300 nm wavelength; (B) a radical polymerization initiator having an alkali-soluble group; and (C) a compound having an ethylenically unsaturated bond.例文帳に追加

（Ａ）波長７００〜１３００ｎｍに吸収を有する色素と、（Ｂ）アルカリ可溶性基を有するラジカル重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、を含有することを特徴とする。 - 特許庁

As the inactivating treatment, a simultaneous use of ultraviolet light irradiation treatment by using ultraviolet light at 254 nm by 4 J/m^2 for 30 min and heat treatment at 56°C for 30 min can be concretely exemplified.例文帳に追加

上記不活性化処理としては、２５４ｎｍの紫外光を用い４Ｊ／ｍ^２、３０分間の紫外線照射処理と、５６℃、３０分間の加熱処理との併用を具体的に例示することができる。 - 特許庁

This oxygen-based liquid bleaching composition comprises (A) hydrogen peroxide, (B) a surfactant and (C) an inorganic particle with an average particle diameter of 1-300 nm and having power of agglomerating hemoglobin.例文帳に追加

（Ａ）過酸化水素と、（B）界面活性剤と、（Ｃ）平均粒子径１〜３００ｎｍのヘモグロビン凝集作用を有する無機粒子を含有することを特徴とする液体酸素系漂白剤組成物。 - 特許庁

It is preferable that the particulate obtained by heat- treating at 100-800°C has the hollow structure, 1-100 nm particle size and ≤150 cc/g nitrogen-absorbed amount at liquid nitrogen temperature.例文帳に追加

前記１００℃〜８００℃で熱処理することにより得られる微粒子が中空構造を有し、その粒子径が１nm〜１００nmであり、液体窒素温度での窒素吸着量が150cc/g以下であると好ましい。 - 特許庁

The photosensitive composition for near-infrared laser exposure contains (A) an epoxy acrylate resin, (B) an infrared absorbing dye having its absorption maximum at a wavelength of 650-1,300 nm and (C) a halomethyl-group-containing compound.例文帳に追加

（Ａ）エポキシアクリレート系樹脂、（Ｂ）波長６５０〜１，３００ｎｍに吸収極大を有する赤外吸収色素、及び（Ｃ）ハロメチル基含有化合物を含有する近赤外レーザー露光用感光性組成物。 - 特許庁

It is preferable that a crystallizing temperature is 200°C or more, that the arithmetrical average height (Ra) of a film surface is 2.0 nm or less, and that the absolute value of the inner stress is 1×10^10 dyn/cm^2 or less.例文帳に追加

また、結晶化温度が２００℃以上、膜表面の算術平均高さ（Ｒａ）が２．０ｎｍ以下、内部応力の絶対値が１×１０^10ｄｙｎ／ｃｍ^2 以下であることが好ましい。 - 特許庁

This low heat conductive thermal insulation material 33 has a porous structure of fine inorganic particles having a mean particle size of 1-100 nm, and a thermal conductivity at 800°C of 0.02 to 0.1 W/(m K).例文帳に追加

この低熱伝導断熱材３３は、平均粒径１〜１００ｎｍの微小無機粒子の多孔構造であり、８００℃における熱伝導率が０．０２Ｗ／ｍ・Ｋ以上０．１Ｗ／ｍ・Ｋ以下である。 - 特許庁

A heat treatment (750°C) of a first time is performed in a nitrogen atmosphere, and the silicide films 31, 32 and 33 (film thickness is 30 nm) are formed in a self-aligning manner respectively in a gate region, a source region and a drain region.例文帳に追加

窒素雰囲気中で１回目の熱処理（７５０℃）を行い，ゲート領域，ソース領域，およびドレイン領域にそれぞれ自己整合的にシリサイド膜３１，３２，３３（膜厚３０ｎｍ）を形成する。 - 特許庁

The coating composition includes: (A) a silicon alkoxide, (B) alcohols, (C) water, (D) acids, and (E) fine particles having hydrophobic surface and a primary particle diameter of ≤100 nm; wherein (A) silicon alkoxide, (B) alcohols, (C) water, and (D) acids have been mixed and aged.例文帳に追加

コーティング組成物は、（Ａ）シリコンアルコキシド、（Ｂ）アルコール類、（Ｃ）水、（Ｄ）酸類、および、（Ｅ）表面が疎水性で平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の微粒子を含有しており、（Ａ）シリコンアルコキシド、（Ｂ）アルコール類、（Ｃ）水、および、（Ｄ）酸類は混合されて熟成が完了した状態である。 - 特許庁

In the rubber latex, the main component (designated as component A) has a particle size of ≥500 nm and a glass transition temperature of ≤-20°C and accounts for 70 to 95(%) of the total rubber latex, and the secondary component (designated as component B) has a glass transition temperature of ≥20°C.例文帳に追加

ゴム系ラテックスは、その主成分（成分Ａと呼ぶ）の粒子径が５００ナノメーター以上で且つそのガラス転移温度が−２０℃以下であり、そして、その副成分（成分Ｂと呼ぶ）のガラス転移温度が２０℃以上であり、また、全ゴムラテックス中に占める主成分の割合は７０〜９５（％）である。 - 特許庁

The film is made from a thermoplastic resin having a glass transition point of 150°C or higher, and has a thickness of at least 100 μm, a retardation of at most 20 nm, an enthalpy relaxation temperature of 140 to 200°C, and an enthalpy relaxation of 0.01-2.0 kJ/mol.例文帳に追加

ガラス転移点が１５０℃以上の熱可塑性樹脂Ａからなるフィルムであって、そのフィルム厚さが１００μｍ以上、レターデーションが２０ｎｍ以下であり、エンタルピー緩和温度が１４０〜２００℃、エンタルピー緩和量が０．０１〜２．０ｋＪ／ｍｏｌであることを特徴とする熱可塑性樹脂フィルムである。 - 特許庁

This plaque detection system is provided with the plaque disclosing agent containing (a) Monascus yellow, (b) nonionic surfactant and (c) glycerin, and a light emitting device 10 emitting a light having a wavelength within 250-500 nm to an object in the oral cavity stuck with the plaque disclosing agent.例文帳に追加

（a）紅麹黄色素、（b）非イオン界面活性剤、（c）グリセリンを含有する歯垢染色剤と、該歯垢染色剤を付着させた口腔内の対象物に２５０〜５００ｎｍの範囲内の波長を有する光を照射する発光装置１０を備えた歯垢検出システム。 - 特許庁

The curable composition contains the following components (A) to (C): (A) a particle having an average primary particle diameter of 10-100 nm and composed mainly of a phosphorus-containing tin oxide, (B) a compound having two or more polymerizable unsaturated groups in the molecule, and (C) a compound containing a fluorine atom in the molecule.例文帳に追加

下記成分（Ａ）〜（Ｃ）：（Ａ）平均一次粒子径が１０ｎｍ〜１００ｎｍである、リン含有酸化錫を主成分とする粒子（Ｂ）分子内に２以上の重合性不飽和基を有する化合物（Ｃ）分子内にフッ素原子を含有する化合物を含有する硬化性組成物。 - 特許庁

The manufacturing method of an ink jet recording support is to heat treat the transparent support under a temperature ranging from the glass transition point Tg (°C) of the support to Tg-40 (°C) for one min to 1,500 hr under the condition that the transparent support is wound about a winding core having the outer diameter ranging from 100 to 1,000 nm.例文帳に追加

透明支持体を外径１００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下の巻き芯に巻かれた状態で該支持体のガラス転移点Ｔｇ（℃）からＴｇ−４０（℃）の温度で１分〜１５００時間、熱処理することを特徴とするインクジェット記録用支持体の製造方法。 - 特許庁

The organic particulate A is soluble or swollen in a water-soluble organic solvent with an SP (solubility parameter) value of 18.414-30.690 (MPa)^1/2 and a boiling point of ≥120°C and is insoluble in water, and has a glass transition temperature (Tg) of ≥70°C and a mean particle diameter of ≤100 nm.例文帳に追加

有機微粒子Ａ：ＳＰ値が１８．４１４〜３０．６９０（ＭＰａ）^1/2で、且つ沸点が１２０℃以上の水溶性有機溶媒により溶解または膨潤する水に不溶の有機微粒子で、ガラス転移温度（Ｔｇ）が７０℃以上で、且つ平均粒子径が１００ｎｍ以下の有機微粒子。 - 特許庁

In this convergence electron diffraction method for acquiring a disc-shaped diffraction figure, by making electron beams converge and irradiate to a sample, all of six (a, b, c, α, β, γ) lattice constants of a crystal can be measured from the microregion smaller than 10 nm, from the distance between the intersection points of HOLZ line appearing in a transmission disc.例文帳に追加

試料に電子線を収束させて照射し、ディスク状の回折図形を得る収束電子回折法において、透過ディスク内に現れたHOLZラインの交点間の距離から、結晶の格子定数６つ（a、b、c、α、β、γ）全てを10nm以下の微小領域から測定することを可能にする。 - 特許庁

The ink for inkjet recording comprises a pigment, a polyester resin fine particle having a particle size of 30-300 nm and a water-soluble epoxy compound as essential ingredients, where the polyester resin has an elongation at break at 25°C of at least 10% and a glass transition temperature of lower than 40°C.例文帳に追加

顔料、および、粒子径３０〜３００ｎｍのポリエステル樹脂の微粒子、および水溶性エポキシ化合物を必須成分とするインクジェット記録用インクであって、ポリエステル樹脂の、２５℃での破断伸度が１０％以上であり、ガラス転位温度が４０℃未満であるインクジェット記録用インク。 - 特許庁

This resin composition comprises a solvent-soluble cycloolefin resin (A), an inorganic filler (B) having an average particle diameter of ≤800 nm and a solvent (C) in which the cycloolefin resin (A) is soluble, wherein the resin composition is obtained by dispersing the inorganic filler (B) beforehand in a solvent containing the solvent (C).例文帳に追加

溶媒可溶性環状オレフィン系樹脂（Ａ）、８００ｎｍ以下の平均粒径を有する無機フィラー（Ｂ）、及び該環状オレフィン系樹脂（Ａ）が可溶な溶媒（Ｃ）を含んでなる樹脂組成物において、予め無機フィラー（Ｂ）を溶媒（Ｃ）を含む溶媒中で分散させて樹脂組成物を得る。 - 特許庁

The thermoplastic resin composition is composed of at least (A) an acrylic resin and (B) an ultraviolet-absorbing resin having ≤10% light transmittance at 380 nm wavelength in 50 μm thickness, and has (a) ≥110°C glass transition temperature and (b) ≥80% light transmittance at 500 nm wavelength and ≤30% light transmittance at 380 nm wavelength in 50 μm thickness.例文帳に追加

少なくとも（Ａ）アクリル系樹脂と、（Ｂ）厚さ５０μｍに於ける波長３８０ｎｍの光線透過率が１０％以下の紫外線吸収性樹脂とから構成される組成物であって、該組成物が（ａ）ガラス転移温度が１１０℃以上、（ｂ）厚さ５０μｍに於ける波長５００ｎｍの光線透過率が８０％以上、波長３８０ｎｍの光線透過率が３０％以下である、熱可塑性樹脂組成物。 - 特許庁

An average pitch of fine surface projection and recession of the reflection electrode 31 is controlled to be 1 μm or less, and reflectance in a wavelength region of 200-400 nm is controlled to be 90% or more of reflectance at the wavelength of 400 nm, by forming a metal film constituting the reflection electrode 31 at 170°C or below.例文帳に追加

反射電極３１を構成する金属膜の成膜温度を１７０℃以下で行うことにより、反射電極３１の微細な表面凹凸の平均ピッチを１μｍ以下に制御し、波長域２００ｎｍ〜４００ｎｍでの反射率を波長４００ｎｍでの反射率の９０％以上とする。 - 特許庁

The polycarbonate type plastic substrate is characterized by having a transparent conductive film on a polycarbonate type stretched optical retardation film of which the in-plane retardation value measured at 550 nm wavelength is 30-350 nm and the rate of thermal dimensional change in the longitudinal direction at 100°C is 0.001-0.04%.例文帳に追加

波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値が３０〜３５０ｎｍであり、且つ１００℃の条件下における長さ方向の熱寸法変化率が０．００１％〜０．０４％であるポリカーボネート系延伸位相差フィルム上に透明導電膜を有することを特徴とするポリカーボネート系プラスチック基板。 - 特許庁

Average pitch of the fine surface ruggedness of the reflection electrode 31 is controlled to be ≤1 μm and the reflectance in 200-400 nm wavelength region is specified to be ≥90% of the reflectance at 200 nm wavelength by film-depositing the metal film to be the reflection electrode 31 at ≤170°C.例文帳に追加

反射電極３１を構成する金属膜の成膜温度を１７０℃以下で行うことにより、反射電極３１の微細な表面凹凸の平均ピッチを１μｍ以下に制御し、波長域２００ｎｍ〜４００ｎｍでの反射率を波長４００ｎｍでの反射率の９０％以上とする。 - 特許庁

The silica-titania glass element suitable for EUVL is produced from glass having a coefficient of thermal expansion of 0±30×10^-9/°C or less and containing 5-10 wt.% titania, and having <10 nm mid-spatial frequency peak-to-valley roughness and <0.20 nm high-spatial frequency average roughness.例文帳に追加

ＥＵＵＶに適する光学素子において、＜１０ｎｍの中空間周波数山対谷粗さ及び＜０.２０ｎｍの高空間周波数平均粗さを有するガラスでつくられ、０±３０×１０^−９/℃ないしさらに低い熱膨張係数を有し、５〜１０重量％のチタニアを含有する、シリカ−チタニアガラス素子である。 - 特許庁

The method includes a step of depositing a layer 312 including amorphous carbon on the substrate 300 and then a step of exposing the substrate 300 to the electromagnetic radiation having at least one wavelength of between about 600 nm and about 1,000 nm under a condition sufficient for heating the layer 312 to the temperature of at least about 300°C.例文帳に追加

基板３００上にアモルファス炭素を含む層３１２を堆積させるステップと、その後、該層３１２を少なくとも約３００℃の温度に加熱するのに十分な条件下で該基板３００を約６００ｎｍ〜約１０００ｎｍの波長を１つ以上もつ電磁放射線にさらすステップと、を含む前記方法が提供される。 - 特許庁