「nm i」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In the processing method for a photosensitive material, a processing solution with which the photosensitive material comes into contact at the last of processing steps contains a compound represented by formula (I) and has an absorbance at 440 nm of 0.05-0.5.例文帳に追加

感光材料の処理方法において、該感光材料が処理工程の最後に接液する処理液が下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有し、かつ該処理液の４４０ｎｍにおける吸光度が０．０５〜０．５であることを特徴とする感光材料の処理方法。 - 特許庁

The optical lens is made of an aromatic polycarbonate resin having the refractive index (n_d) and Abbe number (ν_d) at Na D-line (589.3 nm wavelength) satisfying the expression of (I): -126.69×n_d+231.40≤ν_d, and has ≥12,000 viscosity average molecular weight and ≥100°C glass transition temperature.例文帳に追加

ナトリウムＤ線（波長５８９．３ｎｍ）における屈折率（ｎ_d ）及びアッベ数（ν_d ）が、下記式（Ｉ）の関係を満たし、 −１２６．６９×ｎ_d ＋２３１．４０≦ν_d ・・（Ｉ）かつ粘度平均分子量が１２０００以上、ガラス転移温度が１００℃以上である芳香族ポリカーボネート樹脂からなる光学用レンズである。 - 特許庁

(i) Ro=(nx-ny)×d (ii) Rth=((nx+ny)/2-nz)×d, where nx represents the maximum refractive index of in the plane, ny refractive index in the direction of nx in the plane, nz refractive index in the film thickness direction, each being 590nm, and d denotes the film thickness (nm).例文帳に追加

（ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ （ii） Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ但し、ｎｘは面内の最大屈折率、ｎｙは面内でｎｘと直行方向の屈折率、ｎｚはフィルム厚み方向の屈折率、各々の屈折率は５９０ｎｍの値であり、ｄはフィルムの膜厚（ｎｍ）を表す。 - 特許庁

When desired music data are selected and utilized, the additional information Ad of each music data Dm is obtained, and the i-con information Ic corresponding to the music guide information Gd in the additional information Ad is obtained by the table TB, and based on a set of the data name Nm and the i-con information Ic of each music data Dm is displayed and user's selection operation is waited.例文帳に追加

所望の音楽データを選択して利用する際は、各音楽データＤｍの付随情報Ａｄを取得し、テーブルＴＢにより、付随情報Ａｄ中の音楽的案内情報Ｇｄに対応するアイコン情報Ｉｃを取得し、付随情報Ａｄ中のデータ名情報Ｎｍとアイコン情報Ｉｃに基づいて、各音楽データＤｍのデータ名Ｎｍ及びアイコンＩｃをセットで表示しユーザの選択操作を待つ。 - 特許庁

The coloring composition contains a dipyrromethene-based complex compound in which a dipyrromethene-based compound, represented by general formula (I), is coordinated to a boron atom, a boron compound, a metal atom or a metal compound, or a tautomer thereof, and an infrared absorbing compound having an absorption maximum at a wavelength of ≥700 nm.例文帳に追加

一般式（Ｉ）で表されるジピロメテン系化合物が、ホウ素原子、ホウ素化合物、金属原子、又は金属化合物に配位したジピロメテン系錯体化合物又はその互変異性体と、７００ｎｍ以上の波長に吸収極大を有する赤外線吸収性化合物と、を含有する着色組成物。 - 特許庁

An insulation film 4 is provided for one plane of a first semiconductor layer 1 including a first oxide semiconductor (for example, indium oxide) with a thickness of 0.1-100 nm mainly including indium, and a second semiconductor layer 2 including a second oxide semiconductor (for example, gallium oxide) of I type is provided in contact with the other plane.例文帳に追加

インジウムを主要成分とする、厚さ０．１〜１００ｎｍの第１の酸化物半導体（例えば、酸化インジウム）よりなる第１の半導体層１の一方の面に絶縁膜４を設け、他の面に接して、Ｉ型の第２の酸化物半導体（例えば、酸化ガリウム）よりなる第２の半導体層２を設ける。 - 特許庁

This ink composition for inkjet includes a colorant, two or more hydrophilic organic solvents, and a polymer particle having a structural unit derived from a hydrophilic monomer, a structural unit derived from a hydrophobic monomer, a glass transition temperature of 150°C or higher, an I/O value of 0.2-0.55; and a volume-average particle diameter of 0.1-10 nm.例文帳に追加

色材と、２種以上の親水性有機溶剤と、親水性モノマーに由来する構成単位および疎水性モノマーに由来する構成単位を含み、ガラス転移温度が１５０℃以上、Ｉ／Ｏ値が０．２〜０．５５、体積平均粒径が０．１〜１０ｎｍであるポリマー粒子と、を含有するインクジェット用インク組成物。 - 特許庁

This drawn film is formed by drawing a film formed by solution casting and with retardation in the thickness direction having an initial value of 30 nm or larger, at temperature T to satisfy the following formula (I), and of which the weight reduction percentage, as measured by TG-DTA, after 60 min, at the temperature T is 5% or less.例文帳に追加

厚さ方向のレターデーションが３０ｎｍ以上の初期値を有する、溶液流延法により形成されたフィルムを、下記式Ｉ）を満たす温度Ｔで延伸してなり、またその温度ＴにおけるＴＧ−ＤＴＡで測定した６０分間の重量減少率が５％以下であることを特徴とする延伸フィルム。 - 特許庁

The photopolymerizable resin composition contains: (A) a compound expressed by a general formula I or a specified compound having two trihaloalkyl-substituted s-triazine cyclic groups; (B) an organic boron salt compound; (C) a sensitizing dye having absorption in a wavelength range from 380 to 410 nm; (D) a polymerizable compound; and (E) a binder polymer.例文帳に追加

（Ａ）一般式Ｉで表される化合物またはトリハロアルキル置換ｓ−トリアジン環基を２個有する特定の化合物、（Ｂ）有機ホウ素塩化合物、（Ｃ）３８０〜４１０ｎｍの波長域に吸収を有する増感色素、（Ｄ）重合性化合物、（Ｅ）バインダーポリマーを含有する光重合性樹脂組成物。 - 特許庁

When a short wavelength cut filter 27 is attached to the irradiation optical system 20, the light emitted from a high voltage mercury lamp 21 passes through the short wavelength cut filter 27 and the light in a deep UV ray region in the range of 270 to 333 nm except for g-line, h-line and i-line rays is cut.例文帳に追加

このとき、照射光学系２０に短波長カットフィルター２７が装着されている場合には、超高圧水銀灯２１から出射された光は、短波長カットフィルター２７を通過し、ｇ線、ｈ線及びｉ線を残して、２７０〜３３３ｎｍの範囲にある深紫外線域の光がカットされる。 - 特許庁

The herbicide composition in the O/W super-minute emulsion contains (a) an alkylene oxide derivative represented by formula (I) [e.g. polyoxyethylene (10 mol) polyoxypropylene (10 mol) dimethyl ether], (b) a herbicidal active ingredient, (c) a hydrophilic nonionic surfactant, (d) a lipophilic nonionic surfactant and (e) water, and has 10-500 nm average emulsion particle diameter.例文帳に追加

（ａ）下記（Ｉ）式で示されるアルキレンオキシド誘導体（例えば、ポリエチレン（１０モル）ポリオキシプロピレン（１０モル）ジメチルエーテル）と、（ｂ）除草活性成分と、（ｃ）親水性非イオン性界面活性剤と、（ｄ）親油性非イオン性界面活性剤と、（ｅ）水とを含有し、平均乳化粒子径が１０〜５００ｎｍであることを特徴とするＯ／Ｗ超微細エマルション除草剤組成物。 - 特許庁

An optical recording medium 10 is capable of absorbing a laser beam with a wavelength of 350 to 530 nm, and comprises a recording layer 2 which is formed by using, as an optical recording material, a pigment a containing a metal complex compound containing at least a pyrazine N-oxide compound represented by the general formula [I] as a diazo component.例文帳に追加

光学記録媒体１０は、波長３５０〜５３０ｎｍのレーザ光を吸収し得るものであって、一般式[Ｉ]に示すピリジンＮ−オキシド化合物をジアゾ成分として少なくとも含んでいることを特徴とする金属錯体化合物からなる色素ａを光記録材料とすることにより記録層２を構成したものである。 - 特許庁

Upon exposure, the upper face of a mask substrate of the photomask 1 is irradiated with i-line (365 nm wavelength) beams from a light source 20 such as a high-pressure mercury lamp via an illumination optical system 30, and near-field light permeates near the protrusion 2 formed in the photomask 1 to expose a resist layer 11 on the surface of the object placed directly under the protrusion 2.例文帳に追加

露光に際して、フォトマスク１のマスク基板の上面から、例えば高圧水銀ランプ等の光源２０からｉ線（波長３６５ｎｍ）が照明光学系３０を介して照射され、フォトマスク１に形成された凸部２の近傍に近接場光がしみだし、凸部２の直下に位置する被処理体表面のレジスト層１１が露光される。 - 特許庁

This aqueous composition consists of organic polymer particles, and the organic polymer particles (i) contains a fluorescent dyestuff insoluble or hardly soluble in water and soluble in a monomer having an unsaturated double bond, and (ii) has 5-100 nm weight-average particle diameter and (iii) ≥40°C glass transition point (Tg).例文帳に追加

有機高分子粒子からなる水性組成物であって、（ｉ）該有機高分子粒子が、水に不溶または難溶でありかつ不飽和二重結合を有する単量体に可溶である蛍光染料を含有し、（ｉｉ）重量平均粒子径が５〜１００ｎｍであり、（ｉｉｉ）ガラス転移温度（Ｔｇ）が４０℃以上であることを特徴とする水性組成物。 - 特許庁

The method for producing an aqueous fatty acid-modified epoxy resin dispersion comprises finely dispersing a mixture (I) composed of (A) a fatty acid-modified epoxy resin obtained by reacting an epoxy resin with a fatty acid and (B) a polymerizable unsaturated monomer into an aqueous medium so as to have ≤500 nm average particle diameter and polymerizing the obtained emulsion.例文帳に追加

（Ａ）エポキシ樹脂を脂肪酸と反応させることにより得られる脂肪酸変性エポキシ樹脂及び（Ｂ）重合性不飽和モノマーを含んでなる混合物（Ｉ）を、水性媒体中に、平均粒子径が５００ｎｍ以下となるように微分散させ、得られる乳化物を重合させることを特徴とする水性脂肪酸変性エポキシ樹脂分散体の製造方法。 - 特許庁

The standard sample is for measuring the size of the BMD in wafer, and it is a silicon single crystal wafer which is grown by being doped with nitrogen by Czochralski method and which does not contain I region fully, and BMD in the standard sample exist in a density of 1×10^9 pieces/cm^3 or more, and have a size of 15 nm or more in octahedral shape.例文帳に追加

ウェーハ中のＢＭＤのサイズを測定するための標準サンプルであって、該標準サンプルは、チョクラルスキー法により窒素をドープされて育成された全面がＩ領域を含まないシリコン単結晶ウェーハであって、該標準サンプル中のＢＭＤは、密度が１×１０^９個／ｃｍ^３以上、かつサイズが１５ｎｍ以上の八面体形状である。 - 特許庁

The method for producing an aqueous resin dispersion comprises finely dispersing a monomer mixture (I) containing monomer components including a polymerizable unsaturated monomer (A) containing a dicyclopentenyl group and another polymerizable unsaturated monomer (B) copolymerizable with the monomer (A) in an aqueous medium to an average particle diameter of 500 nm or less and then polymerizing the thus emulsified product.例文帳に追加

ジシクロペンテニル基を含有する重合性不飽和モノマー（Ａ）及び該モノマー（Ａ）と共重合可能なその他の重合性不飽和モノマー（Ｂ）を含むモノマー成分を含むモノマー混合物（Ｉ）を、水性媒体中に平均粒子径が５００ｎｍ以下になるように微分散させ、得られる乳化物を重合させることを特徴とする水性樹脂分散体の製造方法。 - 特許庁

The water-based coating composition is characterized by containing a cellulose fiber with a number average fiber diameter of 2-150 nm, in which the cellulose has a type I crystalline structure, a hydroxyl group at a C6-position of a glucose unit in a cellulose molecule is selectively oxidized to be modified to an aldehyde group and a carboxyl group, and an amount of the carboxyl group is 0.6 to 2.2 mmol/g.例文帳に追加

数平均繊維径が２〜１5０nmのセルロース繊維であって、そのセルロースが、セルロースＩ型結晶構造を有すると共に、セルロース分子中のグルコースユニットのC6位の水酸基が選択的に酸化されてアルデヒド基およびカルボキシル基に変性されており、カルボキシル基の量が０．６〜２．２mmol/gであるセルロース繊維 を含有することを特徴とする、水系塗料組成物。 - 特許庁

The manufacturing method of the silicon-containing resin aqueous dispersion comprises fine dispersing a mixture (I) of an organosilane (A) containing a hydrolyzable silyl group and a monomer component (B) consisting of a fatty acid-modified polymerizable unsaturated monomer (a) and another polymerizable unsaturated monomer (b) so that the average particle size becomes 1,000 nm or less into an aqueous medium and polymerizing the resulting emulsion.例文帳に追加

（Ａ）加水分解性シリル基を含有するオルガノシラン並びに（Ｂ）脂肪酸変性重合性不飽和モノマー（ａ）及びその他の重合性不飽和モノマー（ｂ）からなるモノマー成分を含む混合物（Ｉ）を水性媒体中に平均粒子径が１０００ｎｍ以下になるように微分散させ、得られる乳化物を重合することを特徴とするシリコン含有樹脂水分散体の製造方法。 - 特許庁

A non-silver salt image recording medium is provided with a coloring layer containing an acid generating agent represented by a formula I generating an acid by the action of heat or acid and a compound generating the intermolecular reaction or the intermolecular reaction by the action of the aid and also generating changes on a 360-900 nm absorption zone, and a plurality of coloring layers are formed.例文帳に追加

支持体上に熱または酸の作用により酸を発生する下記一般式（１）で表される酸発生剤と、酸の作用により分子内もしくは分子間反応を引き起こし３６０〜９００ｎｍの吸収域に変化を生じる化合物とを含有する発色層を有する非銀塩画像記録媒体において、発色層が複数存在することを特徴とする記録媒体。 - 特許庁

Upon exposure, the upper face of a mask substrate of the photomask 1 is irradiated with i-line (365 nm wavelength) from a light source 20 such as a high-pressure mercury lamp via an illumination optical system 30; and near-field light permeates near an opening of the light shielding film 2 formed in the photomask 1 to expose a resist layer 11 on the surface of the object placed directly under the opening.例文帳に追加

露光に際して、フォトマスク１のマスク基板の上面から、例えば高圧水銀ランプ等の光源２０からｉ線（波長３６５ｎｍ）が照明光学系３０を介して照射され、フォトマスク１に形成された遮光膜２の開口の近傍に近接場光がしみだし、開口の直下に位置する被処理体表面のレジスト層１１が露光される。 - 特許庁

The resist film is formed of a chemically amplified resist composition comprising (A) a polymeric compound having such a structure that a hydrogen atom in a phenolic hydroxyl group is substituted with a group expressed by general formula (I), (B) a compound generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation, and an organic solvent, and the resist film has a film thickness of 10 to 200 nm.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される基により、フェノール性水酸基の水素原子が置換された構造を有する高分子化合物、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び有機溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物により形成されたレジスト膜であって、膜厚が１０〜２００ｎｍであるレジスト膜。 - 特許庁

An oxidation curing type resin produced by finely dispersing a monomer mixture (I) containing an unsaturated fatty acid-modified polymerizable unsaturated monomer (a), a carboxy group-containing polymerizable unsaturated monomer (b) and other polymerizable unsaturated monomers (c) in an aqueous medium so that the average particle diameter is ≤500 nm and polymerizing the resultant monomer emulsion is suitable as the oxidation curing type resin (A).例文帳に追加

酸化硬化型樹脂（Ａ）が、不飽和脂肪酸変性重合性不飽和モノマー（ａ）、カルボキシル基含有重合性不飽和モノマー（ｂ）及びその他の重合性不飽和モノマー（ｃ）を含むモノマー混合物（Ｉ）を水性媒体中に平均粒子径が５００ｎｍ以下になるように微分散させ、得られるモノマー乳化物を重合することにより製造されるものが適している。 - 特許庁

The new polyester composition expressed by formula (I) and/or formula (II), finely dispersed with the silica particles having ≤100 nm diameter is obtained by performing the hydrolysis and polycondensation of an alkoxysilane and/or its partially hydrolyzed polycondensate with ≥1 kind of a compound selected from an amino group-containing alkoxysilane and an amino compound containing hydrogen bond or an ionic bonding functional group in a polyester solution.例文帳に追加

アルコキシシラン及び／またはその部分加水分解重縮合化合物と、アミノ基含有アルコキシシラン、水素結合又はイオン結合性官能基を含有するアミノ化合物から選ばれる１種以上の化合物とを、ポリエステル溶液中で加水分解・重縮合を行うことで、１００ｎｍ以下のシリカ粒子が微細に分散した下記一般式（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）で表される新規ポリエステル組成物。 - 特許庁

In the electrophotographic photosensitive body used with an exposure light source with a wavelength of 405±20 nm, the electrophotographic photosensitive body is formed by sequentially laminating a charge generating layer and a charge transfer layer on a conductive substrate, wherein the charge transfer layer includes a phenylene diamine compound represented by general formula (I) as a charge transfer material, and the charge generating layer includes gallium phthalocyanine dimer as a charge generating material.例文帳に追加

波長４０５±２０ｎｍの露光光源で使用される電子写真感光体において、電子写真感光体が、導電性基体上に電荷発生層、電荷輸送層を順次積層してなり、電荷輸送層が、電荷輸送物質として、下記一般式（Ｉ）：で表されるフェニレンジアミン化合物を含有し、かつ電荷発生層が、電荷発生物質としてガリウムフタロシアニンダイマーを含有すること。 - 特許庁

The photomask material has, on a light transmitting substrate, a photosensitive layer comprising i) an alkali-soluble resin binder having polymerizable unsaturated bonds, ii) a monomer having at least one polymerizable unsaturated bond, iii) a photopolymerization initiation system having photosensitivity in a wavelength region of ≥405 nm and iv) colorant surface-treated with a polymerizable dispersant, wherein the photosensitive layer is formed by coating.例文帳に追加

光透過性の基材上に、ｉ）重合可能な不飽和結合を有するアルカリ可溶性樹脂バインダー、ii）少なくとも１個の重合可能な不飽和結合を有するモノマー、iii）４０５ｎｍ以上の波長領域に感光性を有する光重合開始系、及びiv）重合可能な分散剤で表面処理された着色材、を含む感光性層を有し、かつ該感光性層が塗布形成されてなることを特徴とするフォトマスク材料である。 - 特許庁

The optical film contains a thermoplastic norbornene-based resin composed of a structural unit (I) which imparts positive birefringence and a structural unit (II) which imparts negative birefringence in the wavelength region from 400 to 800 nm.例文帳に追加

１．波長４００〜８００ｎｍにおいて、正の複屈折性を示す構造単位（Ｉ）と負の複屈折性を示す構造単位（ＩＩ）とからなり、構造単位（Ｉ）又は（ＩＩ）のみからなる重合体を同一条件で一軸延伸した場合の任意の波長：λにおけるｘ軸方向の屈折率：Ｎｘ（λ)とｙ軸方向の屈折率：Ｎｙ（λ)の差、すなわち、Ｎｘ（λ)−Ｎｙ（λ)をそれぞれ△Ｎ_Ｉ(λ)及び△Ｎ_ＩＩ(λ)としたとき、△Ｎ_Ｉ(λ)＋△Ｎ_ＩＩ(λ)＞０ △Ｎ_Ｉ(λ)−△Ｎ_Ｉ(800)＜△Ｎ_ＩＩ(800)−△Ｎ_ＩＩ(λ)［ここで、△Ｎ_Ｉ(800)及び△Ｎ_ＩＩ(800)は、波長８００ｎｍにおけるｘ軸方向とｙ軸方向の屈折率の差を示す。 - 特許庁