「nm i」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

By incorporating nano-diamond into a photosensitive resin composition, high sensitivity not only to a g-line (wavelength; 436 nm) or an i-line (wavelength; 365 nm) but to a light source of a short wavelength such as a KrF excimer laser (248 nm) or an ArF excimer laser (193 nm) and improved plasma resistance are provided to the composition.例文帳に追加

感光性樹脂組成物にナノダイアモンドを含有させることにより、g線（波長436nm）、i線（波長365nm）、KrFエキシマレーザー（248nm）やArFエキシマレーザー（193nm）などの短波長の光源に対しても高感度でプラズマ耐性を高める。 - 特許庁

(i) The film has ≤10 nm in-plane retardation (Ret) to light having 550 nm wavelength and ≤10 nm retardation (Rth) in the film thickness direction to light having 590 nm wavelength.例文帳に追加

（ｉ）波長５５０ｎｍの光に対するフィルム面内の位相差（Ｒｅｔ）が１０ｎｍ以下であり、かつ、波長５９０ｎｍの光に対するフィルム厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）が１０ｎｍ以下である。 - 特許庁

To obtain a photosensitive resin composition having high sensitivity not only to a g-line (wavelength; 436 nm) or an i-line (wavelength; 365 nm) of a conventional high-pressure mercury vapor lamp but to a light source of a short wavelength such as a KrF excimer laser (248 nm) or an ArF excimer laser (193 nm) and also having high plasma resistance when used as a resist.例文帳に追加

レジスト用途において、従来の高圧水銀灯のg線（波長436nm）、i線（波長365nm）、KrFエキシマレーザー（248nm）やArFエキシマレーザー（193nm）などの短波長の光源に対しても高感度であり、プラズマ耐性が高い感光性樹脂組成物を得る。 - 特許庁

Each of the underlayer 3 and the (p) layer 4 has a film thickness of 10 nm, the (i) layer 5 has a film thickness of 300-1,000 nm and the (n) layer 6 has a film thickness of 20 nm.例文帳に追加

下地層３およびｐ層４は、１０ｎｍの膜厚を有し、ｉ層５は、３００〜１０００ｎｍの膜厚を有し、ｎ層６は、２０ｎｍの膜厚を有する。 - 特許庁

The cyanine compound represented by formula (I) is useful as a light-absorbing agent for a light having a wavelength of 750-1,100 nm, particularly 800-900 nm.例文帳に追加

式（Ｉ）で表されるシアニン化合物は７５０〜１１００ｎｍ、特に８００〜９００ｎｍの波長の光に対する光吸収剤として有用である。 - 特許庁

This CsX:Eu phosphor shows upon excitation with light of 370 nm at a wavelength of λ_max a maximum emission intensity I_0 and at λ_max+30 nm an emission intensity I, such as that I≤0.20 I_0.例文帳に追加

３７０ｎｍの光で励起するとＩ≦０．２０Ｉ_０であるようなλ_ｍ_ａｘの波長における最大発光強度Ｉ_０及びλ_ｍａｘ＋３０ｎｍにおける発光強度Ｉを示すＣｓＸ：Ｅｕ燐光体。 - 特許庁

The i layer 4 has a film thickness of 300-1,000 nm, and each of the amorphous thin film 41 and the crystal thin film 42 has a film thickness of 10-20 nm.例文帳に追加

そして、ｉ層４は、３００ｎｍ〜１０００ｎｍの膜厚を有し、非晶質薄膜４１および結晶薄膜４２の各々は、１０ｎｍ〜２０ｎｍの膜厚を有する。 - 特許庁

The (i) layer 4 has a film thickness of 300-1,000 nm, and each of the amorphous thin film 41 and the crystal thin film 42 has a film thickness of 10-20 nm.例文帳に追加

そして、ｉ層４は、３００ｎｍ〜１０００ｎｍの膜厚を有し、非晶質薄膜４１および結晶薄膜４２の各々は、１０ｎｍ〜２０ｎｍの膜厚を有する。 - 特許庁

When a beam current I is 5 μA, it is a minimum value of 30 [nm] or thereabout at a beam spread angle of about 5.5 [mrad], and when a beam current I is 25 μA, it is 92 [nm] or thereabout at about 8.0 [mrad].例文帳に追加

ビーム電流Ｉが５μＡの場合には、ビーム開き角が５．５［ｍｒａｄ］程度のとき最低値の３０［ｎｍ］程となり、ビーム電流Ｉが２５μＡの場合には、８．０［ｍｒａｄ］程度のとき、９２［ｎｍ］程となる。 - 特許庁

The cellulose acylate film has a retardation value of -800 to -100 nm in the thickness direction and an acyl substitution degree to the hydroxy group of cellulose satisfying the formulas (I) to (III).例文帳に追加

膜厚方向のレターデーション値が−８００〜−１００ｎｍであり、セルロースの水酸基へのアシル置換度が下記式（I）〜（III）の全てを満足するセルロースアシレートフィルム。 - 特許庁

The near-infrared ray absorbing material contains a light emission agent [compound (I)] and a compound (II) having ≥700 nm spectra extinction maximum wave length in the range of 400-1600 nm measured in a solution.例文帳に追加

発光剤（化合物（Ｉ））と、溶液における４００〜１６００ｎｍの範囲での分光吸収極大波長が７００ｎｍ以上の化合物（ＩＩ）とを含有する近赤外線吸収材料。 - 特許庁

The compounds (I) preferably contain a compound (Ia) having a maximum absorption wavelength of 800 to <850 nm and a compound (Ib) having a maximum absorption wavelength of 850-920 nm.例文帳に追加

好ましくは化合物（Ｉ）として、最大吸収波長が８００ｎｍ以上８５０ｎｍ未満である化合物（Ｉａ）と最大吸収波長が８５０〜９２０ｎｍである化合物（Ｉｂ）とを含む。 - 特許庁

This high refractive index-having material composition having a ≥1.70 refractive index and a ≥150°C glass transition temperature comprises a polyimide expressed by general formula (I) and inorganic fine particles having 1-100 nm average particle size.例文帳に追加

特定構造を有するポリイミド類に平均粒子直径１〜１００ｎｍの無機微粒子を分散させる。 - 特許庁

Light in a wavelength region of 1550 nm I is transmitted to an optical transmission line 110 and is optically outputted through an optical amplifier 50 to an optical transmission line 120.例文帳に追加

光伝送路１１０には波長１５５０ｎｍ帯域の光が伝送され、光増幅器５０を通して光伝送路１２０に光出力される。 - 特許庁

The cellulose ester film has a planar orientation degree S represented by following formula (I) of 0.0004 or less, and has the retardation Rt in the direction of film thickness of less than 10 nm.例文帳に追加

下記式（Ｉ）で表される面配向度Ｓが０．０００４以下であり、且つ、膜厚方向のリタデーションＲｔが１０ｎｍ未満であるセルロースエステルフィルム。 - 特許庁

By irradiating an aminimide compound of general formula (I) or (II) with a light of 150-750 nm, a base is generated.例文帳に追加

本発明は、一般式（Ｉ）または一般式（II）で示されるアミンイミド化合物に１５０〜７５０ｎｍの光照射をし、塩基を発生させる塩基の発生方法：。 - 特許庁

A p/i interface layer 5 of amorphous silicon oxide having thickness of 1 to 8 nm is provided between a p-type semiconductor layer 6 comprising an amorphous thin film including a microcrystalline phase and an intrinsic i-type semiconductor layer 4.例文帳に追加

微結晶相を含む非晶質薄膜からなるｐ型半導体層６とｉ型半導体層４との間に、１〜８nmの厚さの非晶質シリコンオキサイドのｐ／ｉ界面層５を設ける。 - 特許庁

To provide an inexpensive pellicle film suited to a lithography process of applying ultraviolet light including i line, h line and g line and having a wavelength region of 350-450 nm, and having light resistance.例文帳に追加

ｉ線、ｈ線、ｇ線を含む、３５０〜４５０ｎｍの波長域の紫外線を照射するリソグラフィ工程に好適な、安価で耐光性に優れたペリクル膜を提供する。 - 特許庁

To improve conversion efficiency by improving the inner quantum efficiency of a carrier at a short-wavelength region of 400-600 nm in a pin-type thin-film solar battery with a thick (i) layer.例文帳に追加

ｉ層厚さの薄いｐｉｎ型薄膜太陽電池において、４００〜６００nmの短波長域でのキャリアの内部量子効率を改善し、変換効率の向上を図る。 - 特許庁

The cellulose ester film has a plane orientation degree S represented by the following formula (I) of 0.0004 or less, and has the retardation Rt in the direction of film thickness of less than 20 nm.例文帳に追加

下記式（Ｉ）で表される面配向度Ｓが０．０００４以下であり、且つ、膜厚方向のリタデーションＲｔが２０ｎｍ未満であることを特徴とするセルロースエステルフィルム。 - 特許庁

For the amorphous silicon layer constituting the i layer at the top part (a light incident side), the amorphous silicon layer in a structure for which fine crystal silicon grains of grain diameters 1 nm to 15 nm are dispersed in an amorphous matrix is used.例文帳に追加

ｎ層，ｉ層，ｐ層は、アモルファスシリコン層または多結晶シリコン層により形成され、最上部（光の入射側）のｉ層を構成するアモルファスシリコン層が、粒径１ｎｍ〜１５ｎｍの微細な結晶シリコン粒がアモルファスマトリックス中に分散した構造のアモルファスシリコン層を用いる。 - 特許庁

A transparent conductive film 10 having a transparent conductive layer on at least one surface of a flexible transparent substrate and satisfying conditions of optical characteristics expressed by (i):0 nm≤Re_1≤2000 nm and (ii):0.8≤Nz≤1.4, is used for an outer touch panel 20, and thereby, generation of iridescent irregularity can be suppressed.例文帳に追加

可撓性透明基材の少なくとも一方の面に透明導電層を有し、かつ（ｉ）０ｎｍ≦Ｒｅ_１≦２０００ｎｍ、および（ｉｉ）０．８≦Ｎｚ≦１．４の光学特性を満たす透明導電性フィルム１０を、アウタータッチパネル２０に用いることで、虹ムラの発生が抑制される。 - 特許庁

This electrophotographic phtoreceptor has on a conductive base a photosensitive layer containing hydroxy gallium phthalocyanine having a maximum peak wavelength within a range of 810 to 839 nm in a spectral absorption spectrum in a wavelength range of 600 to 900 nm and an aryl amine compound represented by formula (I).例文帳に追加

電子写真感光体は、導電性支持体上に、６００〜９００ｎｍの波長域での分光吸収スペクトルにおいて８１０〜８３９ｎｍの範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン及び式（Ｉ）で表されるアリールアミン化合物を含有する感光層を備える。 - 特許庁

The photosensitive composition contains (i) a triplet sensitizing dye having its maximum absorption at 350-450 nm wavelength, (ii) an acylphosphine compound and (iii) a compound which reacts under at least one of a radical and an acid, varies at least one of its physical and chemical characteristics and retains the varies characteristic.例文帳に追加

（ｉ）極大吸収波長を350〜450 nmに有する三重項増感色素、（ｉｉ）アシルホスフィン化合物及び、（ｉｉｉ）ラジカルおよび酸の少なくともいずれかによって反応し、その物理的および化学的特性の少なくともいずれかが変化して保持される化合物を含有する感光性組成物。 - 特許庁

The reflection film for the display comprises a transparent polymer film which exhibits in-plane retardation R(550) [nm] with respect to light with 550 nm wavelength satisfying inequality (I) and which has a transparent conductive layer formed on one surface thereof and a reflection layer and a resin layer P in contact with the reflection layer formed in this order on the other surface.例文帳に追加

波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差Ｒ（５５０）［ｎｍ］が下記式（Ｉ）を満足する透明高分子フィルムの一方の面に透明導電層が形成され、他方の面に反射層及び該反射層に接して樹脂層Pが順に形成されているディスプレイ用反射フィルム。 - 特許庁

From an input voltage value V and a motor speed (n) into the inverter 3, and a torque command value T into the motor 2, a current value I is calculated using a following equation (1): I(A)= 2π × T(Nm) × n(rpm) × Km ÷ {60(s) × V(V)}.例文帳に追加

インバータ３への入力電圧値Ｖとモータ回転数ｎ、およびモータ２へのトルク指令値Ｔから、式（１）：Ｉ（Ａ）＝２π×Ｔ（Ｎｍ）×ｎ（ｒｐｍ）×Ｋｍ÷｛６０（ｓ）×Ｖ（Ｖ）｝により電流値Ｉを算出する。 - 特許庁

The optical information recording medium which records the information by irradiation with a laser light of ≤450 nm in wavelength contains a futhalocyanine coloring matter which is represented by the general formula (I) in a recording layer.例文帳に追加

波長４５０ｎｍ以下のレーザ光の照射により情報が記録される光情報記録媒体であって、記録層に下記一般式（Ｉ）で表されるフタロシアニン色素を含有させる。 - 特許庁

The expressions are: (I) 20≤Re≤500; (II) 70≤Rth≤200 and (III) 1.0≤Rth/Re≤3.0, wherein Re and Rth are values at 25°C and 60% RH respectively and the unit is nm.例文帳に追加

ここに、式（Ｉ）：２０≦Ｒｅ≦５００、式（ＩＩ）：７０≦Ｒｔｈ≦２００、式（ＩＩＩ）：１．０≦Ｒth/Ｒｅ≦３．０であり、Re及びRthは、２５℃，６０％ＲＨにおける値であり、単位は、ｎｍである。 - 特許庁

The rubber composition comprises (i) at least one diene rubber, (ii) carbon black and/or silica, (iii) sulfur, and (iv) zinc oxide with an average particle size of <80 nm as a vulcanization promoting assistant.例文帳に追加

（ｉ）少なくとも一種のジエン系ゴム、（ii）カーボンブラック及び／又はシリカ、（iii）イオウ並びに（iv）加硫促進助剤として平均粒子径８０ｎｍ未満の酸化亜鉛を含んでなるゴム組成物。 - 特許庁

This near-infrared absorbent comprises one or more compounds (I) having a maximum absorption wavelength of 800-920 nm, which are phthalocyanine compounds or naphthalocyanine compounds, and one or more compounds (II) having a maximum absorption wavelength of >920 nm, which are phthalocyanine compounds or naphthalocyanine compounds.例文帳に追加

この近赤外線吸収剤はフタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物であって最大吸収波長が８００〜９２０ｎｍである化合物（Ｉ）の一種以上とフタロシアニン系化合物又はナフタロシアニン系化合物であって最大吸収波長が９２０ｎｍを超える化合物（II）の一種以上である。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polyimide resin composition which has excellent sensitivity in i-ray (365 nm) exposure and a high-resolution, with which the development in alkali water solution can be performed and which can form a good relief pattern.例文帳に追加

ｉ線（３６５ｎｍ）露光で感度がよく、高解像度であり、アルカリ水溶液現像が可能で、良好なレリーフパターンが形成できるポジ型感光性ポリイリミド樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The photosensitive composition comprises (A) a hexaarylbiimidazole type compound having a structure represented by general formula (I), (B) a sensitizing dye having an absorption maximum λ_max at 350-850 nm, and (C) an addition polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond.例文帳に追加

（Ａ）下記一般式（I）で表される構造を持つヘキサアリールビイミダゾール型化合物（Ｂ）３５０ｎｍ〜８５０ｎｍに吸収極大λ_maxを持つ増感色素、及び（Ｃ）エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物を含有する感光性組成物。 - 特許庁

The liquid crystal display device utilizes an optical compensation sheet which is characterized by being composed of a sheet of a polymer film with Re retardation value defined by an equation (I) in 20-70 nm range and with Rth retardation value defined by an equation (II) in 70-400 nm range and with thermal conductivity in 1-W/(m.k) range.例文帳に追加

下記式（Ｉ）により定義されるＲｅレターデーション値が２０乃至７０ｎｍの範囲にあり、そして、下記式（II）により定義されるＲthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍの範囲にあり、熱伝導率が１乃至 Ｗ／（ｍ・Ｋ）の範囲にある一枚のポリマーフイルムのみからなることを特徴とする光学補償シートを液晶表示装置に利用する。 - 特許庁

The fine emulsion composition is characterized by containing (a) a block type alkylene oxide derivative expressed by formula (I), (b) an oily component, (c) a polyol and (d) water, obtained by blending 0.1 to 20 mass% block type alkylene oxide derivative expressed by the formula (I) and having a 10 to 300 nm mean particle diameter.例文帳に追加

（ａ）下記式（Ｉ）で示されるブロック型アルキレンオキシド誘導体と、（ｂ）油性成分と、（ｃ）ポリオールと、（ｄ）水と、を含有し、前記式（Ｉ）で示されるブロック型アルキレンオキシド誘導体を０．１〜２０質量％配合し、平均粒子径が１０〜３００ｎｍであることを特徴とする微細エマルション組成物。 - 特許庁

The fluorescent polymer has a molecular chain exhibiting fluorescence at wavelength 380-800 nm and a terminal group represented by general formula (I) (wherein R^1 to R^3 is as defined in the specification).例文帳に追加

本発明は、波長３８０〜８００ｎｍに蛍光発光を示す分子鎖と、一般式（Ｉ）：（式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、明細書に定義のとおりである）で表わされる末端基とを有する蛍光性ポリマーに関する。 - 特許庁

An oxide semiconductor thin film 22 is formed by using a nano particle dispersion liquid containing a metal oxide nano particle having an average particle size of 50 nm or smaller selected from a compound expressed by an expression I: Zn_XM_YIn_ZO_(X+1.5Y+1.5Z)例文帳に追加

下記式ＩまたはＩ'で表される化合物から選択される平均粒子サイズ５０ｎｍ以下の金属酸化物ナノ粒子と分散媒とを含むナノ粒子分散液を用いて酸化物半導体薄膜２２を形成する。 - 特許庁

To provide a polybenzoxazole imide film useful as a protecting film of a semiconductor element and plastic substrate plate for a display by using a hydroxyamide group-containing alicyclic polyimide having a high transmission at an i-line (365 nm), or its precursor.例文帳に追加

ｉ線（３６５ｎｍ）において高い透過率を有するヒドロキシアミド基含有脂環式ポリイミド又はその前駆体を用いて、半導体素子の保護膜及びディスプレー用プラスチック基板として有用なポリベンゾオキサゾールイミド膜を提供する。 - 特許庁

There is provided an aqueous inkjet ink composition containing, at least, a self-dispersion pigment having an average particle diameter of 20 to 300 nm, and a polyurethane resin having as constituting components a compound represented by formula (I) (wherein N is an integer of 1 to 6) or/and a compound represented by formula (II) (wherein the value of O+P+Q is an integer of 0 to 6).例文帳に追加

平均粒径が２０〜３００ｎｍの自己分散性顔料と、下記式(I)または／および式（II）で表される化合物を構成成分とするポリウレタン樹脂とを少なくとも含んでなる水性インクジェットインク組成物：（式中、Ｎは１〜６の整数）、（式中、Ｏ＋Ｐ＋Ｑの値は０〜６の整数）。 - 特許庁

The heat conduction member 1 is obtained by depositing silicon nitride film on both surfaces of aluminum nitride 2 substrate, wherein the silicon nitride film is rich in silicon as compared to the stoichiometric composition and has a refractive index more than 2.0 at wavelength I=633 nm.例文帳に追加

窒化アルミニウム２基板の両面にシリコン窒化膜を堆積した熱伝導部材１であり、該シリコン窒化膜が、ストイキオメトリック組成に比べてシリコンリッチであり、且つ屈折率が波長Ｉ＝６３３ｎｍにおいて２．０を超える事を特徴とする熱伝導部材。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition capable of forming a fine pattern of about 0.35 μm in photolithography using i-line (365 nm), excel lent in DOF characteristics in such an ultrafine region and having attained high sensitivity.例文帳に追加

ｉ線（３６５ｎｍ）を用いたホトリソグラフィ技術において、０．３５μｍ程度の微細なパターン形成が可能で、そのような超微細な領域においてＤＯＦ特性に優れ、かつ高感度化が達成されたポジ型ホトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The photosensitive lithographic printing plate has, on a hydrophilic support, a photopolymerizable photosensitive layer containing (i) a sensitizing dye having an absorption maximum in a wavelength range of 360-450 nm; (ii) a hexaarylbisimidazole compound; (iii) an addition polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond; (iv) a binder polymer; and (v) a specific mercapto compound.例文帳に追加

（ｉ）３６０ｎｍから４５０ｎｍの波長域に吸収極大を持つ増感色素 （ii）ヘキサアリールビスイミダゾール化合物 （iii）エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物 （ｉｖ）バインダーポリマー （ｖ）特定のメルカプト化合物 - 特許庁

The transparent coat applied base material comprises a transparent coat consisting of silica hollow particulates and a matrix component and formed on the base material, the silica hollow particulates having (i) an average particle size (Dn) of 20-80 nm, (ii) a particle size variation coefficient (a CV value) of 1-50%, and (iii) a refraction index of 1.10-1.40.例文帳に追加

基材上に、シリカ系中空微粒子とマトリックス成分とからなる透明被膜が形成された透明被膜付基材であって、シリカ系中空微粒子の(i)平均粒子径(Dn)が２０〜８０ｎｍの範囲にあり、(ii)粒子径変動係数（ＣＶ値）が１〜５０％の範囲にあり、(iii)屈折率が１．１０〜１．４０の範囲にあることを特徴とする透明被膜付基材。 - 特許庁

A method of producing the polyimide/silica hybrid hollow fiber comprises (i) a step of producing the polyamide acid/silica hybrid hollow fiber with an outer diameter of 10 nm-10 μm using the electrospinning method and (ii) a step of imidizing the polyamide acid/silica hybrid hollow fiber.例文帳に追加

ポリイミド／シリカハイブリッド中空ファイバーの製造方法は、（ｉ）エレクトロスピニング法を用いて、１０ｎｍ〜１０μｍの外径を有するポリアミド酸／シリカハイブリッド中空ファイバーを製造する工程、及び（ii）そのポリアミド酸／シリカハイブリッド中空ファイバーをイミド化する工程を有する。 - 特許庁

The film includes the thermoplastic norbornene resin, satisfies ranges of expressions (a) and (b) as to an in-plane phase difference R(589) in a 589 nm of wavelength and the Nz defined by an expression (I), and has a film thickness within a range of 25-100 μm.例文帳に追加

熱可塑性ノルボルネン系樹脂からなり、波長５８９ｎｍにおけるフィルム面内の位相差Ｒ（５８９）および下記式（Ｉ）で定義されるＮｚが下記式（ａ）および（ｂ）の範囲を満足し、かつフィルム厚みが２５〜１００μｍの範囲にあることを特徴とするフィルム。 - 特許庁

A first electrolyte composition, mainly composed of ionic liquid, has a copper complex dissolved in the ionic liquid as a probe material, and contains the ionic liquid in which an absorbing maximum wavelength is observed at a wavelength side longer than the absorbing maximum wavelength of HMIm-I, when visible light spectrum is measured with a wavelength range at 550 nm or more and 800 nm or less.例文帳に追加

本発明に係る第一の電解質組成物は、イオン性液体が主たる成分を構成してなる電解質組成物であって、イオン性液体の中に銅錯体をプローブ物質として溶解させ、波長範囲を５５０ｎｍ以上８００ｎｍ以下として可視吸光スペクトルを測定した際に、ＨＭＩｍ−Ｉの吸収極大波長より長波長側に吸収極大波長が観測されるイオン性液体を含有している。 - 特許庁