「pattern-system」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method for reducing the fogging effect in an electron beam lithography system, exposure is controlled in order to obtain a pattern matched to design data after processing.例文帳に追加

本発明は、電子ビームリソグラフィーシステムにおけるかぶり効果を減少させる方法に関し、設計データに一致する処理後のパターンを得るために露光が制御される。 - 特許庁

To provide a culture system of a cell culture apparatus reproducing a physiological dynamic stimulation pattern, applicable to aseptic and various species of cells over a long period and having general-purpose properties.例文帳に追加

生理的な力学的刺激パターンを再現し、かつ、長期にわたる無菌性及び種々の細胞に適用できる汎用性を有する培養システムを提供する。 - 特許庁

This air conditioner selection supporting system 1 comprises a storage portion 16, an air conditioning load pattern derivation means 13a, and an optimum capacity ratio derivation means 13b.例文帳に追加

本発明に係る空調機選定支援システム１は、蓄積部１６と、空調負荷パターン導出手段１３ａと、最適容量比導出手段１３ｂとを備える。 - 特許庁

To provide a method of adjusting focal point, by which the focal point of a beam including a beam having an arbitrary shape can be adjusted with high accuracy, and to provide an electron beam lithography system which can write a pattern with high accuracy.例文帳に追加

任意形状ビームを含む高精度なビーム焦点調整方法や、高精度なパターン描画を可能とした電子線描画装置を提供すること。 - 特許庁

To improve a throughput of transferring a pattern onto a belt-like photosensitive substrate while utilizing flexibility of the photosensitive substrate conveyed in a roll-to-roll system.例文帳に追加

例えばロール・ツー・ロールで搬送される帯状の感光性基板の可撓性を利用しつつ、感光性基板へのパターンの転写にかかるスループットの向上を達成する。 - 特許庁

In this light irradiation system, a plurality of angle indicator values depending on each scanning pattern are stored in a memory 301d of DSP 301 within a scanner controller 300 as control parameters.例文帳に追加

スキャナ制御部３００内のＤＳＰ３０１が有するメモリ３０１ｄにスキャンパターンに応じた複数の角度指示値を制御パラメータとして記憶させておく。 - 特許庁

To provide a method and system for determining page orientation, language, language family, or the like of an electronic document, which reduce a memory size for storing pattern data for matching of character style.例文帳に追加

字体のマッチングのためのパターンデータを格納するメモリサイズを削減できる、電子文書のページ方向、言語または語族等を特定する方法およびシステムを実現する。 - 特許庁

An image of the re-encoded stripe pattern is picked up by an imaging system 13, decoded and distance of an object is measured by triangulation based on a corresponding point of the image.例文帳に追加

再符号化されたストライプパターンは撮像装置１３に撮像され復号され画像の対応点に基づいて三角測量により物体の距離が測定される。 - 特許庁

This device transfers a pattern on a reticle 7 illuminated with an illumination system to a wafer 3 by reducing and projecting by an image reducing project lens 5.例文帳に追加

本発明に係る露光装置は、照明系により照明されたレチクル７上のパターンを、縮小投影レンズ５によりウエハー３に縮小投影して転写する装置である。 - 特許庁

To provide an air shower head, which can prevent contamination of a photoresist layer on a wafer, due to chemical substances and the deterioration in pattern profile of the wafer, and also to provide a photolithography system using the same.例文帳に追加

化学物質によるウェーハ上のフォトレジスト層の汚染とウェーハのパターンプロファイルの低下とを防止するエアシャワーヘッド及びそれを用いたフォトリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a user terminal and an exercise state sensing system capable of monitoring a subject's daily life and indicating a better life pattern and an adequate caloric intake.例文帳に追加

日常の生活に密着して生活パターンの改善や、適切な摂取カロリー量を知ることが可能なユーザー端末及び運動状態センシングシステムを提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of, and a program product for optimizing an intensity profile of a pattern to be formed in a surface of a substrate relative to a given mask using an optical system.例文帳に追加

光学システムを使用して、任意のマスクに対して基板の表面に形成すべきパターンの強度プロフィールを最適化する方法およびプログラム製品を提供する。 - 特許庁

To improve the characteristics, the function, etc., of an insulating layer without impairing the formability of a fine pattern, a cost reduction, etc., in a wiring substrate in which an electrophotographic system is applied.例文帳に追加

電子写真方式を適用した配線基板において、微細パターンの形成性や低コスト化等を損なうことなく、絶縁層の特性や機能等を向上させる。 - 特許庁

In the receiver which decides whether a signal modulated by the OFDM modulation system is received, a storage means 4 stores a pattern of a modulated signal of a designated carrier.例文帳に追加

ＯＦＤＭ変調方式により変調された信号の受信の有無を判定する受信機において、記憶手段４が、所定のキャリアの変調信号のパターンを記憶する。 - 特許庁

To provide a determination method capable of accurately and rapidly determining a replacement timing of a focus ring, a control method, a determination device, a pattern formation system, and a program.例文帳に追加

フォーカスリングの交換時期を的確かつ迅速に判定することができる判定方法、制御方法、判定装置、パターン形成システム及びプログラムを提供する。 - 特許庁

One or more left atrium anatomical landmark is identified (210) on the 3D model (130), and a preserved view of the 3D model (130) is registered in an invasive pattern system (212).例文帳に追加

３Ｄモデル（１３０）上で１以上の左心房解剖学的標認点を識別して（２１０）、３Ｄモデル（１３０）の保存ビューを侵襲型システムに登録する（２１２）。 - 特許庁

To provide a disk drive which is insensitive to a positioning defect of a previously recorded servo field and has a magnetic recording disk with a servo pattern and a servo decoding system.例文帳に追加

半径方向のトラック密度および円周方向の線密度が増加すれにつれて、サーボフィールドを円周方向に正確に位置合わせすることは困難になる。 - 特許庁

A base station device 1 has a switch 12, a transmission and reception system part 13, a switch controller 15, an RSSI measurement part 32, and a pattern decision part 34.例文帳に追加

本実施形態における基地局装置１は、スイッチ１２、送受信系統部１３、スイッチ制御部１５、ＲＳＳＩ測定部３２およびパターン決定部３４を備えた。 - 特許庁

To provide a printing method which enables the correct addition of a required correction to the first printing pattern even if a position deviation occurs at a printed matter, and a printing system.例文帳に追加

印刷物に位置ズレが生じた場合でも、第１の印刷パターンに正確に修正を加えることができる印刷方法および印刷システムを提供すること。 - 特許庁

By displaying the situation of the movement of the object OH inside the world coordinate system based on the view point SP, the pattern of a background moved on a display screen is displayed.例文帳に追加

このワールド座標系内でのオブジェクトＯＨの移動の様子を視点ＳＰに基づいて表示することにより、表示画面上で移動する背景の模様を表示する。 - 特許庁

Observation devices 3 and 4 observe the pattern for measurement 15 projected on the surface of the work to be machined 20 via the reflection mirror of the deflection optical system.例文帳に追加

観測装置３，４が、加工対象物２０の表面上に映し出された前記計量用パターン１５を、偏向光学系の反射鏡を介して観測する。 - 特許庁

To provide a system and method for exposure by which a fine pattern can be transferred without lowering a beam current, and to provide a stencil mask and a method of manufacturing semiconductor device.例文帳に追加

ビーム電流を下げることなく、微細なパターンを転写することができる露光装置、露光方法、ステンシルマスク、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a face pattern analysis system analyzing a received face photographic image, and efficiently determining to which of a plurality of preclassified face patterns does the face photographic image belong.例文帳に追加

受信した顔写真画像を分析して、あらかじめ分類されている複数の顔パターンのどれに属するかを効率的に決定できる、顔パターン分析システムを提供する。 - 特許庁

In this case, the light emitting position of the phosphors are calculated by calculating a reference position of a coordinate system for each measurement pattern and taking this reference position as an origin (step #6).例文帳に追加

この際、発光螢光体の発光位置は測定パターン毎に座標系の基準位置を算出し、この基準位置を原点として算出される（ステップ＃６）。 - 特許庁

To provide a printed circuit board capable of improving a bonding force between a circuit pattern formed in an inkjet system and an insulating layer, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

インクジェット方式で形成される回路パターンと絶縁層との間の接着力を向上させることができる印刷回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The exposure equipment EX projects a pattern of an original plate onto a substrate held by a substrate stage having a top plate 21 through the intermediary of a projection optical system, thus exposing the substrate.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、天板２１を有する基板ステージによって保持された基板に投影光学系を介して原版のパターンを投影して該基板を露光する。 - 特許庁

To provide an optical transmission system without the need for using a band-pass filter and a PLL circuit to extract a received clock and not vulnerable to the effect of a transmitted signal pattern.例文帳に追加

受信クロックの抽出にバンドパスフィルタやＰＬＬ回路を使用することなく且つ伝送する信号パターンに影響を受けない光伝送装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cogeneration system capable of being efficiently operated without risk about out-of hot water even to a customer whose hot water use pattern differs from day to day.例文帳に追加

給湯使用パターンが日によって変化する需要家に対しても、湯切れの心配がなく、かつ効率的な運転実現を可能とするコージェネレーション・システムを提供する。 - 特許庁

To provide a projection exposure method of exposing a radiation-sensitive substrate by at least one image of a mask pattern, to provide a projection exposure system, and to provide a projection objective.例文帳に追加

放射線感応基板をマスクパターンの少なくとも１つの像によって露光する投影露光方法、投影露光システム、及び投影対物系を提供する。 - 特許庁

To provide a method for compensating for the effect of flare due to stray radiation in use of a projection system of lithographic apparatus to produce a pattern image on an image plane with a patterned radiation beam.例文帳に追加

パターン化放射線ビームで像面にパターン像を生成するために、リソグラフィ装置の投影システムの迷光放射線によるフレアの効果を補償する方法を提供する。 - 特許庁

A method is provided for manufacturing the optical component to be used in the exposure apparatus which exposes a substrate by projecting a pattern of a reticle on the substrate via a projection optical system.例文帳に追加

投影光学系を介してレチクルのパターンを基板に投影して該基板を露光する露光装置において使用される光学部品を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lighting system with a special lighting effect capable of presenting a decoration pattern using light with close-to-nature variations on an irradiation surface such as a screen.例文帳に追加

スクリーン等の照射面上に光による自然に近い変化をもたせた装飾模様を出現できる特殊照明効果を有する照明装置を提供する。 - 特許庁

To provide a file system which enables it to improve tamper resistant characteristics in a case that the data with which a single value or single pattern is repeated are set as object of encryption.例文帳に追加

単一の値またはパターンが繰り返されるデータが暗号化の対象となる場合の耐タンパ性を向上させることを可能としたファイルシステムを提供する。 - 特許庁

Accordingly, this method can provide a high quality image even when the desired printing pattern has a critical size approaching to a resolving power of the lithographic system.例文帳に追加

従って本方法は、所望の印刷パターンがリソグラフィ・システムの分解能限界に近づく臨界寸法を有する場合にも、高品質イメージを提供することができる。 - 特許庁

METHOD FOR EVALUATING ABERRATION OF CHARGED PARTICLE BEAM OPTICAL SYSTEM, METHOD FOR ADJUSTING CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSING METHOD, METHOD FOR EVALUATING ASTIGMATISM AND EVALUATION PATTERN例文帳に追加

荷電粒子線光学系の収差評価方法、荷電粒子線装置調整方法、荷電粒子線露光方法、非点収差評価方法及び評価用パターン - 特許庁

An erect image of the wiring pattern of the mask is projected by a projection optical system 9 onto the wiring board 20 synchronously moving with the mask on a wiring board stage 10.例文帳に追加

そして、マスクの配線パターンの正立像が、投影光学系９によって配線基板ステージ１０上でマスクと同期して移動している配線基板２０に投影される。 - 特許庁

To provide an exposure system and an exposure method realizing at least one of enhancement of the degree of freedom in pattern design for each layer and enhancement of productivity of the device.例文帳に追加

レイヤ毎のパターン設計上の自由度の向上及びデバイスの生産性の向上の少なくとも一方を実現する露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

The exposure system is provided with the main unit 150 of an exposure device to expose a substrate with a pattern and a light source device to provide an exposing light to the main unit 150 thereof.例文帳に追加

露光システムは、基板をパターンで露光する露光装置本体１５０と、露光装置本体１５０に露光光を提供する光源装置１００とを備える。 - 特許庁

The method of adjusting the aligner has a projection optical system (PL) for forming the pattern image of a reticle (R) illuminated by pulse emission laser beams on a photosensitive substrate (W).例文帳に追加

パルス発光のレーザー光により照明されたレチクル（Ｒ）のパターン像を感光性基板（Ｗ）に形成する投影光学系（ＰＬ）を備えた露光装置の調整方法。 - 特許庁

The first test module is configured to provide a first test pattern to the second test module on the interconnect in response to a first signal from the operating system.例文帳に追加

第１のテストモジュールは、構成されて、オペレーティングシステムからの第１の信号に応答して、第１のテストパターンを、相互接続部上の第２のテストモジュールに供給する。 - 特許庁

The projected pattern images of respective shot regions are measured by a photoelectric detector 51 and converted into image pickup signals through photoelectric conversion and the signals are transmitted to a main control system 70.例文帳に追加

光電検出装置５１により露光されたパターン像を各ショット領域毎に計測し、撮像信号に光電変換して主制御系７０に送る。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for efficiently recording /reproducing optical information by using at least two concentric patterns for a servo pattern in a holographic digital data storage system.例文帳に追加

ホログラフィーデジタルデータ記憶システムに少なくとも２つの同心円パターンをサーボパターンとして用い、光学情報を効率的に記録／再生する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure system and electron lens, which focus a plurality of electron beams separately and thereby makes a wafer to be exposed on the electron beams to accurately form an accurate pattern.例文帳に追加

複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束させ、精度よくウェハにパターンを露光することができる電子ビーム露光装置及び電子レンズを提供する。 - 特許庁

Furthermore, in a delay adjustment operation of this system, the reception node 2-0 detects the packet synchronization pattern sent from the transmission node 1-0 to detect a packet head reception timing.例文帳に追加

遅延調整動作では送信ノード１−０から送られたパケット同期パターンを受信ノード２−０で検出し、パケットの先頭受信タイミングを検出する。 - 特許庁

To provide a system and method for electron beam exposure by which a pattern can be exposed on a wafer with accuracy, by correcting the irradiation time of an electron beam upon the wafer.例文帳に追加

ウェハに対する電子ビームの照射時間を補正し、精度よくウェハにパターンを露光することができる電子ビーム露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁