| 意味 | 例文 |
pattern-systemの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3675件
The work supporting manipulator system using a biological signal comprises a biological signal input section, a characteristic pattern extraction section, a pattern identification section, an identification and judgment section, a work selection section, work action data base section, a work supporting manipulator, a feedback section and a parameter storage section.例文帳に追加
生体信号を利用した作業支援マニピュレータシステムは、生体信号入力部と、特徴パターン抽出処理部と、パターン識別部と、識別判定部と、作業選択部と、作業動作データべース部と、作業支援マニピュレータと、フィードバック部と、パラメータ記憶部とから構成されている。 - 特許庁
The antenna system 1 is provided with: an antenna board 21 comprising a separator 23, and solid-state electrolytic layers 24a, 24b formed on both sides of the separator 23; an antenna pattern 22a formed on the solid-state electrolytic layer 24a; and an antenna pattern 22b formed on the solid-state electrolytic layer 24b.例文帳に追加
アンテナ装置1は、セパレータ23およびこのセパレータ23の両側に形成された固体電解質層24a,24bとからなるアンテナ基板21と、固体電解質24a上に形成されたアンテナパターン22aと、固体電解質層24b上に形成されたアンテナパターン22bとを備える。 - 特許庁
The pattern manufacturing system comprises measuring the copper thickness of a copper foil formed on the substrate by a copper thickness measuring part 9 on each substrate when forming a circuit pattern on the substrate, finding the exposure correction amount corresponding to the measured copper thickness from the correction table, and correcting an exposure amount by the found exposure correction amount.例文帳に追加
基板に回路パターンを形成する際には、基板毎に銅厚測定部9により基板上に形成された銅箔の銅厚を測定し、測定した銅厚に応じた露光補正量を補正テーブルから求め、求めた露光補正量で露光量を補正する。 - 特許庁
In a method for irradiating the mask pattern of a photomask with light from an exposure light source and projection-aligning the image of the mask pattern on the surface to be exposed of a substrate to be treated by a projection optical system, the photomask is housed in a casing and scanned to be projection-aligned together with this housing.例文帳に追加
露光光源からの光でフォトマスクのマスクパターンを照射して、マスクパターンの像を、投影光学系により被処理基板の被露光面に投影露光する方法において、前記フォトマスクを筐体に収容し、この筐体ごと走査して投影露光を行う。 - 特許庁
Control patterns of position of the operation knob 2 and operation torque at the position of the support system include: a pattern to control operation torque to be applied on the operation knob 2 in two steps divided for light torque and heavy torque; and a control pattern to change operation torque to be applied on the operation knob 2 depending on position of the operation knob 2.例文帳に追加
操作ツマミ2のポジションと、このポジションにおける操作トルクの制御パターンとして、操作ツマミ2にかかる操作トルクを軽重2段階に分けて制御するパターンと、操作ツマミ2にかかる操作トルクを、操作ツマミ2のポジションに応じて可変にする制御パターンとがある。 - 特許庁
This pattern input system 1 for an apparel CAD is provided with a transparent sheet 11 where a lattice is plotted on a surface, an image pickup device 12 for picking up a pattern on which the transparent sheet 11 is placed, and an image processor 13 for processing an image picked up by the image pickup device 12.例文帳に追加
アパレルCAD用パターン入力システム1は、表面に格子が描画された透明シート11と、透明シート11を載置した状態のパターンを撮像する撮像装置12と、撮像装置12で撮像した画像を処理する画像処理装置13とを備える。 - 特許庁
The Pockels cell is used to correct polarization of the radiation beam, and the array of individually controllable reflective elements is used to give a pupil plane distribution to the radiation beam, and a patterning device is used to give a pattern to the radiation beam, and a projection system is used to project the radiation beam having had the pattern given thereto, to the substrate.例文帳に追加
ポッケルスセルを使用して放射ビームの偏光を修正し、個別的に制御可能な素子のアレイを使用して放射ビームに瞳面分布を与え、パターニングデバイスを使用して放射ビームにパターンを付与し、投影系を使用して、パターンが付与された放射ビームを基板に投影する。 - 特許庁
This surface shape measuring instrument of the present invention is provided with the imaging element, an optical system, having a reference face and arranged to form an interference fringe pattern on an imaging face of the imaging element, and a calculation part for calculating a surface shape of a measuring object, based on the interference fringe pattern.例文帳に追加
本発明の表面形状測定装置は、撮像素子と、参照面を有し、干渉縞パターンを撮像素子の撮像面に形成するように配置された光学系と、干渉縞パターンに基づいて前記測定対象物の表面形状を算出する算出部と、を備える。 - 特許庁
The projection optical system for exposing a photosensitive surface by projecting the image of the pattern surface on an original plate M to the photosensitive surface on a substrate P satisfies the conditions L/Ei<7 where L: the distance on the optical axis from the pattern surface and Ei: the diameter of the exposure region where the photosensitive surface is exposed.例文帳に追加
原版M上のパターン面の像を、基板P上の感光面に投影して感光面を露光する投影光学系において、L:パターン面から感光面までの光軸上の距離、Ei:感光面を露光する露光領域の直径、とするとき、L/Ei<7なる条件を満足する。 - 特許庁
To enable a system to efficiently estimate a travel speed pattern, without referring to enormous past travel data, when estimating a travel speed pattern, based on the past travel data, and to prevent the estimation accuracy from dropping, due to the decrease in the available past data.例文帳に追加
過去の走行データに基づいて走行速度パターンを推定するときに、過去の膨大な走行データを参照することなく効率的に走行速度パターンを推定することができ、かつ、利用することができる過去のデータの数が少なくなって推定の精度が低下してしまうことがないようにする。 - 特許庁
Base stations 11, 12 divide the system band into a plurality of bands using the division pattern determined by the division pattern server 10 and allocate the bands, as pilot transmission frequency bands, to mobile stations 15-20 accommodated in the cells 13, 14 constituting the base stations 11, 12.例文帳に追加
基地局11,12は、分割パターンサーバ10によって決定された分割パターンを用いてシステム帯域を複数の帯域に分割し、基地局11,12の構成するセル13,14で収容する移動局15〜20に対して、帯域をパイロット送信周波数帯域として割り当てる。 - 特許庁
To provide a low-cost semiconductor test system which is application- specific where various types of test devices are made into modules which are coupled in a plurality of numbers while an algorithmic pattern generating(ALPG) module is mounted for generating an algorithmic pattern specific to the memory of a device which is to be tested.例文帳に追加
各種の異なるタイプの試験装置をモジュール化してそれらの複数個を組み合わせ、かつ被試験デバイスのメモリに固有のアルゴリズミックパターンを発生するためのアルゴリズミックパターン発生(ALPG)モジュールを搭載し、低コストでアプリケーションスペシフィックに構成した半導体テストシステムを提供する。 - 特許庁
A conversion filter generation section 102 of the voice pattern conversion/dubbing system 100 generates a voice pattern conversion filter 1 by learning voice data 3 for a filter uttered and collected in English by an actor 2 and voice data 5 for a filter uttered and collected in English by a voice actor 4.例文帳に追加
声質変換吹替システム100の変換フィルタ作成部102は、俳優2により英語で発声され収集されたフィルタ用音声データ3、及び、声優4により英語で発声された収集されたフィルタ用音声データ5を学習し、声質変換フィルタ1を作成する。 - 特許庁
In the electronic bulletin board system 100, by providing a category classification part 22 for automatically classifying carrying information into categories and a category classification pattern storage part 31 for storing the category classification pattern of the carrying information, the categories are automatically sorted and the registration time is shortened.例文帳に追加
電子掲示板システム100において,掲載情報を自動的にカテゴリ別に分類するカテゴリ分類部22と掲載情報のカテゴリ分類パターンを記憶するカテゴリ分類パターン記憶部31を備えることにより,カテゴリの自動振り分けが可能になり登録時間の短縮が可能となる。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for accurately measuring the trial of the cuff of a fine pattern, and also to provide a semiconductor device manufacturing control system for deciding the processing accuracy on the basis of shape information, such as the height of pattern, tapering angle, amount of trail, and roughness.例文帳に追加
微細パターンのボトム部の裾引き形状を正確に計測する方法および計測装置を提供するとともに、パターン高さ、テーパー角、裾引き量およびラフネス等の形状情報に基づいて加工精度を判定する半導体デバイスの製造管理システムを提供する。 - 特許庁
Therefore, this system does not require man-hours of extracting only the net list from the subject of verification, the man-hours of making the test pattern, the man-hours of analyzing whether the subject of verification is correctly connected from the output pattern, and others, so that this can confirm propriety of the connection between the macros, in a shorter time.例文帳に追加
よって検証対象からネットリストだけを抽出する工数や、テストパタンを作成する工数や、出力パタンから検証対象が正しく接続されているか解析する工数等を必要としないので、より短時間でマクロ間の接続の正当性が確認できる。 - 特許庁
In a computer system, the user keeps an password image 101 and a designation order 107 in mind, where the password image 101 is composed of an image pattern 103 which is not a character string of a registered password itself and can be formed by a keyboard layout, and an image sequence 105 which shows a key input order in forming the image pattern.例文帳に追加
ユーザは、登録パスワードの文字列そのものではなく、キーボードのキー配列で形成可能なイメージ・パターン103と、イメージ・パターンを形成するときのキーの入力順序を表すイメージ・シーケンス105からなるパスワード・イメージ101、および指定順位107を記憶する。 - 特許庁
In this stress measuring device 1, reflected light of light irradiated to a substrate 9 via an objective lens 457 is received by a light-shielding pattern imaging part 43, and thereby an image of a light shielding pattern 453a arranged on an aperture diaphragm part 453 of an optical system 45 is acquired.例文帳に追加
応力測定装置1では、対物レンズ457を介して基板9に照射した光の反射光を遮光パターン撮像部43により受光することにより、光学系45の開口絞り部453に配置された遮光パターン453aの像が取得される。 - 特許庁
Afterwards, the transcription substrate and a substrate 14 are positioned by an alignment system 28, and the pattern of the organic light emitting layer 4a is transcribed by heating the surface of the transcription substrate 12 at the side that the pattern of the organic light emitting layer 4a is not formed, at a transcription part 23 by a heater 27.例文帳に追加
その後、アライメント機構28により転写基板と基板14との位置合わせを行い、転写部23にて転写基板12を有機発光層4aのパターンが形成された面と反対側の面からヒータ27によって加熱して、基板14上に有機発光層4aのパターンを転写する。 - 特許庁
For switching, since a switching pattern is stored in a control memory inside the optical switch device 20 and the switching pattern is read to switch an optical switch, the need of controlling the optical switch device from the outside in synchronism with the changeover is eliminated and burdens on the system for executing control are small.例文帳に追加
切替えは光スイッチ装置20内の制御メモリに切替えパターンを記憶しておき、その切替えパターンを読み出して光スイッチを切り替えるので、切替えに同期して外部から光スイッチ装置を制御する必要がなく、制御するためのシステムの負担が小さい。 - 特許庁
In the scanning exposure method for scanning and exposing an image of a pattern formed in a reticle on a substrate via a projection optical system, the reticle pattern surface is measured in parallel with other inspection process which scans a reticle stage and a substrate stage in the same stage driving state as in exposure.例文帳に追加
レチクルに形成されたパターンの像を投影光学系を介して基板上に走査露光する走査露光方法において、レチクルステージ及び基板ステージを露光時と同じステージ駆動状態で走査させる他の検査工程と並行してレチクルパターン面測定を行うことを特徴とする。 - 特許庁
This handwritten data input system is provided with a sheet 2 equipped with a pattern, a pen type input device 1 having a detection means which detects the partial area of the pattern and a processor 3 which inputs handwriting data based on the position of the pen type input device 1.例文帳に追加
本発明にかかる手書きデータ入力システムはパターンが設けられた用紙2と、パターンの一部の領域を検出する検出手段を有するペン型入力装置1と、ペン型入力装置1の位置に基づいた筆跡データが入力される処理装置3とを備えている。 - 特許庁
Further, the system is provided with scanning adjustment means from 75 through 79 which automatically adjust a resonant scanner 14a and a galvanoscanner 14b for scanning the surface of the specimen with light so that the two-dimensional pattern of the confocal image coincides with the two-dimensional pattern of the color image when the two-dimensional test patter is picked up.例文帳に追加
また、二次元テストパターンを撮像したときに、共焦点画像の二次元パターンがカラー画像の二次元パターンに一致するように、試料表面を光で走査するためのレゾナントスキャナー14a及びガルバノスキャナー14bの自動調整を行う走査調整手段75〜79を備えている。 - 特許庁
A system controller 59 selects a physiognomy pattern closest to the likeness from an EEPROM 60, reads the result of prophecy attached to the physiognomy pattern and stores the result to a prophecy result folder in the built-in memory 61 with a file name associated with the corresponding image data.例文帳に追加
システムコントローラ59は、似顔絵に最も近い人相パターンをEEPROM60から選択し、この人相パターンに添付されている占い判定結果を読み出し、対応する画像データに関連付けたファイル名で内蔵メモリ61の占い判定結果フォルダに格納する。 - 特許庁
To provide a forming method of a new instep producing paper pattern and a utilization system of shoes for a bride obtained from the instep producing paper pattern of the method which can speedily cope with various desires and by which the shoes obtained based on its data can be utilized as a wedding token.例文帳に追加
多様な要望に迅速に対応可能であって、且つそのデーターに基づいて得られた靴を結婚式の記念品として利用するようにした、新規な製甲用紙型の形成方法、およびその方法の製甲用紙型から得られた新婦用靴の利用システムを提供する。 - 特許庁
In a photolithography system comprising a host computer 10, a drawing controller 20, and photolithography equipment 30, the host computer 10 converts drawing pattern data, vector data such as CAD data or the like, into image data, and transmits the image data with pattern data to the drawing controller 20 arranged in a distant place.例文帳に追加
ホストコンピュータ10、描画制御部20、描画装置30を備えた描画システムにおいて、ホストコンピュータ10がCADデータなどのベクタデータである描画パターンデータを画像データに変換し、離れた場所に配置された描画制御部20へパターンデータとともに画像データを送信する。 - 特許庁
The aligner has the projection optical system which projects a pattern formed on a mask on a workpiece and has a ≥0.7 numerical aperture on the side of the workpiece and a shading plate which shades an area outside an area where the pattern is projected on the workpiece during the projection.例文帳に追加
マスクに形成されたパターンを被処理体に投影する該被処理体側の開口数が0.7以上である投影光学系と、前期投影時に前記被処理体上の前記パターンが投影される領域の外部の領域を遮蔽する遮蔽板とを有する露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide inexpensive copy forgery preventing paper having a hidden pattern indiscernible by the naked eye and capable of certainly developing the hidden pattern even if copied in any density by a copier of any copy system to clear the difference between the original paper and a copy.例文帳に追加
本発明は、隠し模様の肉眼での識別が不可能で、どのような濃淡および複写方式のコピー機で複写しても確実に隠し模様が現出して本券用紙と複写物との差異を明確にすることができる、低コストのコピー偽造防止用紙を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a data recording medium that is compatible with versions and rating modes that uses a reproduction system to select a reproduction channel of audio data corresponding to a reproduction pattern of image data thereby reproducing the audio data and the image data corresponding to the reproduction pattern.例文帳に追加
複数のバージョンやレイティングモードに対応し、再生系において画像データの再生パターンに対応させた音声データの再生チャンネルを選択して上記再生パターンに対応した音声データと画像データを再生可能にする複数のバージョンやレイティングモードに対応するデータ記録媒体を提供する。 - 特許庁
To provide an aligner which prevents the mixing of atmosphere from outside into a substitution space upon exchanging and adjusting a component in the optical system of the exposure device for transferring the mask pattern of a mask with a transferring pattern, onto a photoreceptor by illumination light for exposure.例文帳に追加
転写用パターンが形成されたマスクのマスクパターンを露光用の照明光により感光体上に転写する露光装置の光学系において、部品交換及び調整を行う際に、置換空間に外部から大気の混入を防止する露光装置を提供する。 - 特許庁
To provide a misconnection monitoring system that a primary time switch of a main signal control signal inserts a test pattern, a monitor function is provided to each switch panel so as to monitor the test pattern between the switch panels, and each switch panel monitors the test pattern among them to particularize the position at which misconnection takes place.例文帳に追加
本発明は誤接続監視システムに関し、主信号制御信号の1次側時間スイッチからテストパターンの挿入を行ない、各スイッチ盤に監視機能を持たせることで、一連の接続の正当性を確認すると同時に、各スイッチ盤間でテストパターンを監視することで誤接続の発生した箇所を特定することができる誤接続監視システムを提供することを目的としている。 - 特許庁
In this projection aligner which includes optical systems 1 and 2 for illuminating a mask 3, having a prescribed pattern and an optical system 8 which has a prescribed numerical aperture for projecting the image of the pattern on a substrate 9, the aligner has units PC and AS for causing the numerical aperture to vary with the pattern image projected on the substrate.例文帳に追加
所定のパターンを有するマスク3を照明するための照明光学系1、2と、所定の開口数を有し該マスク上のパターンの像を基板9上に投影する投影光学系8とを有する投影露光装置において、前記パターン像を前記基板に露光している状態において前記開口数を変化させる開口数可変部PC,ASを有する。 - 特許庁
A pattern observation apparatus or a recipe preparation apparatus connected to the pattern observation apparatus has a recipe preparation section for setting imaging conditions of an image so as to pick up the image, based on wiring information including a failure position input from a failure analysis system connected with the pattern observation apparatus through a network, along wiring including the failure position.例文帳に追加
パターン観察装置、または前記パターン観察装置に接続されたレシピ作成装置は、前記パターン観察装置にネットワークを介して接続された故障解析システムから入力された故障位置を含む配線情報に基づいて、前記故障位置を含む配線に沿って画像が撮像されるように前記画像の撮像条件を設定するレシピ作成部を有することを特徴とする。 - 特許庁
The system control device 40 is stored with data on correlation between a processing condition of the etching processing and a removal amount of the pattern structure on the wafer surface by the etching processing, and sets the processing condition of the etching processing based upon the measurement result of the size of the pattern structure on the wafer surface and the data on the correlation, so that the pattern structure on the wafer surface after the etching processing has a desired size.例文帳に追加
システム制御装置40は、エッチング処理時の処理条件とエッチング処理によるウェハ表面のパターン構造の削れ量との相関データが記憶され、ウェハ表面のパターン構造の寸法の測定結果と相関データに基づいて、エッチング処理後のウェハ表面のパターン構造が所望の寸法になるように、エッチング処理時の処理条件を設定する。 - 特許庁
To provide an auto focus (AF) system capable of setting a range for capturing a reference pattern image in pattern matching to an appropriate range by extracting the image of a target subject by the extraction of a difference between the photographing images of front and rear frames in an automatic follow-up function for following the target subject brought into focus by AF on an image plane by the pattern matching.例文帳に追加
オートフォーカス(AF)によりピントを合わせる対象被写体をパターンマッチングにより画面上で追尾する自動追尾機能において、前後フレームの撮影画像の差分抽出によって対象被写体の画像を抽出することによってパターンマッチングにおける基準パターン画像の取込範囲を適切な範囲に設定することができるオートフォーカスシステムを提供する。 - 特許庁
In an instrument for irradiating an eyeground with a specific pattern, guiding reflected light therefrom to a photodetective element by a photodetective optical system incorporated in the instrument and measuring the refractive power distribution of the human eye from a reflection pattern obtained on the element, two kinds of multiplex ring patterns where a specific pattern repeats transmission/shielding alternately as multiplex ring patterns form images on the cornea and on the eyeground.例文帳に追加
眼底に特定パターンを照射し、そこからの反射光を装置内蔵の受光光学系で受光素子に導き、素子上で得られた反射パターンから人眼の屈折力を測定する装置において、特定パターンが交互に透過/遮光を繰り返す多重リングパターンであり、角膜上と眼底それぞれに結像する2種類であることを特長とする。 - 特許庁
The processing system having organization information of sample design and dress pattern information provided at the retail store and to create organization information and dress pattern information according to a body type of the purchaser based on the body type data, the organization information and the pattern information to be transmitted from the retail store is preliminarily equipped in hardware such as a personal computer connected with the open network provided at the factory.例文帳に追加
小売店舗に備えつけたサンプルデザインの編立情報及び型紙情報を有する処理システムであり、小売店舗から送られてくる体型データとこの編立情報・型紙情報に基づき、購入者の体型に応じた編立情報・型紙情報を作成する処理システムを、工場に備えたオープンネットワークと接続されたパーソナルコンピューター等のハードウエアに予め装備しておく。 - 特許庁
To provide an operation pattern creation apparatus and a method therefor as well as a program for creating a suitable operation pattern from the viewpoint of running cost regarding heat load patterns provided as a condition, in a heat source system including a plurality of models of heat source machines and creating an operation pattern further reduced in running cost by optimizing electric power demand.例文帳に追加
複数機種の熱源機を備える熱源システムにおいて、条件として与えられた熱負荷パターンに対し、ランニングコストの観点から好適な運転パターンを作成するとともに、電力デマンドの最適化を図ることにより、ランニングコストをより一層削減した運転パターンを作成する運転パターン作成装置及びその方法並びにプログラムを提供することを目的とする。 - 特許庁
An information processing system 10 includes: a screen 4 formed with a coded pattern indicating position coordinates; an electronic pen 1 reading the coded pattern; a computer device 2 receiving information related to the coded pattern transmitted from the electronic pen 1 and processing according to the information; and a projector 3 receiving image signals from the computer device 2 and projecting an image to the screen 4.例文帳に追加
情報処理システム10は、位置座標を示すコード化パターンが形成されたスクリーン4と、コード化パターンを読み取る電子ペン1と、電子ペン1から送信されたコード化パターンに関する情報を受信して、当該情報に応じた処理を行うコンピュータ装置2と、コンピュータ装置2からの画像信号を受信して、スクリーン4に画像を投影するプロジェクター3とを備える。 - 特許庁
When data is recorded at high density while a fundamental harmonic frequency of a shortest wavelength pattern of encoded data recorded in a user data area equal to or more than an optical diffraction limit in an optical disk recording and playback system, a preamble pattern and a postamble pattern are set so that all of them have fundamental harmonic frequencies within the optical diffraction limit.例文帳に追加
ユーザデータ領域に記録される符号化データの最短波長パターンの基本調波周波数が、光ディスク記録再生系における光学的回折限界以上になる状態でデータ記録が行われる高密度記録を実行する場合に、プリアンブルパターン及びポストアンブルパターンについては、そのすべてが光学的回折限界未満の基本調波周波数を持つことになるパターンとする。 - 特許庁
To provide a character control system on a screen which enables a user to easily perform operation without being bound to circumstances by moving the system in user's hand in accordance with a prescribed pattern to easily control expressions, complicated operations, etc., of characters on the screen.例文帳に追加
ユーザーが手に持って所定のパターンで動かすことにより容易にスクリーン上のキャラクタの表情や複雑な動作等の制御が行え、ユーザーを環境に縛らずに楽に操作ができるスクリーン上のキャラクター制御システムを提供する。 - 特許庁
The BIST control part transmits, in the test mode, control data, a command signal, test pattern data and a test address signal to the BIST logic circuit through the system bus to test the IP block, and compresses and stores the test result data received through the system bus.例文帳に追加
BISTコントロール部は、テストモードで、システムバスを介してBISTロジック回路に制御データ、コマンド信号、テストパターンデータ、及びテストアドレス信号を伝送してIPブロックをテストし、システムバスを介して受信されるテスト結果データを圧縮して保存する。 - 特許庁
To provide a lithographic device comprising an illumination system that supplies radiation beams, an array of individually controllable elements that pattern the beams and a projection system that guides the patterned beams to a substrate supported on a substrate table from underneath, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加
放射線のビームを供給する照明系、ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイ、及びパターン化されたビームを基板テーブル上に支持された基板に導く投影系を備えたリソグラフィ装置及び方法を提供すること - 特許庁
An aligner 1 includes a stage for mounting a wafer 31, coated with a resist sensitive for a charged particle beam and a light beam, and a charged particle beam optical system 3 and a light beam optical system 5 for forming a pattern on the wafer 31.例文帳に追加
本発明の露光装置1は、荷電粒子ビーム及び光の両方に感度を有するレジストを塗布したウエハ31を載置するステージ35と、同ウエハ上にパターンを形成するための荷電粒子ビーム光学系3及び光光学系5を具備する。 - 特許庁
A non-polarizing beam splitter 200 is used in the separation of the light paths of an illumination system and an image forming system and a polarizer 14 and a λ/4 plate 17 are combined to perform circular polarization illumination to obtain MTF characteristics not relying on the azimuth of the pattern on the sample 1.例文帳に追加
照明系と結像系の光路の分離に無偏光ビームスプリッタ200を用い、偏光子14とλ/4板17を組み合わせて円偏光照明することで試料1上のパターンの方位によらないMTF特性を得る。 - 特許庁
To solve the problem of an image signal processing apparatus obtaining a high vision system image signal by arranging three solid sate image sensors for standard television system image signal relatively in a prescribed pattern that the horizontal resolution and vertical resolution can not be enhanced sufficiently.例文帳に追加
3つの標準テレビジョン方式画像信号用固体撮像素子を、それぞれ所定の相対配置にしてハイビジョン方式画像信号を得る画像信号処理装置では、水平解像度及び垂直解像度の向上が十分ではない。 - 特許庁
The exposure device 10 includes the wafer stage 16 on which a wafer is mounted, the optical system unit 18 which projects a pattern of a photomask on the wafer on the wafer stage 16, a frame 20 which supports the wafer stage 16 and optical system unit 18, and a liquid supply means 35.例文帳に追加
ウエハが載置されるウエハステージ16と、フォトマスクのパターンをウエハステージ16上のウエハに投影する光学系ユニット18と、ウエハステージ16と光学系ユニット18を支持するフレーム20と、流体供給手段35を有する露光装置10。 - 特許庁
When the SIM card is available (at step S1), the mobile wireless terminal determines whether or not time based on the authentication system startup pattern has elapsed (at step S2), and when the time has elapsed, the personal authentication system is started up (at step S3).例文帳に追加
SIMカードが使用可能状態であると(ステップS1)、移動体無線端末は上記の認証システム起動パターンによる時間経過したか否か判定し(ステップS2)、この時間経過した時点で個人認証システムを起動する(ステップS3)。 - 特許庁
To provide a lithography device including an illumination system for supplying radiation beams, the array of elements to be individually controlled to pattern the beams, and a projection system for guiding the patterned beams to a substrate supported on a substrate table; and to provide a method therefor.例文帳に追加
放射線のビームを供給する照明系、ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイ、及びパターン化されたビームを基板テーブル上に支持された基板に導く投影系を備えたリソグラフィ装置及び方法を提供すること - 特許庁
A pattern forming system has a droplet ejecting device 20 for arranging a liquid material on a strip substrate 11 by the droplet ejecting system and an atmospheric pressure control device 22 for controlling the atmospheric pressure of the treating space of the droplet ejecting device 20 higher than that of an adjacent space.例文帳に追加
液滴吐出方式により帯状基板11に液体材料を配置する液滴吐出装置20と、液滴吐出装置20の処理空間の気圧を隣接空間に対して高く制御する気圧制御装置22とを有する。 - 特許庁
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