「patterning equipment」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

APPARATUS AND METHOD FOR PATTERNING FUNCTIONAL FILM, ELECTROMAGNETIC WAVE IRRADIATOR, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法、電磁波照射装置、および電子機器 - 特許庁

PATTERNING METHOD, MASK SET, ELECTRO-OPTICAL APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRO-OPTICAL APPARATUS, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

パターニング方法、マスクセット、電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM SOLAR BATTERY, AND EQUIPMENT OF PROCESSING THROUGH HOLE AND EQUIPMENT OF PATTERNING THE SAME BY POWDER JETTING METHOD FOR THIN-FILM SUBSTRATE例文帳に追加

薄膜太陽電池の製造方法ならびに粉体噴射法による薄膜基板貫通孔加工装置およびパターニング装置 - 特許庁

The equipment 20 for patterning a functional film comprises a liquid drop ejection head 23, and a laser light irradiation head 24.例文帳に追加

機能性膜パターン形成装置２０は、液滴吐出ヘッド２３とレーザ光照射ヘッド２４を備える。 - 特許庁

A substrate or a patterning device used for lithography equipment and a lithography device manufacturing method are presented.例文帳に追加

リソグラフィ装置に使用する基板またはパターニングデバイス、およびリソグラフィデバイス製造方法が提示される。 - 特許庁

To provide lithography equipment constituted such that a pattern is transferred on a substrate from a patterning device.例文帳に追加

パターニング装置から基板上にパターンを転写するように構成されたリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for performing accurate and wide ranged patterning without using high cost and high energy-consuming equipment in surface structure patterning of a biodegradable polymeric compound.例文帳に追加

生分解性高分子化合物の表面構造パターニングにおいて、高コスト、高エネルギー消費の機器を使用せずに、正確かつ広域のパターニングが可能な方法を提供する。 - 特許庁

To quickly and simply carry out patterning to cells and chemicals without using equipment that is complicated to operate, and is expensive.例文帳に追加

操作が煩雑でありかつ高価な機器を用いることなく、細胞や薬物のパターニングを、迅速かつ簡便に行う。 - 特許庁

PATTERNING METHOD, FILM FORMING METHOD, PATTERNING DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND COLOR FILTER, ELECTRO- OPTICAL DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, ELECTRON DEVICE AND MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

パターニング方法、膜形成方法、パターニング装置、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、電気光学装置とその製造方法、電子装置とその製造方法、及び電子機器 - 特許庁

To provide a novel patterning technology capable of inexpensively and easily patterning a piezoelectric film without need of expensive equipment, having excellent pattern shaping accuracy of the film and free from contamination during film formation.例文帳に追加

高価な装置を要することなく低コストに圧電体膜を容易にパターニングすることができ、圧電体膜のパターンの形状精度が良く、成膜時のコンタミネーションの問題がない新規なパターニング技術を提供する。 - 特許庁

To provide a touch panel to be used for various pieces of electronic equipment for achieving fine patterning or size reduction and also various operations.例文帳に追加

各種電子機器に用いられるタッチパネルに関し、ファインパターン化や小型化が図れ、多様な操作が可能なものを提供することを目的とする。 - 特許庁

To solve problems that a step of arraying a first mask step and a second mask step is not easy and a defect is caused when a double patterning step for overcoming the limit of resolution of exposure equipment is performed in a fine pattern forming method of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体素子の微細パターン形成方法に関し、露光装備の解像度の限界を克服するため二重パターニング(Double Patterning)工程を行うことにおいて、第1マスク工程と第2マスク工程を整列する工程が容易でなく不良が発生する。 - 特許庁

To provide a new patterning method which allows a wider range of options of materials, a film forming method, a patterning device, a film forming device, an electro-optical device and its manufacturing method, electronic equipment and an electronic device and its manufacturing method.例文帳に追加

材料の選択自由度を高くした新たなパターニング方法を提供するとともに、膜形成方法、パターニング装置、膜形成装置、電気光学装置とその製造方法、電子機器、及び電子装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optoelectronic device with which the number of patterning processes can be suppressed and the reduction of electric power consumption is made possible, a driving method for the optoelectronic device, and electronic equipment.例文帳に追加

パターニングの工程数を抑制するとともに、低消費電力化を図ることができる電気光学装置、電気光学装置の駆動方法及び電子機器を提供する。 - 特許庁

To form a minute pattern without replacement of exposure equipment without the need of a flattening step between the cell region and the peripheral circuit region for a patterning step.例文帳に追加

パターニング工程のためにセル領域及び周辺回路領域間の平坦化工程を省略することができ、露光装備の交替なしに微細パターンを形成する。 - 特許庁

Lithographic equipment which transfers a pattern from a patterning device to a substrate comprises an integrated after-exposure baking device which is so constituted as to expose the substrate to a set temperature cycle.例文帳に追加

パターニングデバイスから基板上へパターンを転写するリソグラフィ装置は、基板を既定の温度サイクルにさらすように構成された一体型露光後ベークデバイスを備える。 - 特許庁

To form hard mask patterns arrayed closely below resolution of exposure equipment by performing only linear patterning processes vertically and horizontally on a plane.例文帳に追加

平面上で垂直方向と水平方向にライン状のパターニング工程のみを行って露光装備の解像度以下に稠密に配列されたハードマスクパターンを形成すること。 - 特許庁

When a user takes a predetermined motion while the camera part of the mobile communication terminal equipment is active, the mobile communication terminal equipment recognizes the motion of the user, and performs a predetermined action according to a motion pattern by patterning the motion.例文帳に追加

移動通信端末機のカメラ部をアクティブにした状態において、ユーザーが所定のモーションを取ると、移動通信端末機は、ユーザーのモーションを認識し、そのモーションをパターン化してモーションパターンに応じる所定の動作を行う。 - 特許庁

To provide a new patterning method in which freedom of selection of the material is high and a film forming method, and a manufacturing method of an organic electroluminescent element using the above patterning method, and a manufacturing method of a color filter, and further an electro-optical device and its manufacturing method and an electronic equipment.例文帳に追加

特に材料の選択自由度を高くした新たなパターニング方法を提供するとともに、膜形成方法、前記パターニング方法を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法とカラーフィルタの製造方法、さらには電気光学装置とその製造方法、及び電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method for plating in which no resist is used and no influence is produced upon a pattern mask and which is capable of repeated use and requires relatively low equipment cost and can cope with the recent demand for finer pattern.例文帳に追加

レジストを用いることなしに、また、パターンマスクへの影響がなく、繰り返し使用が可能で設備コストが比較的小さく、微細なパターンに対応できるめっきのパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide lamination equipment for improving a lamination property and patterning in a laser thermal transfer process by improving a method for fixing a donor substrate and a substrate inside a thermal transfer device.例文帳に追加

熱転写装置内においてドナー基板と基板の固定方法を改善することによって、ラミネーション特性及びレーザ熱転写工程のパターニングを改善させることができるラミネーション装備を提供する。 - 特許庁

To enable a conventional vessel, which does not have vacuum adaptation to be used for a conveying vessel conveyed by accommodating a patterning means (mask or the like), which should be replaced in lithographic projection equipment, used in vacuum environment so that it is not contaminated with particles.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置で交換すべき、真空環境で使うパターニング手段（マスク等）を入れて粒子汚染されないように運ぶ搬送容器に従来の真空適合性のない容器を使えるようにすること。 - 特許庁

The lithography equipment comprises a vacuum housing for providing a vacuum environment for a supporting portion or a substrate table structured such that a patterning apparatus is supported, a projection system, or its arbitrary combination.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、パターン化機器を支持するように構築された支持部又は基板テーブル或いは投影システム若しくはそれらの任意の組合せに真空環境を提供するための真空ハウジングを備えている。 - 特許庁

To provide a deposited mask that allows high-accuracy patterning, and has a thin precise pattern mask, and its manufacturing method, and to provide organic electroluminescent equipment with a high numerical aperture by using the deposited mask.例文帳に追加

高精度のパターニングが可能な、薄い精密パターンマスクを有する蒸着マスクとその製造方法を提供すること、その蒸着マスクを使用することで開口率の高い有機電界発光装置を提供すること。 - 特許庁

The method and the equipment for lithography comprises an illumination system which supplies a beam of radiation, a patterning device which patterns the beam, and a projecting system which projects the patterned beam on the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィの方法及び装置は放射線のビームを供給する照明システム、ビームにパターン形成するパターン形成デバイス、及び、パターン形成されたビームを基板の目標部分上に投影する投影システムを含む。 - 特許庁

This lithography equipment comprises a radiation system, a second support for supporting a first support substrate supporting a patterning device for patterning a radiation beam, a projection system for projecting the patterned beam on the target of the substrate, and an interferometric measurement system for providing an interferometric measurement beam extending along an axis in an elongated volume of gas extending under the projection system.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射線システム、および放射線ビームをパターン化するパターニングデバイスを支持する第一支持体基板を支持する第二支持体、パターン化したビームを基板の目標部分に投影する投影システム、および投影システムの下に延在するガスの細長いボリューム内で、軸線に沿って延在する干渉計測定ビームを提供する干渉計測定システムを含む。 - 特許庁

A lithographic equipment includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁

And also, since the male terminal side member 4 and the female terminal side members 2, 3 are formed with the use of a patterning process and a plating process of resist, a fine connector capable of corresponding to further downsizing of a portable equipment or the like, or wiring connection at an IC level can be obtained.例文帳に追加

また、雄端子側部材４と雌端子側部材２、３とをレジストのパターニング工程とめっき工程とを用いて作成したので、携帯機器などの更なる小型化やＩＣレベルでの配線接続に対応可能な微細なコネクタを得ることができる。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film on which fine patterning can be applied, prevented from change of characteristics and lowering of transmittance caused by gas or moisture, and to provide a manufacturing method of the same, an electro-optical device provided with the transparent conductive film, and elecronic equipment.例文帳に追加

透明導電膜についての微細なパターニングを可能にし、しかもガスや水分の影響による特性変化や透過率の低下を防止した、透明導電膜とその形成方法、およびこの透明導電膜を備えた電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a surge protective circuit and a surge absorbing element of an electronic equipment wherein energy of a surge voltage form commercial power source line is attenuated by being converted into heat, the remaining surge voltage is discharged by a pattern gap, and mounting can be carried out easily by patterning a resistor and the gap integrally with other circuit components on a printed circuit board.例文帳に追加

電子機器のサージ保護回路内に設けた、サージ吸収素子を抵抗とパターンギャップで構成しコノサージ吸収素子をプリント基板の他の回路の能動素子や受動素子と一緒に形成し、組み立て工数を減少させてコストダウンを計る。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a flexible wiring circuit board which causes no deterioration of patterning accuracy and less pattern fault, and is relatively easy to downsize its production equipment and its lead time can be relatively shortened and can be cut out by laser cutting method, even if the pattern pitch of the flexible wiring circuit board is made extremely small.例文帳に追加

フレキシブル配線回路基板のパターンピッチが非常に小さくなった場合であっても、パターニング精度が低下せず、パターン不良も生じにくく、製造設備の小型化も比較的容易であり、リードタイムを比較的短くすることができ、レーザーカッティング法で抜き加工を実施することもできるフレキシブル配線回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The lithographic equipment has a radiation system for providing a projection beam of radiation, a support structure for supporting the patterning means that patterns the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, a projection system for projecting the patterned beam onto a target area on the substrate, and an interferometer system to help positioning an object in the equipment, wherein the interferometer system performs position measurement.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置であって、放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムと、装置内での対象物の位置決めを助ける干渉計システムとを備えていて、干渉計システムが位置測定を行うように配置されているリソグラフィ投影装置。 - 特許庁

To provide a new half mirror material formed by using a mirror ink; to provide a half mirror material suitable for easy small-lot production of patterning of a half mirror part by using normal printing operation to advantageously form the half mirror part without requiring large size equipment; and to provide a method for simply and easily manufacturing the half mirror material.例文帳に追加

ミラーインキを用いて形成される新規なハーフミラー材料を提供すること、また、大型の設備を要することなく、通常の印刷操作を利用してハーフミラー部位が有利に形成され、且つ、そのようなハーフミラー部位のパターニングの容易な小ロッド生産に適したハーフミラー材料を提供すること、更に、そのようなハーフミラー材料を簡便に且つ容易に製造し得る方法を提供すること。 - 特許庁

The photo development equipment includes a developing solution supplier for supplying a negative development solution; and a first photo apparatus to form a positive photoresist pattern, by using a positive photoresist containing a novolac resin as a base and containing an acrylic resin with the above negative development solution, wherein the photoresist pattern is necessary for forming a black matrix by patterning a light-shielding metal layer formed on a substrate.例文帳に追加

本発明によるフォト装備は、ネガティブ現像液を供給する現像液供給部と、基板上に形成された光遮断金属層をパターニングして、ブラックマトリクスを形成する際に必要であるポジティブフォトレジストパターンを、ノボラック系の樹脂を基本として、アクリル系の樹脂を含むポジティブフォトレジストと前記ネガティブ現像液とを利用して形成する第１フォト装備を含むことを特徴とする。 - 特許庁