「process liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The purification method comprises adding an arsenious acid together with zinc dust to the liquid in a Cu removal process, sending the post-decupirization liquid including the generated decupirization residue to a Co removing process without filtration, and implementing the Co removal by adding the zinc dust again to the liquid.例文帳に追加

脱Cu工程で、亜鉛末と共に亜砒酸を添加し、生成した脱Cu残渣含みの脱Cu後液を、濾過すること無く脱Co工程に送り、亜鉛末を再添加することにより脱Coを実施する。 - 特許庁

The method comprises a first process of applying a droplet containing a liquid repellent material to the substrate having the lyophilic part to form the liquid repellent part, and a second process of applying the functional fluid to the lyophilic part between the liquid repellent parts.例文帳に追加

親液部を有する基板に対して、撥液材料を含む液滴を塗布して撥液部を形成する第１工程と、撥液部の間の親液部に機能液を塗布する第２工程とを有する。 - 特許庁

A nozzle standby pod 15 houses the tip of nozzle 13 above and makes it wait in the solvent atmosphere of a process liquid Q (here, SOG liquid) when the process liquid supply nozzle 13 moves to a standby position.例文帳に追加

ノズル待機ポッド１５は、処理液供給ノズル１３が待機位置に移動してきたときに上方でノズル１３の先端部を収納し処理液Ｑ（ここではＳＯＧ液）の溶剤雰囲気にて待機させる。 - 特許庁

The liquid for the liquid immersion lithography process containing a crown compound is used, so that the excellent resist-pattern is formed in the liquid immersion lithography process with the use of the UV light of not more than 200 nm.例文帳に追加

クラウン化合物を含有してなる液浸露光プロセス用液体を使用することにより、200nm以下の紫外光を用いた液浸露光プロセスにおいて、良好なレジストパターンを形成できる。 - 特許庁

To provide a thin liquid crystal display integrated with a touch screen panel whose process time and process cost are reduced.例文帳に追加

工程時間及び工程コストを減少させ、厚さが薄いタッチスクリーンパネル一体型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

In the mist process, mist of the cleaning liquid is sprayed to the cylinder head having been once dried in the first drying process.例文帳に追加

ミスト工程では、第１乾燥工程で一旦乾燥したシリンダヘッドに対して、洗浄液のミストが吹き付けられる。 - 特許庁

In a rear surface processing section, a drying process is performed after a cleaning process is performed by supplying processing liquid to a substrate W.例文帳に追加

裏面処理部において、基板Ｗに処理液を供給して洗浄処理を行った後に乾燥処理を行う。 - 特許庁

A pre-crushing impregnation process #10 for leaving the grains and the liquid to stand in a mixed state is preferably placed before the crushing process #20.例文帳に追加

粉砕工程＃２０の前には穀物粒と液体が混合状態で静置される粉砕前含浸工程＃１０が置かれる。 - 特許庁

To provide an apparatus and a process for forming an article with a liquid metal directional casting process having high reliability.例文帳に追加

信頼性の高い液体金属の方向性鋳造プロセスによって物品を形成する装置及び方法を提供する。 - 特許庁

Before the crushing process #20, placed preferably is a pre-crushing impregnation process #10 for leaving grains and a liquid to stand in a mixed state.例文帳に追加

粉砕工程＃２０の前には穀物粒と液体が混合状態で静置される粉砕前含浸工程＃１０が置かれる。 - 特許庁

The drying process starts before the evaporation amount of a solvent contained in the liquid after the coating process exceeds 40%.例文帳に追加

塗布工程後の液状体に含まれる溶媒の蒸発量が４０％を超える前に乾燥工程を開始する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a liquid drop ejection head with high yield while enhancing process tolerance of an ejection chamber, and the like.例文帳に追加

吐出室等の加工精度が高く、また歩留まりの高い液滴吐出ヘッドの製造方法等を提供する。 - 特許庁

In addition, in the method for producing the puncture-sealing agent, the mixing process includes the first mixing process for mixing the rubber latex with the water, the second mixing process for mixing the anti-freezing agent with an adhesive agent, and the third mixing process for mixing a mixture liquid obtained in the first mixing process with a mixture liquid obtained in the second mixing process.例文帳に追加

また、前記混合工程は、ゴムラテックスと水とを混合する第１の混合工程と、不凍液と粘着剤とを混合する第２の混合工程と、前記第１の混合工程を経た混合液と前記第２の混合工程を経た混合液とを混合する第３の混合工程とを含むことが好ましい。 - 特許庁

A hard coat layer formation process comprises: an application process of applying a hard coat liquid which is hardened by hydrolytic reaction and condensation reaction on the base material; a drying process of drying the hard coat liquid after the application process to form a coated film; and a pressurization process of pressurizing the coated film after the drying process to harden the coated film.例文帳に追加

ハードコート層形成工程は、加水分解反応および縮合反応により硬化するハードコート液を前記基材上へ塗布する塗布工程と、前記塗布工程後に前記ハードコート液を乾燥して塗膜とする乾燥工程と、前記乾燥工程後に前記塗膜を加圧して硬化させる加圧工程とを備える。 - 特許庁

A substrate 1 is treated in a first process A for cleaning with organic alkaline treatment liquid, a second process B for cleaning after the first process by means of organic acid treatment liquid and a third process C for cleaning, after the second process by means of ultrasound cleaning fluid oscillated by ultrasonic wave.例文帳に追加

基板１を有機アルカリ性処理液により洗浄する第１の工程Ａと、第１の工程後に有機酸性処理液により洗浄する第２の工程Ｂと、第２の工程後に超音波で励振した超音波洗浄用流体により洗浄する第３の工程Ｃとによって処理する。 - 特許庁

A process (d) for performing reversed-phase liquid chromatography on each eluate fraction acquired in the process (b); a process (e) for fractionating a column eluate of reversed-phase liquid chromatography; and a process (f) for measuring the reducing activity of each eluate fraction acquired in the process (e) can also be conducted.例文帳に追加

さらに(d)工程(b)で得られた各溶出画分について、逆相液体クロマトグラフィーを行う工程、(e)逆相液体クロマトグラフィーのカラム溶出液を分画する工程、及び(f)上記工程(e)で得られた各溶出画分の還元活性を測定する工程、を行うこともできる。 - 特許庁

To obtain a manufacturing process of a liquid container capable of stably producing the liquid containing container of a high quality in which a liquid is filled with a predetermined degassing degree.例文帳に追加

一定の脱気度で液体が充填された高品位の液体収容容器を安定生産できる液体収容容器の製造方法を得る。 - 特許庁

To make it possible to well align liquid crystal molecules in a prescribed direction even with a liquid crystal device using substrates made of synthetic resins and to provide a process for producing such liquid crystal device and an electronic apparatus using the same.例文帳に追加

合成樹脂製基板を用いた液晶装置にあっても液晶分子を所定の方向に良好に配向させることができるようにする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid jetting head in which the manufacturing process is simplified and the cost is reduced, and to provide the liquid jetting head and a liquid jetting apparatus.例文帳に追加

製造工程を簡略化してコストを低減した液体噴射ヘッドの製造方法及び液体噴射ヘッド並びに液体噴射装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method which optimize the state of air flow above a substrate according to a process of the liquid processing.例文帳に追加

液処理の工程に応じて基板の上方における気流の状態を最適化可能な液処理装置、および液処理方法を提供すること。 - 特許庁

To uniformly coat the inside of a substrate face with a resist liquid while reducing the coating amount of the resist liquid in the case the wafer is coated with the resist liquid using a spin coating process.例文帳に追加

スピン塗布法を用いてレジスト液をウェハに塗布する場合において、レジスト液の塗布量を減らしつつ、レジスト液を基板面内に均一に塗布する。 - 特許庁

The bubbles in the air and liquid cleaning liquid collide with one another during the process in which the cleaning liquid circulates in the first ink supplying tube 34 and the first print head 21.例文帳に追加

気液洗浄液内の気泡は、第一インク供給チューブ３４及び第一プリントヘッド２１を流通する過程で、互いにぶつかり合う。 - 特許庁

In this process for forming a liquid reservoir, a resist liquid is supplied from a discharge pump to the slit nozzle so that the resist liquid is discharged in a predetermined amount from the slit nozzle.例文帳に追加

この形成工程において、吐出ポンプからスリットノズルにレジスト液を供給することによって、スリットノズルから所定量のレジスト液を吐出する。 - 特許庁

In a wafer drying process utilizing the marangoni effect, an isopropyl alcohol liquid 222 is heated and supplied in a liquid phase to the upside of a cleaning liquid.例文帳に追加

マランゴニ効果を利用したウェーハに乾燥工程において、イソプロピルアルコール液体２２２を加熱して洗浄液の上部に液体状態で供給する。 - 特許庁

To provide a means easily detecting the presence/absence of a recording liquid in a recording liquid storage container and detecting the process of the remaining amount of the recording liquid.例文帳に追加

記録液収納容器内の記録液有無を簡単に検出するとともに、記録液の残量経過を検出することができる手段を提供する。 - 特許庁

A liquid eliminating process 400 is provided, in which air blowing jets from the tip of the hollow part of the liquid surface detecting tube 10 so as to eliminate the liquid P stuck to the tip.例文帳に追加

液面検知管１０の中空部先端からエアブローを吹き出して該先端に付着した液体Ｐを除去する液体除去工程４００を設け。 - 特許庁

To provide an apparatus for preparing a liquid in which oxygen is dissolved, a process for oxygenating the liquid, and the application of the oxygenated liquid.例文帳に追加

酸素を溶解した状態の液体を調製する装置と、液体に酸素を添加する方法と、酸素を添加された液体の適用と、を提供する。 - 特許庁

The process further comprises a step wherein another solid-liquid separation is performed after adding a calcium salt to the residual liquid after the first solid-liquid separation to remove or reduce other metals.例文帳に追加

さらに他の金属を除去または低減するために、該固液分離後の該残液にカルシウム塩を添加し、固液分離する工程を含むこ特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a liquid crystal display panel and the liquid crystal display panel achieving further cost reduction of a liquid crystal display device by simplifying the manufacturing process.例文帳に追加

製造工程を簡略化し、液晶表示装置のさらなるコストダウンを実現した液晶表示パネルの製造方法と液晶表示パネルを提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal device in which liquid crystal materials are divided in a simple and safe division process, and to provide a method for manufacturing the liquid crystal device.例文帳に追加

簡単で安全な分割工程で液晶材料を分割することができる液晶デバイスおよび液晶デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce the size and suppress degradation of a process liquid which is recovered by improving the efficiency in vapor-liquid separation of a vapor and liquid mixed fluid.例文帳に追加

気液混合流体の気液分離効率の向上が図れ、装置の小型化及び回収される処理液の劣化の抑制を図れるようにすること。 - 特許庁

To provide a static eliminator that efficiently eliminates charges of a liquid crystal panel substrate, concerning a manufacturing process of the liquid crystal panel substrate.例文帳に追加

液晶パネル基板の製造工程において、液晶パネル基板の帯電を効率よく除去する装置を提供する。 - 特許庁

A process for burning the raw materials at 100-600°C may be included before the impregnation with the noncombustible liquid agent or spraying the noncombustible liquid agent.例文帳に追加

不燃液剤を含浸・噴霧する前に、原材料を１００°Ｃ〜６００°Ｃで焼成する工程を含んでもよい。 - 特許庁

TREATMENT PROCESS OF LIQUID WASTE OF DEVELOPER/FIXER FOR DEVELOPING PHOTOGRAPH SUCH AS X-RAY PHOTOGRAPH AND LIQUID WASTE OF ANTIFREEZING FLUID OR THE LIKE例文帳に追加

ｘ−レイ等写真現像用現像液及び定着液の廃液、並びに、不凍液等の廃液の処理法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal panel by which occurrence of a lateral crack can be suppressed in a liquid crystal panel scribing process.例文帳に追加

液晶パネルスクライブ工程時ラテラルクラックの発生を抑えることのできる液晶パネル製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a treatment method of waste syrup from sugar-manufacture, waste liquid from sugar-manufacture, or waste liquid from a fermentation process of waste syrup from sugar-manufacture.例文帳に追加

製糖廃蜜、製糖廃液、又は製糖廃蜜の発酵工程からの廃液を処理する方法を提供する。 - 特許庁

The liquid etchant can be used in place of a conventional liquid etchant which is used in a conventional semiconductor element forming process.例文帳に追加

このエッチング液は、従来の半導体素子形成プロセスに用いられるエッチング液の代わりに用いることができる。 - 特許庁

MAGNETIC PARTICLE DISPERSION LIQUID FOR IMAGE FORMATION, PARTICLE DISPERSION LIQUID CARTRIDGE, PROCESS CARTRIDGE, IMAGE FORMING APPARATUS, AND IMAGE FORMING METHOD例文帳に追加

画像形成用磁性粒子分散液、粒子分散液カートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置および画像形成方法 - 特許庁

To provide a mist collector capable of improving the efficiency of separation of a process liquid from a gas/liquid mixed fluid.例文帳に追加

気液混合流体からの処理液の分離効率を向上させることができる気液分離装置を提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING PROCESS FOR LIQUID DISPERSION OF ORGANIC PIGMENT FINE PARTICLES, ORGANIC PIGMENT FINE PARTICLES OBTAINED FROM IT AND ITS LIQUID DISPERSION例文帳に追加

有機顔料微粒子分散液の製造方法、それにより得られる有機顔料微粒子およびその分散液 - 特許庁

To provide a color liquid crystal device having a high opening ratio and a simple manufacturing process, and to provide a manufacturing method for the color liquid crystal device.例文帳に追加

高い開口率と簡単な製造工程を有するカラー液晶装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The stack gas desulfurization process by a wet lime method for treating a waste gas containing sulfur oxides and nitrogen oxides includes a solid/liquid separation process for taking out a part of the absorbent slurry and solid/liquid separating, a mixing process for adjusting the pH of the filtrate from the solid/liquid separation process and adding an oxidizing agent and a process for allowing the liquid mixture to contact with activated carbon.例文帳に追加

酸化硫黄および酸化窒素を含む排ガスを処理する湿式石灰法による排煙脱硫方法において、該吸収液スラリーの一部を抜出して固液分離する固液分離工程と、該固液分離工程からのろ液をｐＨ調整して、酸化剤を添加する混合工程と、該混合液を活性炭と接触させる工程とを含む排煙脱硫方法。 - 特許庁

To control the liquid crystal molecules in a liquid crystal layer of a liquid crystal display device so as to have various alignment directions in a simple production process and to increase the viewing angle of the liquid crystal display device.例文帳に追加

簡単な製造プロセスで液晶表示器の液晶層内の液晶分子が多種な排列方向を有することを制御し、よって液晶表示器の視角を広げる。 - 特許庁

There is used as the immersion liquid of the liquid immersion exposure a liquid constituted out of a fluorine-based solvent which is transparent to an exposure light used for the liquid immersion lithography process and has a boiling point of 70-270 °C.例文帳に追加

露光プロセスに用いる露光光に対して透明で、その沸点が７０〜２７０℃であるフッ素系溶剤から構成した液体を、液浸露光の浸漬液として使用する。 - 特許庁

Disorder of the liquid crystal due to interference of a gap controlling material when the liquid crystal is injected from a liquid crystal injection port in a liquid crystal injecting process (S15) is simultaneously removed.例文帳に追加

また、液晶注入工程（Ｓ１５）において液晶注入口から液晶を注入した際の、ギャップ制御材の干渉による液晶の乱れも同時に取り除かれる。 - 特許庁