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process liquidの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5510件
To provide a process for refining a coke oven gas which makes the facility scale of a first gas-liquid contact column smaller than the conventional one.例文帳に追加
従来よりも第1気液接触塔の設備規模を小さくすることができるコークス炉ガスの精製方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an in-plane switching liquid crystal display panel that suppresses breakage of a substrate in a manufacturing process.例文帳に追加
製造工程中の基板割れを抑制した横電界方式の液晶表示パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a skin integrated foam capable of preventing liquid leakage from sutured part without increasing the number of process.例文帳に追加
作業工数を追加することなく表皮の縫合部位からの液漏れを防止できる表皮一体発泡体の提供を図る。 - 特許庁
After the formation of a liquid reservoir in this manner, movement of the slit nozzle into a scanning direction is initiated, thereby initiating the coating process.例文帳に追加
このようにして液溜まりが形成された後に、スリットノズルの走査方向への移動を開始して塗布処理を開始する。 - 特許庁
To simplify a manufacturing process by reducing the number of sheets of photomasks at the time of manufacturing the TFT substrate of a liquid crystal display device.例文帳に追加
液晶表示装置のTFT基板を製造する際に、ホトマスクの枚数を減らして、製造プロセスを簡略化する。 - 特許庁
To provide a production line for a liquid crystal display element which is constituted so that sealant will not cure prior to bonding process.例文帳に追加
シール剤が合着工程の前に硬化することないように構成された液晶表示素子の製造ラインを提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the cellulose film comprises the step of regulating a concentration of a solidified liquid enclosed in a tubular body in this process.例文帳に追加
この工程において管状体内部に閉じこめられた凝固液濃度を調整するセルロースフィルムの製造方法である。 - 特許庁
The film pattern forming method is a process of forming a film pattern through locating the functional liquid on a gate insulating film 28 (functional film) provided on a substrate P.例文帳に追加
基板Pに設けられたゲート絶縁膜28(機能膜)上に機能液を配置して膜パターンを形成する方法である。 - 特許庁
To simplify a process for manufacturing a liquid crystal display with a COT (color filter formed on thin-film transistor) structure with a color filter formed on an array substrate.例文帳に追加
カラーフィルターをアレイ基板に形成したCOT構造の液晶表示装置を製作する際、工程を単純化する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a liquid jet head simplifying a manufacturing process and reducing the manufacturing cost.例文帳に追加
製造工程を簡略化できると共に製造コストを削減することができる液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁
COATING LIQUID FOR FORMING SURFACE LAYER, METHOD OF MANUFACTURING ELECTROPHOTOGRAPHIC SENSITIVE BODY, ELECTROPHOTOGRAPHIC SENSITIVE BODY, PROCESS CARTRIDGE AND ELECTROPHOTOGRAPHIC DEVICE例文帳に追加
表面層形成用塗布液、電子写真感光体の製造方法、電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 - 特許庁
The removal of a cellulose fiber and the removal of a water-soluble heat curing binder can reduce contaminants in a process liquid.例文帳に追加
セルロース繊維の除去、及び水溶性の熱硬化性結合剤の除去は、プロセス液体の汚染物質の減少をもたらす。 - 特許庁
Therefore, the single flexible board is applicable to the plurality of the liquid crystal display modules, and the production process can be simplified.例文帳に追加
従って、単一のフレキシブル基板を複数の液晶表示モジュールに適用することができ、生産過程の簡略化を図れる。 - 特許庁
To efficiently use acidic waste liquid generated in a refinement process while reducing the volume of fly ash without melting heavy metals.例文帳に追加
重金属を溶かさずに、飛灰の減容化を図るとともに、製錬工程で発生する酸性廃液を効率的に活用する。 - 特許庁
The method for producing the powder comprises a process of precipitating and isolating solid particles from liquid over basic alkaline earth metal compositions.例文帳に追加
該粉末の製造方法は、液体過塩基性アルカリ土類金属組成物からの固体粒子を沈澱させ分離することを含む。 - 特許庁
CELLULOSE ACETATE PROPIONATE FILM, PROCESS FOR PRODUCING CELLULOSE ACETATE PROPIONATE FILM, OPTICAL COMPENSATION SHEET, POLARIZING PLATE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加
セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルムの製造方法、光学補償シート、偏光板および液晶表示装置 - 特許庁
To inhibit variation in size and speed of a droplet of a process liquid injected from a nozzle, and inhibit grow in size of the nozzle.例文帳に追加
ノズルから噴射される処理液の液滴の大きさおよび速度のばらつきを抑制し、ノズルの大型化を抑制すること。 - 特許庁
COATING LIQUID FOR FORMING SILICA COATING FILM, PREPARATION PROCESS OF SILICA COATING FILM, SILICA COATING FILM, SEMICONDUCTOR ELEMENT USING THE FILM AND MULTI-LAYER WIRING BOARD例文帳に追加
シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜の製造法、シリカ系被膜、これを用いた半導体素子及び多層配線板 - 特許庁
FERROELECTRIC FILM, FERROELECTRIC MEMORY, PIEZOELECTRIC ELEMENT, SEMICONDUCTOR ELEMENT, LIQUID EJECTION HEAD, PRINTER AND PROCESS FOR PRODUCING FERROELECTRIC FILM例文帳に追加
強誘電体膜、強誘電体メモリ、圧電素子、半導体素子、液体噴射ヘッド、プリンタ及び強誘電体膜の製造方法 - 特許庁
In the laminate formation process, the Ga layer 8c is formed by electrolytic deposition in an ionic liquid in which a gallium salt is dissolved.例文帳に追加
積層体形成工程では、Ga層8cを、ガリウム塩を溶解したイオン液体中での電解析出により形成する。 - 特許庁
Then, the capacitor is immersed in a liquid of mixture of a monomer and methanol and the monomer is impregnated into the capacity element (S7, monomer impregnation process).例文帳に追加
その後、モノマーとメタノールとを調合した液に浸漬させ、コンデンサ素子にモノマーを含浸させる(S7、モノマー含浸工程)。 - 特許庁
To provide a treatment method of a plutonium-containing waste liquid, which is capable of accurately decontaminating plutonium in a simple treatment process.例文帳に追加
簡単な処理工程で高精度にプルトニウムを除染することができるプルトニウム含有廃液の処理方法を提供する。 - 特許庁
Accordingly, pre-processing is not required in accordance with a picture describing pattern before the process of liquid discharge through the electrostatic suction type ink jet.例文帳に追加
そのため、静電吸引型インクジェットによる液体吐出の工程前に、描画パターンに応じた前加工は必要無い。 - 特許庁
MASK CLEANING LIQUID COMPOSITION USED AT VACUUM VAPOR DEPOSITION PROCESS OF LOW MOLECULE TYPE ORGANIC EL ELEMENT, AND CLEANING METHOD例文帳に追加
低分子型有機EL素子製造の真空蒸着工程において使用するマスクの洗浄液組成物および洗浄方法 - 特許庁
In the mixing process a mixed liquid is prepared by mixing the hydrophilic nonionic polymer with a metal ion source in water.例文帳に追加
混合工程においては、親水性の非イオン性ポリマーと金属イオン源とを水中で混合して混合液を作製する。 - 特許庁
Although some "dregs" (liquid lees) are produced during the process of the method, this dregs can not be used as "sake-kasu" and are disposed of as an industrial waste. 例文帳に追加
製造の過程で"かす"(液化粕)が出るが、"酒粕"として使用することが出来ず、産業廃棄物として処理される。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
To prevent the reduction of the display quality due to the impurities invading into a liquid crystal display element during a manufacturing process and from the exterior.例文帳に追加
製造プロセス中や外部から液晶表示素子内に侵入する不純物によって、表示品位の低下が発生しない。 - 特許庁
The second performance picture is displayed to a liquid crystal display and the picture display process of the first performance picture is performed.例文帳に追加
そして、第2演出画像が液晶ディスプレイから表示されるとともに、第1演出画像の画像表示処理が行われる。 - 特許庁
The main pipe part 30 forms a flow channel for process liquid L running from the first connection end part 41 to the second connection end part 42.例文帳に追加
主管部30は、第1接続端部41から第2接続端部42までつづく処理液Lの流路を形成している。 - 特許庁
Then, the gas phase valve of the recovering container is closed and the valve of the bulk storing tank is released to conduct a second liquid delivering process (S50).例文帳に追加
そして、回収容器の気相バルブを閉塞して、バルク貯槽のバルブを開放して第2の液送工程を行う(S50)。 - 特許庁
To process a target surface of a wafer with processing liquid uniformly while suppressing an increase in processing time.例文帳に追加
処理液による処理をウェーハの被処理面に対して均一に、且つ、処理の長時間化を抑制しながら行うことができる。 - 特許庁
To provide a touch screen panel integrated liquid crystal display device with small thickness, in which the time and cost of a process are reduced.例文帳に追加
工程時間及び工程コストを減少させ、厚さが薄いタッチスクリーンパネル一体型液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
To simplify device constitution and a manufacturing process, while enhancing the numerical aperture of a pixel, in an optoelectronic device of a liquid crystal device or the like.例文帳に追加
液晶装置等の電気光学装置において、画素開口率を高めつつ、装置構成や製造プロセスの単純化を図る。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a liquid drop jet apparatus which eliminates a rapping process, has a high manufacturing speed and has a superior productivity.例文帳に追加
ラッピング工程を不要とし、製造速度が速く、生産性に優れた液滴噴射装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
When a porous ceramic small piece is used as a carrier for a carrier test, the effectiveness of a bacteria process liquid can be judged suitably.例文帳に追加
また多孔質セラミック小片をキャリアテスト用キャリアとして用いると細菌処理液の有効性を適切に判定できる。 - 特許庁
To supply a minute amount of reaction liquid to a reaction vessel in a simple method and efficiently process a lot of specimens at one time.例文帳に追加
微量な反応液を簡易な方法で反応容器に供給し、一度に多くの検体の処理を効率よく行う。 - 特許庁
A surface treatment process includes a wet polishing process 46 for polishing a peripheral surface of a drum with a first cloth containing liquid in which fine particles of metal oxides are dispersed, a dry polishing process 47 for polishing the peripheral surface with a dry second cloth after the wet polishing process 46, and a washing process 43 for removing the fine particles on the peripheral surface.例文帳に追加
表面処理工程は、金属酸化物の微粒子が分散した液を含む第1の布で、ドラムの周面を研磨する湿式研磨工程46と、この湿式研磨工程46の後に、乾いた第2の布で周面を研磨する乾式研磨工程47と、周面上の微粒子を取り除く洗浄工程43とを有する。 - 特許庁
The method of manufacturing the multilayer printed-wiring board includes a roughening process for roughening a surface 4a by bringing a chemical roughening liquid into contact with the surface 4a of the wiring circuit 4, an oxidation process for oxidizing the surface 4a of the wiring circuit 4 after the roughening process, and a reduction process for reducing the surface 4a of the wiring circuit 4 after the oxidation process.例文帳に追加
実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法は、配線回路4の表面4aに化学粗化液を接触させて表面4aを粗化する粗化工程と、粗化工程の後に配線回路4の表面4aを酸化する酸化工程と、酸化工程の後に配線回路4の表面4aを還元する還元工程とを含む。 - 特許庁
The method for manufacturing the optical anisotropic layer formed from liquid crystal molecules comprises a first process for uniformly orienting liquid crystal molecules, a second process for changing the front retardation value of the optical anisotropic layer by changing the orientation state of the liquid crystal molecules by the irradiation of light of wavelength which does not substantially fix the liquid crystal molecules and a fixing process for fixing the liquid crystal molecules in the changed orientation state.例文帳に追加
液晶分子から形成される光学異方性層の製造方法であって、液晶分子を均一配向させる第1の工程と、その後、前記液晶分子を実質的に固定化しない波長の光を照射することにより前記液晶分子の配向状態を変化させて、光学異方性層の正面レターデーション値を変化させる第2の工程と、前記変化させた配向状態で前記液晶分子を固定する固定化工程とを含むことを特徴とする光学異方性層の製造方法。 - 特許庁
The conveying body 18 is made to detour round in a liquid reservoir 28 constituting the device 25 and dipped in the liquid reservoir, liquid is applied to the chips adhered to the conveying body 18 by liquid crosslinking adhesion by oil component in a dipping process so as to reduce or decrease the liquid crosslinking adhesion, and the chips adhered to the conveying body 18 is separated in the liquid.例文帳に追加
この装置25を構成する貯液槽28内に前記搬送体18を迂回し、同搬送体18を貯液槽に浸漬し、浸漬行程において搬送体18にオイル成分による液架橋付着力により付着しているチップに対し、前記液架橋付着力を低減あるいは解除するように液体を作用させて、搬送体18に付着しているチップを液体中に分離する。 - 特許庁
This manufacturing method of the liquid crystal display device includes processes of: producing a liquid crystal display panel 100a including a polymeric composition in a liquid crystal layer 30 and a process for forming a polymer structure 32 by polymerizing the polymeric composition in the liquid crystal layer 30 while predetermined voltage is applied to the liquid crystal layer 30 in the liquid crystal display panel 100a.例文帳に追加
本発明による液晶表示装置の製造方法は、液晶層30中に重合性組成物を含む液晶表示パネル100aを用意する工程と、液晶表示パネル100aの液晶層30に所定の電圧が印加された状態で、液晶層30中の重合性組成物を重合することによって、ポリマー構造物32を形成する工程とを包含する。 - 特許庁
To provide a refining device capable of efficiently removing impurities generated in the liquid for liquid immersion exposure by exposure and impurities flowing out of a resist film, stabilizing the optical properties of the liquid for liquid immersion exposure, and reusing the liquid for liquid immersion exposure without reducing efficiency in the production process of an electronic device using exposure.例文帳に追加
露光により液浸型露光用液体中に生成された不純物やレジスト膜から溶出した不純物を、効率よく除去し、液浸型露光用液体の光学的性質を安定させた上で、露光を用いる電子デバイスの生産過程にかかる効率を低下させることなく、液浸型露光用液体の再利用を、現に可能とする精製器を提供すること。 - 特許庁
The drying method in the drying device 1 includes: a process of adding water and a surface active agent to a fiber structure 100; a second process of immersing the fiber structure 100 in carbon dioxide in the liquid state or the supercritical state after the first process; and a third process of evaporating carbon dioxide in the liquid state or the supercritical state in which the fiber structure 100 is immersed in the second process.例文帳に追加
乾燥装置1における乾燥方法は、繊維構造体100に水と界面活性剤とを加える第1の行程と、第1の行程の後に、繊維構造体100を液体状態または超臨界状態の二酸化炭素に浸漬させる第2の行程と、第2の行程において繊維構造体100を浸漬させた液体状態または超臨界状態の二酸化炭素を蒸発させる第3の行程とを行なう。 - 特許庁
To provide an organic developing process method and an organic developing process device capable of stabilizing a fine line width in a circuit pattern and improving throughput without using a rinsing liquid and without being influenced by a time difference in an organic developing process.例文帳に追加
リンス液を用いずに、かつ有機現像処理の時間差の影響を受けずに回路パターンの微細線幅の安定化及びスループットの向上を図れるようにした有機現像処理方法及び有機現像処理装置を提供すること。 - 特許庁
This method is provided with a reaction process for making a sample liquid having the possibility of containing histamine react with 2,3-naphthalene dicarboxy aldehyde under a condition of pH8 or less, and a process for detecting the histamine, based on coloration generated in the reaction process.例文帳に追加
ヒスタミン含有可能性のある試料液と2,3−ナフタレンジカルボキシアルデヒドとを、pH8以下で反応させる反応工程と、前記反応工程により生じる呈色に基づいて前記ヒスタミンを検出する工程と、を備えるようにする。 - 特許庁
This manufacturing method includes a process for dry-grinding wet silica in advance, a process for dispersing the dry-ground wet silica in water and a process for wet-grinding the dispersed silica so as to utilize the wet-ground wet silica particles as the coating liquid of an ink accepting layer.例文帳に追加
湿式シリカを予め乾式粉砕する工程、乾式粉砕した湿式シリカを水に分散する工程、分散したシリカを湿式粉砕する工程を含み、湿式粉砕した湿式シリカ粒子をインク受容層用塗液に利用する。 - 特許庁
To provide a flocculation reaction device suitable for discharging scum-containing slurry to a next process of a flocculation separation process (solid/liquid separation process) when flock formed by a flocculation reaction grows to floating collective flock lump.例文帳に追加
凝集反応により生成するフロックが浮遊性のフロック集合塊(スカム)に成長する場合において、スカム含有スラリーを次工程の浮上分離工程(固液分離工程)へ排出するのに好適な凝集反応装置を提供すること。 - 特許庁
In a chemical polishing process, the silicon wafer is pushed against the polishing-cloth side, while a section between the silicon wafer and polishing cloth with a working liquid from a tank between a rough polishing process and a finishing polishing process is supplied, and the surface of the silicon wafer is polished.例文帳に追加
粗研磨工程と、仕上げ研磨工程の間に、タンクから加工液を、シリコンウェーハと研磨クロスとの間に供給しつつシリコンウェーハを研磨クロス側に押し当てて、シリコンウェーハの表面を研磨する化学的研磨工程が実施される。 - 特許庁
The treating method comprises a process for supplying a treating liquid 120 on the body 100, a process of rotating the body 100 in a positive direction D2 of rotation, and a process of rotating the body 100 in the reverse direction D3.例文帳に追加
被処理体の処理方法は、被処理体100の上に、処理液120を供給する工程と、被処理体100を正の回転方向D2に回転させる工程と、被処理体100を逆の回転方向D3に回転させる工程とを含む。 - 特許庁
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