「processing liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD FOR PROCESSING SILICON SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID JET HEAD例文帳に追加

シリコン基板の加工方法及び液体噴射ヘッドの製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD, MANUFACTURING APPARATUS AND MANUFACTURING SYSTEM FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING LIQUID例文帳に追加

半導体処理液の製造方法、製造装置及び製造システム - 特許庁

REACTION/PROCESSING APPARATUS FOR CIRCULATION TYPE LIQUID OR SUPERCRITICAL CARBON DIOXIDE例文帳に追加

循環型液体又は超臨界二酸化炭素反応／処理装置 - 特許庁

Furthermore, a connecting member 33 of the lifter LF can work as a rectifying plate for processing liquid so as to make the flow of processing liquid to be symmetrical.例文帳に追加

また、リフタＬＦの連結部材３３が、処理液に対する整流板として処理液のフローを対称にすることができる。 - 特許庁

To provide an apparatus for carrying out liquid-liquid multi-stage extraction capable of being applid to a nuclear fuel processing system, other various waste liquid treating processes or the like, and a method for carrying out the liquid-liquid multi-stage extraction.例文帳に追加

核燃料処理工程、その他種々の廃液処理工程などに適用することができる液液多段抽出装置及び液液多段抽出法を提供する。 - 特許庁

To raise a temperature of new liquid by the heat exchange of waste liquid and new liquid without mixing new liquid and waste liquid in a processing tank, to reduce energy and to shorten a chemical exchange time.例文帳に追加

処理槽内で新液と廃液とが混ざることなしに、廃液と新液との熱交換により新液を昇温することができ、エネルギー削減及び薬液交換時間短縮をはかる。 - 特許庁

To provide a processing method and device for a photosensitive material, which is capable of stirring a processing liquid applied on the surface of the photosensitive material without necessitating a large tank for the processing liquid.例文帳に追加

大きな処理液のタンクを必要とせず、感光材料の表面に塗布された処理液の撹拌が得られる感光材料の処理方法と装置を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treating device which can prevent processing liquid from scattering with respect to a surface, other than the surface to be treated and perform processing on only the surface to be treated that uses the processing liquid.例文帳に追加

被処理面以外の面に対する処理液の飛散を防止し、被処理面のみに処理液を用いた処理を施すことができる表面処理装置を提供する。 - 特許庁

Since a pair of carrier rollers and the processing liquid are sealed inside of a processing cartridge 14, no processing liquid is leaked or split even when it is carried.例文帳に追加

処理カートリッジ１４は、その内部に搬送ローラ対を封入していると共に処理液を封入しているため、持ち運んでも処理液が漏れたりこぼれたりすることはない。 - 特許庁

To provide a processing liquid feeding apparatus capable of feeding a processing liquid to a determined feeding target at a stable temperature, and to provide a substrate processing apparatus including the same.例文帳に追加

所定の供給対象に安定した温度で処理液を供給することができる処理液供給装置およびそれを備えた基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide substrate processing equipment which can prolong the lifetime of a ground wire for grounding the processing liquid, while fully neutralizing the processing liquid being supplied to a substrate.例文帳に追加

基板に供給する処理液を十分に除電するとともに、処理液を接地するためのアース線の長寿命化が実現できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR SUBSTRATE PROCESSING LIQUID SUPPRESSING ADSORPTION OF METAL THERETO, PREPARING METHOD FOR PROCESSING LIQUID, AND PROCESSING METHOD THEREFOR USING THE SAME例文帳に追加

半導体基板への金属の吸着を抑制した半導体基板用処理液及びこの処理液の調製方法並びにこれを用いた半導体基板の処理方法 - 特許庁

Meanwhile, the processing liquid is supplied to the center of the substrate W by discharging the processing liquid toward the rotating center AO of the substrate W from the center processing nozzle 33.例文帳に追加

その一方で、中心処理ノズル３３から基板Ｗの回転中心Ａ０に向けて処理液を吐出させて、基板Ｗの中心部に処理液を供給する。 - 特許庁

A plurality of liquid processing units 2 for performing liquid-process to a substrate W are aligned mutually in the lateral direction, an exhaust tube 3 for exhausting an atmosphere in the liquid processing units 2 is provided under the plurality of liquid processing units so as to extend along the liquid processing units 2, and a liquid flow controlling equipment group 4 for supplying liquid is provided under the exhaust tube 3.例文帳に追加

基板Ｗに対して液処理を行うための複数の液処理ユニット２が互いに横方向に並べて配置され、液処理ユニット２内の雰囲気を排気する排気管３は、これら複数の液処理ユニット２の下方側に、当該液処理ユニット２の並びに沿って伸びるように配置され、給液用の通流制御機器群４は前記排気管３の下方側に設けられている。 - 特許庁

A liquid removal part for removing the drops from the processing liquid nozzle is provided in the lower part of a movement path of a processing liquid nozzle between openings of a plurality of cup bodies arranged in a lateral direction in a straight line so as to contact drops of the processing liquid dripping from the processing liquid nozzle moved by movement means.例文帳に追加

横方向に一列に配列された複数のカップ体の開口部間において処理液ノズルの移動路の下方側に、移動手段により移動する処理液ノズルから垂れた前記処理液の液滴に接触して、その液滴を処理液ノズルから除去するための液取り部が設けられている。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus uniformly processing the substrate with a processing liquid, and also to provide a method for processing the substrate.例文帳に追加

基板表面の全域に対して、処理液による処理を均一に施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which enables the in-plane uniformity of a substrate processing by processing a liquid to be improved, and also to provide a substrate processing method.例文帳に追加

処理液による基板処理の面内均一性を向上させることができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

The wafer holding portion 3 holds the wafer 1 with the processing surface 15 down and dips the processing surface 15 into the processing liquid 19 reserved in the processing tank 2.例文帳に追加

ウェハ保持部３は、ウェハ１の被処理面１５を下向きにして保持し、その被処理面１５を処理槽２に貯留されている処理液１９に浸漬させる。 - 特許庁

The developing apparatus includes a plurality of processing tanks with processing liquid, and a conveying unit attached to each processing tank so as to convey an exposed photosensitive material P while dipping the material P in the processing liquid.例文帳に追加

処理液を入れた複数の処理槽と、各処理槽に装着されるとともに露光済み感光材料Ｐを処理液に浸漬させながら搬送する搬送ユニットとを備えた現像処理装置。 - 特許庁

To prevent generation of failure in drying of a substrate in a substrate processing apparatus and a substrate processing method for picking up the substrate from a processing liquid and drying it after dipping the substrate into the processing liquid.例文帳に追加

基板を処理液に浸漬させた後、基板を処理液から引き上げて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板の乾燥不良が発生するのを防止する。 - 特許庁

Thus, the substrate does not contact with the processing liquid accumulated in the processing tank, and the structure prevents particles included in the processing liquid that was used for the substrate processing from reattaching to the substrate.例文帳に追加

そのため、基板は処理槽内に貯留された処理液と接触することがなく、基板処理に使用した後の処理液中に含まれるパーティクルが基板に再付着することを防止できる。 - 特許庁

The photosensitive material processing method for applying the processing liquid through a slit to the photosensitive material by supplying the processing liquid to the slot die consisting of at least the slip and manifold consists in returning at least a portion of the processing liquid in the slit to the supply side of the processing liquid after the end of the coating application.例文帳に追加

少なくともスリットとマニホールドからなるスロットダイに処理液を供給して、前記スリットを介して感光材料に処理液を塗布する感光材料処理方法であって、塗布終了後前記スリット内部の処理液の少なくとも一部を前記処理液の供給側へ戻すことを特徴とする。 - 特許庁

An out-tank processing rack 50 which supplies stabilization processing liquid while linearly conveying photographic paper in a horizontal direction to process the photographic paper is arranged above some of a plurality of stabilization processing tanks, and other stabilization processing tanks are equipped with an in-liquid rack 43 which conveys the photographic paper to below the liquid level of the stabilization processing liquid.例文帳に追加

複数の安定処理槽の一部に上方位置に、印画紙を水平方向に直線的に搬送しながら安定処理液を供給して処理を行う槽外処理ラック５０を配置し、他の安定処理槽に安定処理液の液面下に印画紙を搬送する液中ラック４３を備える。 - 特許庁

To provide an apparatus to prevent inverse flow of the atmosphere gas into the vacant processing vessel through a drain liquid pipe from a drain box when the processing liquid exhausted from the processing vessel through a drain liquid port at the bottom part of the processing vessel flows into the drain box through the drain liquid pipe.例文帳に追加

処理槽内から処理槽底部の排液口を通って排出された処理液が排液管を通ってドレンボックス内へ流入したときに、ドレンボックス内から雰囲気ガスが排液管を通って空の状態の処理槽内へ逆流することを防止できる装置を提供する。 - 特許庁

At a lower end 41b of the second guide cup 41, a guide member 81 is provided, which guides a processing liquid from the first guide cup 31 to the first processing liquid collection tank 61 and guides a processing liquid from the second guide cup 41 to the second processing liquid collection tank 62.例文帳に追加

第２案内カップ４１の下端部４１ｂに、第１案内カップ３１からの処理液を第１処理液回収用タンク６１に案内すると共に、第２案内カップ４１からの処理液を第２処理液回収用タンク６２に案内する案内部材８１が設けている。 - 特許庁

Here, the third liquid processing on an initial substrate of the substrate group is started before the first liquid processing on a final substrate of the substrate group ends so that the second liquid processing on the initial substrate can be performed immediately after the first liquid processing on the final substrate.例文帳に追加

基板群の最後の基板に第１の液処理を行った後、直ぐに基板群の最初の基板に第２の液処理を行うことができるように、最後の基板に行う第１の液処理が終了する前に、最初の基板に行う第３の液処理を開始する。 - 特許庁

To uniformly apply a processing liquid at all times by applying the processing liquid of only a necessary amount at all times to a recording medium even when a concentration of the processing liquid changes in a long using period of time in a recorder with an application means which applies the processing liquid for image quality improvement prior to recording.例文帳に追加

記録に先立って画質向上のための処理液を塗布する塗布手段を有する記録装置において、長期の使用期間において処理液の濃度が変化する場合でも、記録媒体に対し、常に必要な量だけの処理液を塗布し、常に均一に塗布することを可能にする。 - 特許庁

To provide a method for the cleaning treatment of an aqueous liquid for a processing metal capable of removing a fine metal powder with a particle size of 5 μm or less in the aqueous liquid for processing the metal used in the processing of the metal without lowering the liquid characteristics of the aqueous liquid for processing.例文帳に追加

金属加工に使用された金属加工用水性液中の粒径５μｍ以下の微粒金属粉を除去することができ、その際加工用水性液の液特性を低下させることのない金属加工用水性液の浄化処理方法を提供すること。 - 特許庁

The inkjet recording apparatus is provided on the upper-stream side in the paper feeding direction of a print part 12 with a processing-liquid ejection head 13 which ejects a processing liquid S for fixing ink onto a recording sheet 16 and on the further upper-stream side, with a processing-liquid coating part 19 which applies the processing liquid S to the recording sheet 16.例文帳に追加

印字部１２の紙送り方向上流側には記録紙１６へインクを定着させる処理液Ｓを打滴する処理液吐出ヘッド１３が備えられ、更にその上流側には記録紙１６へ処理液Ｓを塗布する処理液塗布部１９が備えられている。 - 特許庁

The processing liquid tank 10 which stores specified processing liquid is equipped with an inner cylinder 130 inside and stores the processing liquid outside the inner cylinder 100, and pipes 160a, 160b, and 160c in which a heating medium runs are arranged in the processing liquid.例文帳に追加

所定の処理液を貯留する処理液用タンク１００において，処理液用タンク１００内に内筒１３０を備え，前記内筒１３０の外側に処理液を貯留し，前記処理液中に，熱媒を通す配管１６０ａ，１６０ｂ，１６０ｃを配置することとした。 - 特許庁

To make a device more small-sized while maintaining the quality of development processing and to reduce the amount of processing liquid used for the development processing.例文帳に追加

現像処理の品質を維持しつつ装置の小型化を図ると共に、現像処理に使用する処理液の量を抑制する。 - 特許庁

A substrate processing device 1 includes a processing tank 3 for processing a substrate W with a processing liquid, a dry processing part 6 arranged above the processing tank 3, and a moving mechanism 8 for moving the substrate W between the processing tank 3 and the dry processing part 6.例文帳に追加

基板処理装置１は基板Ｗを処理液によって処理する処理槽３と、処理槽３の上方に配置された乾燥処理部６と、処理槽３と乾燥処理部６との間で基板Ｗを移動させる移動機構８とを備えている。 - 特許庁

The partial liquid filling section 2 may be provided with a processing liquid head of the same structure as that of an ink jet head.例文帳に追加

部分液盛り処理部２は、インクジェットヘッドと同様な構造の処理液ヘッドを備えていてもよい。 - 特許庁

A liquid plasma processing apparatus floating body 1 is forced to levitate above an untreated liquid 2 by a float 10.例文帳に追加

液体プラズマ処理装置浮体１は、フロート１０により非処理液体２上に浮揚されている。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus which can control scattering of the mist of process liquid to a substrate.例文帳に追加

基板に対する処理液のミストの飛散を抑制することができる液処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a waste liquid treating device which does not require the interruption of print processing even in waste liquid treatment.例文帳に追加

廃液処理時にも、プリント処理を中断する必要のない廃液処理装置を提供すること - 特許庁

PROCESSING METHOD FOR BOARD, MANUFACTURING METHOD OF BOARD FOR LIQUID DISCHARGING HEAD, AND MANUFACTURING METHOD FOR LIQUID DISCHARGING HEAD例文帳に追加

基板の加工方法、液体吐出ヘッド用基板の製造方法および液体吐出ヘッドの製造方法 - 特許庁

This image recording device 1 is equipped with a coating liquid processing part 5 which applies a coating liquid to a recording medium P.例文帳に追加

画像記録装置１は、記録媒体Ｐに対して塗布液を塗布する塗布液処理部５を備える。 - 特許庁

The chemical liquid processing of surface of the substrate 1 is executed using the chemical liquid supplied to the surface of the substrate 1.例文帳に追加

基板１の表面へ供給した薬液によって、基板１の表面の薬液処理が行われる。 - 特許庁

To provide a pump which precisely feeds processing liquid and has superior maintainability, liquid exchange property, etc.例文帳に追加

処理液を精度よく送液するとともに、メンテナンス性や液置換性等にも優れたポンプを提供する。 - 特許庁

By connecting a cover 60 to a processing liquid bath 50 for forming a liquid path and supply a liquid, processing (such as cleaning and drying) of the substrate by a liquid can be conducted efficiently, without taking the substrate out of the processing bath.例文帳に追加

そして、処理液槽５０に蓋体６０を接続して流体通路を形成し流体を供給することで、流体による基板の処理（例えば洗浄、乾燥）を効率よく、しかも基板を処理液槽から取り出すことなく行える。 - 特許庁

The new liquid supply device 70 is formed in such a manner that a predetermined amount of new liquid L is added to the processing liquid L in the storage tank 11 or the processing liquid L that is refluxed to the storage tank 11 from the adsorbing containers 32 and 33, whenever the substrate K is carried out from the processing tank 11.例文帳に追加

新液供給装置70は、処理槽11から基板Kが搬出される度に、所定量の新液Lを、貯留槽11の処理液L、又は吸着容器32,33から貯留槽11に還流される処理液Lに添加するように構成される。 - 特許庁

The developer processor detects a member held in the state of being immersed in the processing liquid in the processing tub and moved in the processing tub by the fluctuation in the specific gravity of the processing liquid, and replenishes the processing tub with water on the basis of the result of the detection.例文帳に追加

処理槽内の処理液に浸漬された状態にあり、処理液の比重変動により処理槽内を移動する部材を検知して、その検知結果に基づいて処理槽への水の補給を行う現像処理装置。 - 特許庁

Furthermore, the substrate processing apparatus includes a supply means (for example, circulation pump 6 and supply piping 7) for supplying the processing liquid 3 into the processing tank 2, and a rotary member (for example, stirrer 21) configured to rotate to stir the processing liquid 3 in the processing tank 2.例文帳に追加

処理液３を処理槽２内へ供給する供給手段（例えば、循環ポンプ６及び供給配管７）と、回転することによって処理槽２内の処理液３を撹拌する回転部材（例えば、スターラ２１）を備える。 - 特許庁

Liquid crystals are so supplied that the liquid crystals come into contact only the liquid crystal injection hole 21a in the state that the processing to generate the negative pressure ends.例文帳に追加

該負圧にする処理の終えた状態において液晶注入孔21a のみに液晶が接するように液晶を供給する。 - 特許庁