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processing solutionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1335件
PROCESSOR FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL AND METHOD FOR CIRCULATING PROCESSING SOLUTION例文帳に追加
感光材料用処理装置及び処理液の循環方法 - 特許庁
WASHING SOLUTION FOR DEVELOPING BATH OF AUTOMATIC PROCESSING MACHINE AND WASHING METHOD例文帳に追加
自動現像機の現像浴の洗浄液及び洗浄方法 - 特許庁
a liquid solution used in photographic image processing, called accelerator 例文帳に追加
現象促進剤という,写真の現像を促進させる薬剤 - EDR日英対訳辞書
When processing a substrate with a phosphor acid solution, a control section 51 stores a new phosphor acid solution in a processing tank 1 at first.例文帳に追加
制御部51は、燐酸溶液で基板を処理するにあたり、まず、処理槽1に燐酸溶液の新液を貯留させる。 - 特許庁
In the automatic developing processor for a silver halide photographic sensitive material, a step of jetting a processing solution containing an oxidizing agent is carried out after a step of jetting a processing solution having fixing capacity.例文帳に追加
定着能を有する処理液を噴射する工程の後に、酸化剤を含有する処理液を噴射する。 - 特許庁
The cartridge supplies fresh photographic processing solution or chemistry to a photoprocessing machine and recovers silver from spent processing solution.例文帳に追加
原板処理機械に新しい写真処理溶液またはケミストリーを供給して、銀を使用済み処理液から回収するカートリッジ。 - 特許庁
To surely replenish a processing solution to a stock tank ST in a processing solution replenishing device S provided with a storage part ST for storing the processing solution sent from a cartridge C and a replenishing means SP for sending the processing solution stored in the storage part ST to a processing tank Ta for processing a photosensitive material.例文帳に追加
本発明は、カートリッジCから送られる処理液を貯留する貯留部STと、貯留部STの処理液を感光材料の処理を行う処理槽Taに送る補充手段SPとを備えた処理液補充装置Sにおいて、ストックタンクSTへの処理液の充填を確実に行うことを目的とする。 - 特許庁
A developing solution as a processing solution is fed into the closed vessel to make the substrate to undergo still development, and then rinses are supplied so as to discharge the processing solution from the closed vessel.例文帳に追加
そして密閉容器内に処理液例えば現像液を供給して静止現像を行い、次いでリンス液を供給して前記処理液を排出する。 - 特許庁
A control unit 59 controls the substrate processing apparatus to supply hydrophobizing solution into a processing tank 1 in order to replace pure water in the processing tank 1 with the hydrophobizing solution and to reform a substrate W with the hydrophobizing solution.例文帳に追加
制御部59は、処理槽1に疎水化溶液を供給させて、処理槽1内の純水を置換させるとともに、疎水化溶液により基板Wの改質処理を行わせる。 - 特許庁
The printing plate (11) is coated with the development processing solution (5) the film thickness of which is controlled at specified time intervals, and the development processing solution on the printing plate (11) is replaced with the new development processing solution at the specified time intervals.例文帳に追加
膜厚が制御された現像処理液5を、版面11に所定時間間隔で塗布し、版面上の現像処理液を所定時間間隔で、新たな現像処理液に置換する。 - 特許庁
The development processing is performed by keeping the belt 103 impregnated with the processing solution, such as the developing solution, and reacting the processing solution oozed out of the belt 103 with the emulsion layer of the photographic film 1.例文帳に追加
処理液塗布ベルト103に現像液などの処理液を含浸させておき、処理液塗布ベルト103からしみ出させた処理液を写真フィルム1の乳剤層に反応させて現像処理を行う。 - 特許庁
To provide a chemical solution treatment method by which the uniformity of processing with a chemical solution is enhanced by moving the chemical solution on a substrate to be treated without direct contact with the chemical solution.例文帳に追加
薬液と直接接触することなく、被処理基板上で薬液を移動させることで、薬液の加工の均一性を向上させる薬液処理方法を提供する。 - 特許庁
When the solution is improved, a better solution is obtained by adopting the neighborhood operation and repeating such processing.例文帳に追加
改善されていれば、その近傍操作を採用し、この処理を繰り返すことでより良い解を得る。 - 特許庁
FUNCTIONAL FIBER, ITS PRODUCTION, PROCESSING SOLUTION FOR FUNCTIONAL FIBER例文帳に追加
機能性繊維、その製造方法及び機能性繊維の加工溶液 - 特許庁
SYSTEM FOR ACCEPTING THIRD PARTY'S IMAGE PROCESSING SOLUTION IN ITS SCANNER例文帳に追加
スキャナ内にサードパーティの画像処理用ソリューションを受け入れるシステム - 特許庁
ACTIVATED CHARCOAL HOUSING BODY, AND METHOD FOR TREATING PROCESSING SOLUTION WITH ACTIVATED CHARCOAL例文帳に追加
活性炭収容体および被処理液の活性炭処理法 - 特許庁
ACTIVE DNS DEVICE AND NAME SOLUTION PROCESSING METHOD THEREOF AND PROGRAM例文帳に追加
アクティブDNS装置とその名前解決処理方法およびプログラム - 特許庁
METHOD OF SEARCHING SOLUTION BY RECONFIGURATION UNIT, AND DATA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
再構成ユニットによる解探索の方法およびデータ処理装置 - 特許庁
PROCESSING METHOD AND DEVELOPING SOLUTION FOR PHOTOSENSITIVE PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE MATERIAL例文帳に追加
感光性平版印刷版材料の処理方法および現像液 - 特許庁
MANAGEMENT SYSTEM AND MANAGEMENT METHOD AND MANAGEMENT PROGRAM FOR DEVELOPMENT PROCESSING SOLUTION例文帳に追加
現像処理液の管理システム及び管理方法及び管理プログラム - 特許庁
The photographic developing device is equipped with the solution processing section for processing photographic sensitive materials by processing solution, in which the solution processing section is equipped with a gas discharge path for discharging the gas produced from the processing solution to the outside of the device body and is provided with a gas decomposition function section for decomposing the gas produced from the processing solution within the gas discharge path.例文帳に追加
写真感光材料を処理液で処理するための液処理部を備え、液処理部は、処理液から発生したガスを装置本体外部に排出するためのガス排出路を備えている写真用現像装置において、ガス排出路中に、処理液から発生したガスを分解するためのガス分解機能部が設けられていることを特徴とする構成とした。 - 特許庁
To easily process an ejection port with a good accuracy to uniformly supply a processing solution into a processing bath.例文帳に追加
噴出口を容易に精度良く加工して、処理槽内に処理液を均一に供給する。 - 特許庁
PROCESSING SOLUTION FOR SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL AND PROCESSING METHOD FOR SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL例文帳に追加
ハロゲン化銀写真感光材料の処理液及びハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 - 特許庁
To provide a color sensitive material processing apparatus and processing method in which a processing apparatus using slot die is further improved and fixing and crystallization of processing solution in a processing solution coating section are completely prevented by a small amount of cleaning liquid and stable coating of the processing solution is conducted from a processing tip section of the photosensitive material.例文帳に追加
スロットダイを用いた処理装置の更なる改良を行うもので、処理液塗布部の処理液の固着結晶化を少量の洗浄液で完全に防止し、かつ感光材料の処理先端部から安定した処理液塗布を行う感光材料の処理装置及び処理方法を提供すること。 - 特許庁
In the processing method for a silver halide photographic material, when the material is repeatedly passed in a processing solution at a temperature suitable for processing, it expends most of the processing time at the outside of the processing solution and the viscosity of the processing solution at the processing temperature is in the range of 0.7-5 cP.例文帳に追加
ハロゲン化銀写真材料を処理に適した温度の処理液内に繰り返し通す際、該材料がその処理時間の大部分を処理液外で費やし、そして該処理液の処理温度における粘度が0.7〜5 cPの範囲内にあることを特徴とするハロゲン化銀写真材料の処理方法。 - 特許庁
The processing apparatus a silver halide photosensitive material which stops stirring the processing solution upon detecting a predetermined elapsed time, after processing has ended and stirs the processing solution on detecting the temperature of the processing solution dropping lower than a predetermined temperature.例文帳に追加
処理終了後に所定時間を経過したことを検知すると処理液の撹拌を停止させ、処理液の温度が所定温度よりも低くなったことを検知すると処理液の撹拌を行うように制御したハロゲン化銀写真感光材料の処理装置。 - 特許庁
To provide an aqueous processing solution for a fixed abrasive grain wire saw, which controls the thickening of a processing solution contaminated by swarf, also controls the reaction between the processing solution and the swarf as well as the generation of hydrogen, even further controls the thickening and gelation of the processing solution contaminated by the swarf.例文帳に追加
切り屑が混入した加工液の増粘を抑制でき、加工液と切り屑との反応を抑制して水素の発生を抑制でき、さらに、切り屑が混入した加工液の増粘・ゲル化を抑制できる、固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液を提供する。 - 特許庁
To protect a device formed on a substrate as the processing object and also improve solution processing efficiency by controlling the static charge on the substrate generated during the solution processing.例文帳に追加
液処理中に生じる被処理基板の帯電を抑制して、被処理基板に形成されるデバイスの保護を図ると共に、液処理効率の向上を図れるようにすること。 - 特許庁
To provide a photographic processing device in which the washing effect of a photographic printing paper carrying mechanism is enhanced without obstructing the maintenance of a processing solution in a processing solution tank.例文帳に追加
処理液槽の処理液のメンテナンスに支障をきたすことなく、印画紙の搬送機構の洗浄効果を高めることの出来る写真処理装置を提供する。 - 特許庁
By these arrangements, the processing solution flows out immediately on each processing bath, and the remaining processing solution among each of the holding protrusions 3a to the holding protrusions 6a can be suppressed.例文帳に追加
これにより、処理液は、各処理槽上で直ちに流出して、前記支持凸部3a乃至支持凸部6a各々同士間の処理液の残留が抑制できる。 - 特許庁
MEDICAL SOLUTION INJECTING DEVICE, FLUOROSCOPIC SYSTEM HAVING THE MEDICAL SOLUTION INJECTING DEVICE, AND COMPUTER PROGRAM AND DATA PROCESSING METHOD OF MEDICAL SOLUTION INJECTING DEVICE例文帳に追加
薬液注入装置、この薬液注入装置を有する透視撮像システム、薬液注入装置のコンピュータプログラムおよびデータ処理方法 - 特許庁
To provide a processing solution discharging device which can effectively prevent liquid from dripping from a nozzle body after intercepting supply of the processing solution.例文帳に追加
処理液の供給を遮断した後に、ノズル体から液垂れするのを効果的に防止することができる処理液吐出装置を提供する。 - 特許庁
To bring the lower surface of a cover into contact with a processing solution so as to be preventable a substrate from being contaminated by the processing solution condensed on the cover.例文帳に追加
カバー下面に処理液を接触させておくことにより、カバーに結露した処理液に起因する基板の汚染を防止することができる。 - 特許庁
DEVELOPING SOLUTION FOR SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL AND PROCESSING METHOD FOR THE SAME例文帳に追加
ハロゲン化銀写真感光材料用現像液及びその処理方法 - 特許庁
To efficiently aid the solution of an abnormality generated in a device by on-line processing.例文帳に追加
デバイスの異常解決の支援をオンラインにより効率的に行う。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR DATA PROCESSING FOR OBTAINING OPTIMUM COMBINATION SOLUTION例文帳に追加
組合せ最適解を求めるデータ処理方法およびデータ処理装置 - 特許庁
CHARACTER STRING COMPARISON PROCESSING METHOD AND SYSTEM IN IDENTIFIER REFERENCE SOLUTION例文帳に追加
名標参照解決における文字列比較処理方法及びシステム - 特許庁
DECELLULAR PROCESSING METHOD OF LIVING TISSUE BY HYPERTONIC ELECTROLYTE SOLUTION例文帳に追加
高張電解質溶液による生体組織の脱細胞化処理方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR DATA PROCESSING OF FINDING COMBINATORIAL OPTIMUM SOLUTION例文帳に追加
組合せ最適解を求めるデータ処理方法およびデータ処理装置 - 特許庁
To suppress a processing solution from dripping from rear end of a photosensitive medium.例文帳に追加
処理液が感光媒体の後端部から垂れ落ちるのを抑制する。 - 特許庁
METHOD OF REDUCING DEFECTS IN MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND PROCESSING SOLUTION例文帳に追加
半導体デバイス製造の際の欠陥低減方法及び処理溶液 - 特許庁
The processing solution 4 is allowed to flow through an output port to the wafer 2 back face.例文帳に追加
処理液4は投下口13を通ってウエハ2裏面へ流れ込む。 - 特許庁
The processing solution supply unit 30 selectively delivers the recovered solution from the first and second discharge solution lines 42b and 44b to the processing unit 10.例文帳に追加
処理液供給部30は、第1の排液ライン42bから送られた回収液および第2の排液ライン44bから送られた回収液を選択的に処理部10に供給する。 - 特許庁
The controller compares the residual volume of processing solution in the supply cartridge with the amount of the processing solution needed for processing a specific roll of loaded film and controls the processing machine according to the comparison.例文帳に追加
コントローラは、補給カートリッジ内の処理液の残存量を挿入された特定フィルムを処理するために必要な処理液の量と比較し、この比較に応じて処理機の動作を制御する。 - 特許庁
To provide an apparatus for processing a photosensitive material which makes an additional improvement of the apparatus for processing using a slot die and prevents the crystallization by fixation of a processing solution of a processing solution coating application section.例文帳に追加
本発明の目的は、スロットダイを用いた処理装置の更なる改良を行なうもので、処理液塗布部の処理液固着結晶化を防止した感光材料の処理装置を提供することである。 - 特許庁
Then, prior to etching processing, the non-resist region of the rolled aluminum foil exposed in the non-resist section is treated by any water solution selected from a group including a sodium hydroxide water solution, a sodium carbonate water solution, a sodium phosphate water solution, a phosphoric acid water solution, a nitric acid water solution, and a chromic acid water solution.例文帳に追加
その後、エッチング処理前に、非レジスト部において露出している圧延アルミニウム箔の非レジスト部位を、水酸化ナトリウム水溶液,炭酸ナトリウム水溶液,燐酸ナトリウム水溶液,燐酸水溶液,硝酸水溶液及びクロム酸水溶液よりなる群から選ばれた水溶液で処理する。 - 特許庁
In the development processing, a mixed solution prepared by mixing a developing solution and a solution having a smaller specific gravity than the developing solution has with each other is supplied to the surface of a substrate, and the substrate is left as it is for a fixed period of time.例文帳に追加
現像処理時、現像液と現像液より比重の小さい溶液とが撹拌されてなる混合液を基板表面に供給し、一定時間放置する。 - 特許庁
To reduce a size of a device while maintaining the quality of development processing and to suppress an amount of a processing solution used in development processing.例文帳に追加
現像処理の品質を維持しつつ装置の小型化を図ると共に、現像処理に使用する処理液の量を抑制する。 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus capable of both improving the uniformity of processings by a processing solution and efficiently substituting the processing liquid stored in the processing chamber by the other processing solution.例文帳に追加
処理の状況に応じて、処理液による処理の均一性を向上させることも、処理槽の内部に貯留された処理液を他の処理液に効率よく置換させることもできる基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
The processing device for processing a substrate with processing solution comprises a chamber for processing the substrate with processing solution, and a Peltier element 13 for making the temperature of the substrate which is carried-in to be processed into the chamber lower than the temperature in the chamber.例文帳に追加
基板を処理液によって処理する処理装置であって、 基板を処理液によって処理するチャンバと、チャンバ内に搬入されて処理される基板の温度を、上記チャンバ内の温度よりも低くするペルチェ素子13を具備する。 - 特許庁
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