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processing solutionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1335件
Next, a substrate 101 is pulled up from the processing solution, and hydrochloric acid adhered to the surface of the cap layer 105 is immediately removed.例文帳に追加
次に、基板101を処理液中より引き上げ、直ちにキャップ層105の表面に付着している塩酸を除去する。 - 特許庁
This measuring device S of the metal content in the acid solution is constituted of a spectral part 1, a sampling part 2 and a data processing part 3.例文帳に追加
酸溶液の金属含有量の測定装置Sは、分光部1と、サンプリング部2と、データ処理部3とで構成されている。 - 特許庁
Accordingly, the influence due to mingling of the liquid W and the developing solution 32 is prevented from being exerted on liquid development processing.例文帳に追加
したがって、液体Wと現像液32と混ざり合うことによる影響が液体現像処理に及ぶのを防止している。 - 特許庁
The air bubbles are removed in air bubble removal parts 61, 62 provided in the middle of the passage of a circulation system 40 for the processing solution.例文帳に追加
そして、処理液の循環系40の経路途中に設けられた気泡除去部61,62において気泡を除去する。 - 特許庁
The apparatus for concentrating a kind of technetium-99m pertechnetate solution comprises a concentration unit, a controller and a central arithmetic processing unit.例文帳に追加
本発明はテクネチウム−99m過テクネチウム酸溶液の一種の濃縮装置及びその方法に関するものである。 - 特許庁
PROGRAMMABLE CONTROLLER, COMMUNICATION UNIT, CONTROLLER SYSTEM, DATA PROCESSING METHOD, VARIABLE SOLUTION METHOD AND DATA EXCHANGE METHOD例文帳に追加
プログラマブルコントローラおよび通信ユニットならびにコントローラシステムおよびデータ処理方法ならびに変数解決方法およびデータ受渡方法 - 特許庁
The above procedure is repeated by a determined frequency of times to determine the solution of a plurality of sets of manufacture instruction quantities subjected to optimization processing.例文帳に追加
以上を決められた回数だけ繰り返して最適化処理がなされた複数の製造指示量の組の解を求める。 - 特許庁
This used error processing system has an information terminal 2, an error correspondence information processor 1, and a solution method database 15.例文帳に追加
情報端末2とエラー対応情報処理装置1と解決方法データベース15とを具備するエラー処理システムを用いる。 - 特許庁
The solution of the minimum costs that completely fulfills the resource requirements of the firm and that is found out after the tree topology network is traversed by the partitioned greedy recursive processing is regarded as the solution set of the device.例文帳に追加
ファームのリソースの要件を完全に満足し、かつ、ツリートポロジーネットワークが分割貪欲型再帰処理によって巡回された後に見つけ出された最小コストの解が、デバイスの解集合とみなされる。 - 特許庁
In particular, the transportation schedule is prepared by using a so-called genetic algorithm for preparing an initial solution group composed of a plurality of initial solutions and improving the prepared initial solution group in genetic processing.例文帳に追加
特に、複数の初期解からなる初期解集団を作成し、作成した初期解集団を遺伝的処理により改良する、いわゆる遺伝的アルゴリズムを用いて輸送計画を作成する。 - 特許庁
To provide a developing solution having improved preservability and crystal depositing property of a developing solution using dihydroxybenzene as a developing agent, containing reductones and not containing a boron compound and to provide a processing method.例文帳に追加
ジヒドロキシベンゼンを現像主薬とし、レダクトン類を含有しホウ素化合物を含有しない現像液の液保存性、及び結晶析出性が改良された現像液、及び処理方法を提供する。 - 特許庁
With respect to each Shinkansen bullet train, a predetermined number of solution candidates for type-specific setting planning are set, and demand prediction calculation processing is performed to each of the set predetermined number of solution candidates.例文帳に追加
各新幹線列車それぞれについて、席種別設定計画とする所定数の解候補が設定され、設定された所定数の解候補それぞれに対して、需要予測算出処理が行われる。 - 特許庁
To provide a bleach fixing solution for a silver halide color photographic sensitive material which has rapid desilvering performance, causes little surface deposition and ensures little yellow stain after image preservation and to provide a processing method using the solution.例文帳に追加
迅速な脱銀性を有し、かつ処理液界面の析出が少なく、画像保存後のイエローステインが少ない感光材料用漂白定着液及びこれを用いた処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a dissolving apparatus that can efficiently dissolve undissolved components contained in solution and that hardly causes change in viscosity of the solution through an extended dissolving processing time.例文帳に追加
溶解液に含まれる未溶解成分を効率よく溶解することができるとともに、溶解処理時間を長くすることによる溶解液の粘度の変化が生じにくい溶解装置を提供すること。 - 特許庁
The 1st bridging processing is carried out by dipping the swelled polymer film in a solution containing a bridging agent, and the bridging agent concentration in the solution is preferably 8 to 100 saturation %.例文帳に追加
前記第1の架橋処理は、架橋剤を含有する溶液に前記膨潤ポリマーフィルムを浸漬することによって行い、前記溶液の架橋剤濃度は、8〜100飽和%であることが好ましい。 - 特許庁
Protein molecules are cross-linked by processing the protein materials with 1-100μM polyphenol aqueous solution or 95% ethanol aqueous solution at 4°C or 25°C for 1 to 24 hours, and stability in water and body fluid is granted.例文帳に追加
1-100μMのポリフェノール水溶液もしくは95%エタノール溶液によりタンパク質材料を4℃もしくは25℃で1-24時間処理することで、タンパク質分子を架橋し、水中、体液中での安定性を付与する。 - 特許庁
The method for producing a tea-leaf processed product using an extruder and sugar solution comprises processing tea leaves with an extruder while supplying 1-100 wt.% of sugar solution to 100 wt.% of the tea leaves under the pressure of 0.2-30 MPa at 80-150°C for 5-600 sec.例文帳に追加
茶葉を80〜150℃、0.2〜30MPa、及び5〜600秒の条件下において、糖水溶液を、茶葉100重量に対し1〜100重量で供給しながらエクストルーダ加工する、茶葉加工品の製造方法を提供する。 - 特許庁
In the coating die for the solution film-forming which discharges the dope comprising the solution containing at least one kind or more of polymers where round processing (R-processing) with the die lip tip rounded into a circular arc shape is applied, an R-processing width is made to be smaller than 0.0050 mm.例文帳に追加
少なくとも1種類以上のポリマーを含む溶液からなるドープを吐出する溶液製膜用コーティングダイであって、ダイリップ先端部を円弧状に丸めたラウンド加工(R加工)を施した前記ダイにおいて、R加工幅を0.0050mm未満にしたことを特徴とする溶液製膜用コーティングダイ。 - 特許庁
The cleaning processing apparatus 1 has a cleaning processing unit 3 comprising a chamber room 3b in which a chamber 70 is arranged, a utility room 3c in which a solution supply mechanism supplying a processing solution to the chamber 70 and others are mainly arranged, and a wafer transfer room 3a in which a rotor 34 holding wafers is arranged.例文帳に追加
液処理装置の一実施形態である洗浄処理装置1は、チャンバ70が配設されたチャンバ室3bと、チャンバ70へ処理液を送液する送液機構等が主に配設されたユーティリティ室3cと、ウエハWを保持するロータ34が配設されたウエハ移載室3aとからなる洗浄処理ユニット3を有する。 - 特許庁
Therefore, when a wafer W which is wet with a processing solution is carried to the high- pressure processing unit 26, even if the processing solution adhering to the substrate W or its evaporation material is moved to the main carrying path 21, the developing units 231, 232, and 243 exist before the main carrying path 21.例文帳に追加
したがって、処理液で濡れた基板Wを高圧処理ユニット26に搬送している際に、基板Wに付着している処理液、またはその蒸発物が主搬送路21側に移動しようとしても、主搬送路21に至るまでに現像処理ユニット231,232,243が介在することとなる。 - 特許庁
By the special mutation processing for dynamically controlling the mutation probability, it is made possible to improve the probability of reaching an optimum solution regardless of a local solution, while maintaining the effect of increasing the rate of approaching the optimum solution.例文帳に追加
このような突然変異確率を動的に制御する特殊な突然変異処理によって、最適解に近づく速度の向上という効果を維持しつつ、局所解に捕らわれずに最適解に到達する確率が向上するという効果を両立させることができる。 - 特許庁
This processing method comprises soaking green vegetables in an alkali aqueous solution, heating the vegetables in hot water or steam, and further soaking the vegetables in an aqueous solution containing a substance having bacteriostatic action or spraying an aqueous solution containing a substance having bacteriostatic action to the vegetables.例文帳に追加
緑色野菜をアルカリ性水溶液に浸漬し、次に野菜を熱水または蒸気中で加熱し、更に野菜を静菌作用を有する物質を含有する水溶液に浸漬するか、または該野菜に静菌作用を有する物質を含有する水溶液を噴霧する。 - 特許庁
To provide a processing method for a silver halide photographic sensitive material for an image setter in which high contrast and superior running characteristics are ensured and rapid processing and processing under low replenishment can be carried out in processing with a developing solution not substantially containing hydroquinone.例文帳に追加
本発明の目的は、実質的にハイドロキノンを含有しない現像液の処理において、硬調で、ランニング特性に優れ、かつ迅速処理及び低補充処理が可能なイメージセッター用ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供することにある。 - 特許庁
The glass substrate is immersed in a chemical processing solution, which is replaced with a new chemical processing solution before its quality is degraded by the increase in the number of reaction products, and a part or the whole of the surface of the substrate is processed at a polishing velocity of 10 μm/min or less.例文帳に追加
ガラス基板を化学加工液に浸漬し、反応生成物の増加により品質が劣化する前の化学加工液を新たな化学加工液に交換すると共に、ガラス基板表面の一部または全部を10μm/分以下の研磨加工速度で加工する。 - 特許庁
To provide a processing solution for a silver halide photographic sensitive material which causes no change to sensitivity and gamma independently of storage conditions and a preparation method and ensures good stability of sensitivity and gamma in running even when used as a development replenisher solution and to provide a processing method.例文帳に追加
保存条件下及び調製の方法による感度、ガンマの変動がなく現像補充液として用いた場合もランニングにおける感度およびガンマの安定性が良好なハロゲン化銀写真感光材料の処理液及び処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a solid processing agent for silver halide photography having such high-speed solubility that it does not pack by sedimentation immediately after putting in water, dissolves quickly and becomes a homogeneous processing solution, even in an automatic processing machine using an existing concentrate type processing agent, without requiring a cost-increasing dissolution accelerating unit, and to provide a processing method using the solid processing agent.例文帳に追加
コスト高となる溶解促進装置を必要とせず、既存の濃縮液タイプの処理剤を使用する自動現像機であっても、水中に投入後、直ぐに沈降して1カ所に固まること無く、素早く溶解し均一な処理液となる高速溶解性のハロゲン化銀写真用固体処理剤及びこれを用いた処理方法を提供する。 - 特許庁
The substrate-processing equipment performs a detour-preventing processing, by supplying a first processing liquid toward the surface of a substrate W and therewith performs a film-removing processing, by supplying a second processing liquid toward the back face of the substrate W, where a fluorine-based inert liquid and a hydrofluoric acid aqueous solution, which are mutually insoluble, are used as the first and second processing liquids.例文帳に追加
基板Wの表面に向けて第1処理液を供給して回込防止処理を行うとともに、基板の裏面に向けて第2処理液を供給して膜除去処理を行う基板処理装置において、第1および第2処理液として、互いに難溶性のフッ素系不活性液体およびフッ酸水溶液を用いている。 - 特許庁
When specified processing, e.g. etching, is performed using a specified processing liquid of alkaline solution, for example, onto a substrate at least the surface part of which is composed of silicon or a silicon oxide, the specified processing is performed by immersing the substrate into a processing bath filled with the processing liquid and applying a specified voltage to the substrate immersed into the processing bath.例文帳に追加
少なくとも表面部がシリコン又はシリコン酸化物からなる基板に対して、例えばアルカリ溶液である所定の処理液を用いて例えばエッチングなどの所定の処理を行う際に、処理液が満たされた処理浴に基板を浸漬して所定の処理を行うと共に、この処理浴中に浸漬された基板に所定の電圧を印加する構成とする。 - 特許庁
To provide a method capable of simple continuous incineration processing for waste water containing combustible solid and/or combustible semi-solid without clogging of a line even when waste solution processing equipment is installed at a remote position without provision of a strainer and a sedimentation tank.例文帳に追加
工業的に有利に可燃性固形物及び/または可燃性半固形物を含有する廃水を連続的に焼却処理することができる焼却方法の提供。 - 特許庁
To provide an image forming method that enables dry type rapid processing, gives a sharp image, improves continuous processing stability and unnecessitates the daily control of a solution and the maintenance of equipment.例文帳に追加
ドライ感覚で迅速処理可能で、鮮鋭な画像を得ることが出来、連続処理安定性が改良され、日々の液管理や機器のメンテナンスが不要な画像形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a substrate surface processing apparatus capable of suppressing degradation of an etching speed due to stay of a low-concentration medical solution, in a substrate surface processing apparatus of a horizontal transport method.例文帳に追加
水平搬送方式の基板表面処理装置において、低濃度薬液の滞留によるエッチング速度の低下を抑えることのできる基板表面処理装置を得ること。 - 特許庁
The use of the contraction correction equation obtains an apparatus achieving operation processing-amount reduced high-speed processing in obtaining the optimum solution by repeatedly correcting the variable.例文帳に追加
変数を修正することを繰返して最適解を求める際に、縮小修正方程式を用いることにより、演算処理量を減らした高速処理を実現できる装置が得られる。 - 特許庁
The grooves in the circumferential direction are formed by mechanical texture processing carried out through a processing solution where very small diamond abrasive grains are dispersed between a process tape and the rotating glass substrate surface.例文帳に追加
周方向の溝は加工テープと回転するガラス基板表面の間に微細ダイヤモンド砥粒を分散させた加工液を介在させて行なうメカニカルテクスチャ加工によって形成されている。 - 特許庁
Particularly, the plurality of track management parts 5 perform the state update of tracks, while n-Best solution search is executed in the MHT processing part 4, whereby the processing time is reduced.例文帳に追加
特に、MHT処理部4においてn−Best解探索を実施している間に、複数の航跡管理部5が航跡の状態更新を行うことで、処理時間を短縮する。 - 特許庁
To provide a silver halide photographic sensitive material for laser exposure having improved antistatic performance, conveyability and stickiness and ensuring improved contamination of a processing solution under low replenishment and to provide a processing method for the material.例文帳に追加
帯電防止性、搬送性、クッツキ性、低補充における処理液汚れを改良したレーザー露光用ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a substrate holding cassette, which is highly effective in suppressing the residual of processing solution, and which is capable of reducing the cost of cleaning process and enhancing the processing effect of cleaning.例文帳に追加
処理液の残留を抑制する効果が高く、洗浄処理の低コスト化が可能であるとともに、洗浄の処理効果を向上することができる基板保持カセットを提供すること。 - 特許庁
To provide a processing method for a silver halide photographic sensitive material capable of lowering the concentration of ammonium ions in a processing solution without incurring precipitation of a fixing agent or sulfurization in a passage roller section.例文帳に追加
定着剤の析出や渡りローラー部への硫化を招かずに処理液のアンモニウムイオン濃度を低減することが可能なハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a language processing system and a language processing method for this system which automatically perform operation address solution even in the case that there are plural segments where addresses for arrangement and those for operation are different.例文帳に追加
配置時アドレスと動作時アドレスが異なるセグメントが複数ある場合においても、動作アドレス解決の自動化を可能にする言語処理システム及びその言語処理方法を提供する。 - 特許庁
The optimization processing part 1 comprises an optimal solution calculation part 11 for performing simulations with candidate solutions to calculate an optimal solution, an intermediate solution storage part 12 for storing solutions in the process of calculation (intermediate solutions), and a communication processing part 13 for establishing communication with the portable terminal device 3, terminal device 4 and Web server 5 via the cellular telephone network and the Internet 10.例文帳に追加
最適化処理部1は、候補解によるシミュレーションを行って最適解を算出する最適解計算部11と、算出途中の解(途中解)を記憶する途中解記憶部12と、携帯電話網やインターネット網10を介して携帯端末装置3、端末装置4、及びウェブサーバ5と通信を行う通信処理部13とを備える。 - 特許庁
As a result, a flow direction of the processing solution flowing through the tubular member 12 is converted, so as to be perpendicular thereto and be directed in the direction parallel to a plate surface of the substrate within the bath 1, and processing solution subjected to the direction conversion is supplied into the bath 1 through an ejection port 17 made in a flat surface 14a from a solution ejection side passage 16.例文帳に追加
これにより、管体12内を流れる処理液の流れ方向を、それに直交して処理槽1内の基板の板面と平行な方向に向かわせるように転換し、その方向転換された処理液を液噴出側通路16内より平坦面14aに開口形成した噴出口17から処理槽1内に供給する。 - 特許庁
To provide a processing composition for a silver halide photographic sensitive material capable of suppressing uneven development due to foam generated in a developing solution, particularly a first black-and-white developing solution for reversal color photography without causing muddiness or precipitation in a composition and the developing solution and to provide an antifoaming method and a processing method using the composition.例文帳に追加
組成物や現像液中に濁りや沈殿を生じることなく、現像液、特に反転カラー写真第一白黒現像液で生じる泡に起因する現像ムラを低減できるハロゲン化銀写真感光材料用処理組成物及び消泡方法ならびに上記組成物を用いる現像処理方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a substrate peripheral processing device and a substrate peripheral processing method which can achieve properly etch-remove a copper film from the substrate peripheral portion corresponding to states of an etching solution and to provide a substrate peripheral processing device and a method which do not need to prepare a plurality of recipes corresponding to the thickness of the copper thin films.例文帳に追加
エッチング液の状態に応じた適切な処理を行って、基板の周縁部の銅膜を良好にエッチング除去することができる基板周縁処理装置および基板周縁処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a silver halide photographic sensitive material having high sensitivity and suitability to rapid processing, excellent in processing stability even in a system in which the amount of a processing solution replenished is small and less liable to spot trouble due to heavy metals, dust in the air, etc.例文帳に追加
高感度で迅速処理適性を有し、処理液の補充量が少ないシステムでも処理安定性に優れ、かつ重金属や大気中の塵などによるスポット故障の少ないハロゲン化銀写真感光材料を提供する。 - 特許庁
To provide a processing apparatus and a processing method for a substrate wherein even when uneven brightness or the like occurs on the surface of a resist in scan application of the resist, the uneven brightness or the like can be made flat, and hence the thickness of an applied film of a processing solution such as the resist can also be made uniform.例文帳に追加
レジストのスキャン塗布において、筋ムラ等が発生した場合でもそれを平坦化し、レジスト等の処理液の塗布膜厚を均一にすることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。 - 特許庁
A decryption processing apparatus decrypts the encrypted data encrypted by the encryption processing apparatus, and in this case, the apparatus uses a solution used for encrypting the encrypted data in the encryption processing apparatus and a file name of the encrypted data.例文帳に追加
復号化処理装置は、暗号化処理装置で暗号化された暗号化データを復号化するが、その場合に、暗号化処理装置で暗号化データを暗号化する際に用いた解と、その暗号化データのファイル名を用いる。 - 特許庁
At the time of second fixing processing, proper pH is held on the squeezing roller due to former squeezing treatment of the fixing solution and consequently even when the fixing processing of the first time is insufficient, sufficient fixing processing is performed at the second time.例文帳に追加
この2回目の定着処理時には前記絞りローラ上が先の定着液の絞り処理によって適切なPHになっているので、1回目の定着処理が不十分であっても2回目で十分な定着処理が行われる。 - 特許庁
The information subjected to deficiency solution can be used instead of the original demand case information, and deficiency case processing can be resumed halfway.例文帳に追加
元の請求案件情報の代わりに不備解消済みの情報を使うことができ、不備案件の処理の途中再開ができる。 - 特許庁
This processing method comprises the following steps: a solvent- spun cellulose fiber-containing fabric is subjected to enzyme treatment, imparted with an aqueous solution containing a polyurethane resin and then put to heat treatment.例文帳に追加
溶剤紡糸セルロース繊維含有布帛を酵素処理し、ポリウレタン樹脂を含有する水溶液を付与し、熱処理を行う。 - 特許庁
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