「processing solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an information processing system capable of performing a traffic jam prediction considering the probability of traffic jam or an experimental value of solution time of traffic jam.例文帳に追加

渋滞の発生確率や渋滞の解消時間の経験値を加味した渋滞予測が可能な情報処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a paper vessel for a photographic processing solution free from a change of its shape in long-term storage, free from the occurrence of pinholes and excellent in strength.例文帳に追加

長期保管存に対して容器の変形がなく、ピンホールの発生がなく、強度の優れた写真処理液用紙容器を提供する。 - 特許庁

A carved section 19 having spiral grooves filled with a coating solution 22 for an etching-resistant layer is formed on the periphery of the ceramic material 18 by laser processing.例文帳に追加

セラミックス材18の外周に耐エッチング層塗布液22を充填するらせん状の溝を有する彫刻部19をレーザ加工により形成する。 - 特許庁

To provide a direct methanol fuel cell system capable of processing vaporized methanol in an aqueous solution tank; and to provide a transport apparatus using it.例文帳に追加

水溶液タンク内の気化されたメタノールを処理できる、直接メタノール型燃料電池システムおよびそれを用いた輸送機器を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method for forming a silicon nitride film having a small etching grade against an HF system solution without raising a film forming temperature.例文帳に追加

ＨＦ系溶液に対するエッチングレートが小さいシリコン窒化膜を、成膜温度を上げることなく形成する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of supplying a sulfic acid/hydrogen peroxide mixture solution having a liquid temperature suitable for peeling of a resist to a substrate.例文帳に追加

レジストの剥離に適した液温の硫酸過酸化水素水を基板に供給することができる、基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

The resin solution for processing a rubber is prepared by dissolving a novolac phenolic resin having a softening temperature of ≥84°C in an organic solvent.例文帳に追加

軟化点が８４℃以上であるノボラック型フェノール系樹脂を有機溶媒に溶解してなることを特徴とするゴム加工用樹脂溶液。 - 特許庁

While immersing a silicon substrate 1 to be processed in an oxidizing solution 3 in a processing bath 2, the silicon substrate 1 is connected to a power supply 4.例文帳に追加

被処理用のシリコン基板１を、処理槽２内の酸化性溶液３に浸漬した状態で、シリコン基板１に電源４を接続する。 - 特許庁

To recover/remove metal ions contained in a processing solution by the use of an oxidation-reduction reaction so as to prevent them from affecting a substrate adversely.例文帳に追加

酸化還元反応を利用することにより、処理液中の金属イオンを回収・除去して基板への悪影響を防止することができる。 - 特許庁

To provide a wet type process station for a semiconductor wafer which prevents an etchant or a processing solution from reaching the reverse side of the wafer.例文帳に追加

エッチング液又は処理溶液がウェーハの裏側に達することを防止する半導体ウェーハのための湿式プロセス・ステーションを提供する。 - 特許庁

The fiber processing composition comprises an aqueous solution containing (A) a hydrolyzed protein silylated product, (B) a protein, and (C) chitosan as the essential components.例文帳に追加

加水分解蛋白質シリル化物(A) 、蛋白質(B) およびキトサン(C)を必須成分として含有する水溶液からなる繊維加工用組成物である。 - 特許庁

To provide a replenishing method free from the increase in the quantity of a replenished solution to be used as compared to the conventional method, even though the processing speed is increased.例文帳に追加

処理速度が高くなるが、補充液使用量が従来公知の方法よりも多くなることはない補充方法を提供すること。 - 特許庁

FIXING AGENT FOR SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL, FIXING CONCENTRATED SOLUTION, SOLID FIXING AGENT AND PROCESSING METHOD FOR SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL例文帳に追加

ハロゲン化銀写真感光材料用定着剤、定着濃縮液、固形定着剤及びハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 - 特許庁

To provide a development processing method and development processing apparatus for uniformizing development processing, reducing a pattern collapse by developing solution or generation of a development loading effect, and capable of acquiring a high-quality substrate without variations in size in the surface to be processed.例文帳に追加

現像処理を均一化し、現像液によるパターン倒れや現像ローディング効果の発生を低減し、処理面内おける寸法ばらつきのない高品質な基板を得ることが可能な現像処理方法及び現像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method for preventing a solution from scattering at the notch section of a substrate, and at the same time, for sure cleaning of the notch section and a bevel section, and to provide a substrate processing apparatus.例文帳に追加

基板のノッチ部における溶液の飛散を防止するとともに、ノッチ部及びべベル部の洗浄を確実に行うことができる基板処理方法及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

The processing liquid for the method is also disclosed This plate inspecting method for the lithographic printing plate original plate using the processing method, an image quality managing method, and the solution containing the basic pigment and the anion surfactant being used for the process are provided.例文帳に追加

該処理方法を用いる平版印刷版原版の検版方法および画像品質管理方法ならびに処理に用いる塩基性色素及びアニオン界面活性剤を含む水溶液。 - 特許庁

Steam of isopropyl alcohol is supplied from each of supply ports 67 of an automatic cover 23 and a processing solution is discharged via a discharging pipe 57 to exhaust the air in the processing tank 1 by a first vacuum pump 19.例文帳に追加

処理槽１内を排気するので、処理槽１の上部から供給されたイソプロピルアルコールの蒸気が複数枚の基板Ｗの間を円滑に流下されて供給・排気管７から排気される。 - 特許庁

That is, since a program in the network part can be operated already at the point of return from the power saving mode, processing same as that to be carried out in starting the power supply is not necessary, and only the address solution processing is carried out again.例文帳に追加

即ち、省電力モードから復帰した時点で、ネットワーク部のプログラムは既に動作可能なので、電源投入時の処理と同じ処理をする必要が無く、アドレス解決処理のみ再度行う。 - 特許庁

To efficiently treat a used processing solution containing a metal and various chemicals after the processing of a photographic film or the like at a low cost without adversely affecting the environment and a living thing.例文帳に追加

金属や多種類の化学薬品を含む写真フィルム等の処理廃液を低コストで高率よく処理して、環境や生物に悪影響を及ぼさないような処理方法を開発すること。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material which reduces silver sludge and rear end fog in processing and ensures no suspended solids and little extraneous matter on a processed layer even when a processing solution is not replenished.例文帳に追加

処理時に銀スラッジ、後端カブリが低減され、且つ、処理液の無補充状態においても処理層に浮遊物がなく、処理層への付着物が少ないハロゲン化銀写真感光材料を提供する。 - 特許庁

A developing stop processing tank 18 is provided between a developing processing tank 16 storing a developer 16A and a fixing tank 20 storing a fixing solution 20A along a carrying direction of a photosensitive web 12.例文帳に追加

感光ウエブ１２の搬送方向に沿って、現像液１６Ａが貯留された現像処理槽１６と、定着液２０Ａが貯留された定着槽２０との間に、現像停止処理槽１８を設ける。 - 特許庁

To provide a silver halide color photographic sensitive material having excellent rapid processability, color developing property, color reproducibility, and image fade resistance after processing and excellent processing stability when processed with a running solution.例文帳に追加

迅速処理性に優れ、発色性、色再現性、処理後の画像堅牢性に優れ、ランニング液で処理した場合の処理安定性に優れるハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供する。 - 特許庁

As the processing solution is fed into the processing tank 1, the movable nozzle 7 moves and comes in close contact with an inclined plane 2a of the inlet of a passage in the rack 2 disposed in the tank 1.例文帳に追加

可動ノズル７が処理液の処理槽１への送給により移動して、処理槽１内に配置されたラック２内の流路入口の傾斜面２ａと密着可能になる処理液循環装置。 - 特許庁

The glass substrate is immersed in a chemical processing solution, and a part or all of one or both sides composing the outer surface of this glass substrate are processed at a processing rate of 0.5-10 μm/min.例文帳に追加

化学加工液中にガラス基板を浸漬し、このガラス基板の外表面を構成する片側の一部若しくは全部または両側の一部若しくは全部を０．５〜１０μｍ／分の加工速度で加工する。 - 特許庁

A sheet 30 with the scribed circle drawn thereon with ink is put on a processing object material 10 having a curved surface, and a solution 20 capable of dissolving the ink is supplied between the sheet 30 and the processing object material 10.例文帳に追加

スクライブドサークルをインクで描画したシート３０を、表面が曲面状の被加工材１０に被せ、前記シート３０と前記被加工材１０の間に前記インクを溶かす溶液２０を供給する。 - 特許庁

The conveying order is decided in advance, and a surface washing processing of a substrate W with SC2 (hydrochloric hydrogen preoxide mixed water solution) is conducted before a surface processing with hydrofluoric acid.例文帳に追加

搬送の順序は予め定められており、フッ酸による表面処理の前に、ＳＣ２（塩酸過酸化水素水混合水溶液）による基板Ｗの表面洗浄処理を行うようにする。 - 特許庁

The height level of the development processing solution in the development processing tank 3A is judged from the detected number of pump revolutions, by which the detection of the fall of the height level below the prescribed level is made possible.例文帳に追加

そして、検出されたポンプ回転数から現像処理槽３Ａ内における現像処理液の高さレベルを判断して、その高さレベルが所定レベルよりも低下したことを検知できるようにする。 - 特許庁

To provide a color processing apparatus and a color processing program capable of obtaining the solution of the inverse function of a function indicating the input/output characteristic of an output device even when divergence occurs in a calculation process.例文帳に追加

出力装置の入出力特性を示す関数の逆関数の解を、演算の過程で発散が生じても得ることができる色処理装置および色処理プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a processing method for a color photographic sensitive material in which a desilvering step can rapidly be carried out without impairing image stability and a processing solution is stable and does not cause turbidity during use.例文帳に追加

画像安定性を損なうことなく脱銀工程の迅速化を可能とする、かつ処理液が使用中に安定で濁りなどを生じないカラー写真感光材料の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a development processing apparatus capable of reliably washing pairs of conveyance rollers for press-conveying a photosensitive material to which a development processing solution adheres all over the peripheries of the rollers.例文帳に追加

本発明は、現像処理液の付着した感光材料を圧着搬送する搬送ローラ対を全周に亘って確実に洗浄することができる現像処理装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

In detail, solution is injected in a spray mode (15) rotating the magnetic recording medium (11) after applying liquid lubricant layer, the tape (13) is fed for each processing, and feeding of the tape is stopped during processing.例文帳に追加

詳しくは、液体潤滑層塗付後の磁気記録媒体（１１）を回転させながら、溶剤をスプレー式で噴射（１５）し、加工毎にテープ（１３）を送り、加工中はテープの送りを停止する。 - 特許庁

To provide a desmear solution by which, when a via hole of a fluororesin substrate is subjected to desmear processing, a smear is effectively removed and the hole is not deformed nor damaged as a result, and to provide a desmear processing method.例文帳に追加

本発明の課題は、フッ素樹脂基板のバイアホールのデスミア処理において、スミアを有効に除去し、孔の変形や損傷を与えないデスミア液及びデスミア処理方法を提供する。 - 特許庁

In partitioned greedy recursive processing, recursive processing is performed from a most significant level of the tree topology network to a least significant switching element level to confirm a solution of minimum costs in each switching element level.例文帳に追加

分割貪欲型再帰処理は、ツリートポロジーネットワークの最上位レベルから、最下位のスイッチング素子レベルに向かって再帰処理を行い、各スイッチング素子レベルにおける最小コストの解を確認する。 - 特許庁

To provide an air cleaner which is capable of carrying out stable bubbling processing by standardizing the dropping state of a solution and bubble- making of air and facilitates the maintenance of a unit for performing this processing.例文帳に追加

溶液の落下状態及び空気の気泡化を画一化し、安定したバブリング処理を実行できると共に、この処理を行うユニットのメンテナンスが容易である空気浄化装置を提供する。 - 特許庁

Provided is a substrate processing method including: cleaning a processed substrate W in a cleaning tank 221 prepared in the substrate processing apparatus 2 by immersing the processed substrate W in a cleaning solution in a longitudinal direction while the cleaning solution is supplied from a cleaning solution supply portion to the cleaning tank 221; and drying the processed substrate W picked up from the cleaning tank 221 in a drying chamber 21 communicating with an upper area of the cleaning tank 221.例文帳に追加

基板処理装置２に設けられた洗浄槽２２１では、洗浄液供給部から洗浄液を供給しながら当該洗浄液に被処理基板Ｗを縦向きの状態で浸漬して洗浄が行われ、この洗浄槽２２１の上方領域と連通する乾燥室２１では、洗浄槽２２１から引き上げられた被処理基板Ｗの乾燥が行われる。 - 特許庁

The developing method (substrate processing method) for developing a resist layer 101 disposed on a substrate 100 includes a solution layer formation step of supplying a developer onto the resist layer 101 and forming a solution layer 102 on the resist layer 101 using a surface tension of the developer, and a processing step of advancing development of the resist layer 101 by the solution layer 102.例文帳に追加

この現像方法（基板処理方法）は、基板１００上に配置されたレジスト層１０１を現像する現像方法であって、レジスト層１０１上に現像液を供給し、現像液の表面張力を利用してレジスト層１０１上に液層１０２を形成する液層形成工程と、液層１０２によるレジスト層１０１の現像を進行させる処理工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a processing method for a black-and-white silver halide photographic sensitive material in which uneven processing is prevented and the metal parts of an automatic processing machine do not rust even if the automatic processing machine is not subjected to exhaust ventilation when the black-and-white silver halide photographic sensitive material is processed with the automatic processing machine using a developing solution not substantially containing a dihydroxybenzene developing agent.例文帳に追加

実質的にジヒドロキシベンゼン現像主薬を含有しない現像液を用いた自動現像機で黒白ハロゲン化銀写真感光材料を現像処理するに際して、処理ムラをなくし、かつ自動現像機の排気をしなくても自動現像機の金属部分が錆びない黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device for measuring a carrier phase relative position capable of quickly and precisely estimating a float solution of integer bias and quickly and precisely calculating estimation processing of a base line vector after decision of the integer bias solution.例文帳に追加

整数バイアスのフロート解を高速且つ高精度に推定できるとともに、整数バイアス解決定後の基線ベクトルの推定処理を高速且つ高精度に算出できるキャリア位相相対測位装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The enriched cerium oxide solution is subjected to dispersion processing by a dispersant in a dispersion tank 6, coarse particles are removed from the obtained solution in a centrifugal separator 7, and the components thereof are adjusted in a preparation tank 8 and fed to a slurry tank 2.例文帳に追加

酸化セリウム濃縮液は分散槽６において分散剤による分散処理が行われ、遠心分離器７において粗大粒子が除去され、調製槽８で成分調整が行われて、スラリー槽２に給送される。 - 特許庁

To provide a nitric acid reduction catalyst composition which is applicable even to a high-concentration nitric acid solution and is capable of efficiently reducing a nitrate ion, nitrite ion and the like, and to provide a processing method of a nitric acid solution using the same.例文帳に追加

高濃度の硝酸溶液に対しても適用可能であり、効率的に硝酸イオンや亜硝酸イオン等を還元できる硝酸還元触媒組成物と、これを用いた硝酸溶液の処理方法を提供する。 - 特許庁

The plating processing apparatus 20 includes: a substrate rotation holding mechanism 110 for rotatably holding a substrate 2; and a plating solution supply mechanism 30 for supplying a plating solution 35 to the substrate 2 held by the substrate rotation holding mechanism 110.例文帳に追加

めっき処理装置２０は、基板２を回転保持する基板回転保持機構１１０と、基板回転保持機構１１０に保持された基板２に対してめっき液３５を供給するめっき液供給機構３０と、を備えている。 - 特許庁

That is, the information processing apparatus 10 includes an address solution means 510 for detecting the program in an address solution unprocessed state, and solving an address of the common library based on already solved address information stored in an auxiliary storage device 103.例文帳に追加

即ち、情報処理装置１０は、アドレス解決未処理状態のプログラムを検出し、補助記憶装置１０３に記憶された解決済みアドレス情報を元に共有ライブラリのアドレスを解決するアドレス解決手段５１０を備える。 - 特許庁

Then, two trap materials 42 and two development processing solution pods 40 are stuck at both side edge parts of the first continuous member 50 at the same stop time.例文帳に追加

その際、第１連続状部材５０の両側縁部には、２枚のトラップ材４２および２枚の現像処理液ポッド４０が同一停止時に貼り付けられる。 - 特許庁

A developing container in which much development processing solution is stored need not be provided at the bottom part of a plate barrel, so that a printing machine having the plate barrel is compactly constituted.例文帳に追加

多量の現像処理液を収容した現像容器を、版胴の最下部に設ける必要がなく、版胴を有する印刷機等を小型に構成できる。 - 特許庁

To provide a resist solution application processing apparatus capable of removing contact transfer unevenness which may be generated by contact between the rear face of a substrate and the other member and drying unevenness.例文帳に追加

基板裏面と他の部材との接触によって生じる接触転写ムラ、乾燥ムラをなくすことができるレジスト液塗布処理装置を提供する。 - 特許庁