「processing solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To solve the problem that, when candidates of a transmission signal are individually estimated in QRM-MLD processing, quality of an estimated solution may be deteriorated without being reflected with the effect of other transmission signals.例文帳に追加

ＱＲＭ−ＭＬＤ処理において個別に送信信号の候補を推定すると他の送信信号の影響が反映されず推定解の品質が劣化する。 - 特許庁

Thus, the processing solution dropped from the substrates W drops into the pure water remaining in the interbath pad 50, is quickly diluted, and then discharged together with the pure water.例文帳に追加

このため、基板Ｗから落下した処理液は、槽間バット５０に貯留された純水中に落下して速やかに希釈され、純水とともに排液される。 - 特許庁

Then opening part processing is carried out for a flattening film 64 and a protective insulating film 62, and surface products of titanium as an upper most layer is removed with a surface etching solution.例文帳に追加

その後に平坦化膜６４と保護絶縁膜６２の開口部処理が行われ、表面エッチング液によって最上層のチタンの表面生成物が除去される。 - 特許庁

To provide a processing system with a new form in application of photosensitive solution and development for driving all kinds of jetting nozzles using a single actuator.例文帳に追加

本発明は一つのアクチュエータで全種類の噴射ノズルを駆動できる新しい形態の感光液の塗布や現像のための工程システムを提供するものである。 - 特許庁

Electricity charges can be saved as compared with the case where the temperature of the processing solution is raised to the specified temperature range using only daytime expensive power.例文帳に追加

昼間の料金の高い電力のみを使用して処理液の温度を規定温度範囲まで上昇させる場合と比較して、電気料金を節約することができる。 - 特許庁

The coating treatment is a batch processing and is executed by immersing the ball screw nut 4 in an aqueous solution such as zinc phosphate, manganese phosphate and calcium phosphate for 30 to 60 minutes.例文帳に追加

被膜処理は、バッチ処理で、リン酸亜鉛やリン酸マンガン、リン酸カルシウム等の水溶液中へボールねじナット４を３０分から６０分浸漬することにより行う。 - 特許庁

The exfoliated storage medium and plastic member are recycled by eluting the metals with a processing solution and the data of the storage medium can be simultaneously extinguished.例文帳に追加

剥離された記憶媒体層と樹脂部材は、処理液によって金属を溶出して、リサイクルが行なわれると同時に、記憶媒体のデータを消滅させることができる。 - 特許庁

The pad material layer 203 includes openings 226 to permit processing solution 223 to wet both a conductive surface of the wafer 206 and a surface of the electrode 210.例文帳に追加

パッド材料層２０３は、処理液２２３がウェハ２０６の導電性表面と、電極２０１の表面との両方を濡らすことができる開口部２２６を含む。 - 特許庁

Substance contained in the waste gas is changed into aqueous solution through this fast cooling tower to enable some processing such as sedimentation separation and adsorption separation to be carried out fast.例文帳に追加

本発明の急速冷却塔を用いて、廃ガス中に含まれる成分を水溶液とし、沈澱分離、吸着分離などの処理を迅速に行うことができる。 - 特許庁

A comparative control means 6 outputs the value of the resistor 5b when the value of the resistor 5a is closest to an input value as the solution of the logarithmic conversion processing of the input value.例文帳に追加

比較・制御手段６は、レジスタ５ａの値が入力値に最も近くなった時点のレジスタ５ｂの値を、その入力値の対数変換処理の解として出力する。 - 特許庁

To provide an image fiber scope having excellent resistance to a corrosive solution and corrosive gaseous atmosphere in order to allow the observation on the spot in etching or electrolytic processing.例文帳に追加

エッチングや電解加工におけるその場観察を可能とするため、腐食性溶液や腐食性ガス雰囲気に対する耐性に優れたイメージファイバスコープを提供することにある。 - 特許庁

To provide an educational material processing device enhancing the effect of education through presenting solution information of test questions which a testee can not answer correctly.例文帳に追加

受験者が正解を導くことができなかった試験問題について、その解法情報を提示することを通じて、教育の実効を向上可能な教材処理装置を得る。 - 特許庁

To provide a method for forming a non-chromium black chemical film having excellent corrosion resistance and uniform appearance of a metallic member formed of zinc or a zinc alloy with a single processing solution.例文帳に追加

亜鉛や亜鉛合金の金属部材に耐食性に優れた均一な外観を有するノンクロム黒色化成皮膜を単一処理液で形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can be developed with an alkali aqueous solution and shows sufficient heat resistance and flexibility in processing at a low temperature.例文帳に追加

アルカリ水溶液を用いた現像で可能であり、また、低温での加工で十分な耐熱性及び柔軟性を発現する、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In a tubular processing solution nozzle 3 made of an insulation material, there are provided a coil electrode 5 made of an insoluble metal and a rod electrode 6 made of a plating metal.例文帳に追加

絶縁物からなる筒状の処理液ノズル３内に不溶性金属からなるコイル状の電極５と、めっき金属からなる棒状の電極６とを設けた。 - 特許庁

To provide a method for reducing defects, particularly pattern collapse of semiconductor devices occurring during the manufacturing process without sacrificing a throughput, and to provide a processing solution therefor.例文帳に追加

製造中に生じる半導体デバイスの欠陥、特にパターンのつぶれを、スループットを犠牲にすることなく低減するための方法とそのための処理溶液を提供すること。 - 特許庁

Furthermore, bioactivity of the bioactive material is improved by processing the titanium oxide thin film formed by the above-mentioned method in lukewarm water or in a solution containing calcium salt.例文帳に追加

更に、前記方法によって形成された酸化チタン薄膜を温水またはカルシウム塩を含む溶液で処理した、生体活性を改善した生体活性材料。 - 特許庁

The metal surface processing liquid for improving adhesion between resin and metal is an aqueous solution containing benzotriazole derivative expressed in an exemplary chemical formula (a).例文帳に追加

樹脂と金属との接着性を向上するための金属表面処理液であって、一例として下記化学式に示すベンゾトリアゾール誘導体を含む水溶液である。 - 特許庁

When setting initial values, a processing part reads the initial values including an initial solution x_0, an initial temperature T_0, a number of areas r, a count value c_0 and a step reduction rate L from a storage part.例文帳に追加

まず、初期値の設定では、処理部は、初期解ｘ_０、初期温度Ｔ_０、領域数ｒ、カウント数ｃ_０、ステップ縮小率Ｌを含む初期値を記憶部から読み取る。 - 特許庁

BLEACHING SOLUTION FOR SILVER HALIDE COLOR PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND PROCESSING METHOD FOR SILVER HALIDE COLOR PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー写真感光材料用漂白液、該漂白液の製造方法及び該漂白液を用いたハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法 - 特許庁

To provide a new method for processing a substrate surface by which an etching solution can be reused, and the contamination of the surface to be processed caused by the intrusion of impurities can be suppressed.例文帳に追加

エッチング溶液の再利用が可能であり、また、不純物の混入による加工表面の汚染を抑制できる、新たな基板表面の加工方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a flame retardant processing agent exhibiting an excellent yellowing prevention effect on applying to a cellulosic fiber by preparing an aqueous solution containing a crude aminophosphazene and a hypophosphorous acid salt.例文帳に追加

本発明は、優れた黄変防止効果を発現し得る難燃加工剤及び該難燃加工剤を用いてセルロース繊維を製造する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

METHOD FOR PREPARING BLEACH-FIXING SOLUTION FOR SILVER HALIDE COLOR PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL, STARTER FOR BLEACH-FIXING CONCENTRATED COMPOSITION AND PROCESSING METHOD FOR PHOTOSENSITIVE MATERIAL例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー写真感光材料用漂白定着処理液の作製方法、漂白定着濃縮組成物用のスターター及び感光材料の処理方法 - 特許庁

To obtain a developing device which does not cause damage or wear to a photosensitive material and obtains a desired agitating capacity when the photosensitive material is processed by injecting a processing solution.例文帳に追加

処理液を噴射して感光材料を処理する際に、感光材料の傷や擦れが無く、また、所望の攪拌能力を得ることができる現像処理装置を得る。 - 特許庁

The resist composition contains the polymer additive (a) containing silicon and the base polymer (b) containing no silicon and a photo- acid-generator and a solvent, and one of (a) and (b) contains the acid-sensitive protective groups and both of them are soluble in an aqueous basic solution after the exposure processing.例文帳に追加

レジスト組成物は、シリコンを含有する重合体添加剤と、シリコンを含有しない基本重合体と、光酸発生剤と、溶媒とを含む。 - 特許庁

The copper material in which a very thin oxide film is formed on a surface, to which copper particulates adhere and which is suitable for ultrasonic jointing can be obtained by bringing the copper material into contact with reduced processing solution and processing the surface of the copper material.例文帳に追加

銅材を還元処理溶液に接触させて銅材の表面を処理することによって、表面に極薄の酸化膜が形成され、銅微粒子が付着している超音波接合に適した銅材を得ることができる。 - 特許庁

To prevent saline water from contamination by unwanted bacteria brought into the water by foods in a saline processing method for perishable foods wherein perishable foods are immersed in a processing water which is a water solution of sodium chloride.例文帳に追加

塩化ナトリウム水溶液を処理塩水とし、同処理塩水中に生鮮食品を浸漬して塩水処理する生鮮食品の塩水処理方法において、処理塩水の食品が持ち込む雑菌類による汚染を防止する。 - 特許庁

To provide a starch sugar solution-purifying method excellent in stability of pH of processing liquid sugar and capable of being especially suitably used for purifying millet jelly, for the finish desalination processing of millet jelly particularly by using an ion-exchange resin.例文帳に追加

イオン交換樹脂を用いたデンプン糖液の精製法であって、処理糖液のｐＨの安定性に優れ、特に水あめの精製、とりわけ水あめの仕上げ脱塩処理に好適に使用することができる精製法を提供する。 - 特許庁

This invention relates also to a photographic processing method for a photographic image forming element having an overcoat permeable to a processing solution and containing at least one water-dispersible hydrophobic polymer dispersed by a water-soluble hydrophilic polymer.例文帳に追加

また、本発明は、水溶性親水性ポリマーによって散在させられた少なくとも１種の水分散性疎水性ポリマーを含んでなる処理溶液透過性オーバーコートを有する写真像形成要素の写真処理方法にも関する。 - 特許庁

To provide a processing method for a photosensitive material and a printing method by which the propagation of mold and bacteria and the occurrence of fur are stably prevented over a long period of time without lowering the performances of a processing solution and dampening water.例文帳に追加

処理液及び湿し水の性能を低下させることなく、カビやバクテリアの繁殖及び水垢の発生を長期間に渡って安定して防止した感光材料の処理方法及び印刷方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material which ensures such satisfactory sensitivity as to cause no unevenness in density and can rapidly be processed even in a processing system in which a developing solution is replenished by a small amount and to provide a processing method for the material.例文帳に追加

現像液の補充量の少ない処理システムにおいても濃度ムラのない十分な感度が得られ、同時に迅速処理可能なハロゲン化銀写真感光材料、及びその現像処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a processing method free of occurrence of black stops and capable of stably giving a high contrast image even when processing is carried out in the field of the graphic arts using a developing solution less liable to affect the environment under a small amount of replenishment.例文帳に追加

グラフィック・アーツ分野で、環境に対して問題の少ない現像液を用いて低補充量で処理を行っても、黒ポツの発生もなく安定に硬調な画像を得ることができる処理方法を提供すること。 - 特許庁

The method for producing a cheese source comprises (a) a process of heating an aqueous dispersion solution containing cheese but no starch, (b) a process of homogenizing the aqueous dispersion solution passed through the process (a), (c) a process of mixing the homogenized processing solution obtained in the process (b), and a process (d) of heating the mixture obtained in the process (c).例文帳に追加

（ａ）澱粉を含まず、チーズを含有する水分散液を加熱する工程と、（ｂ）工程(a)を経た前記水分散液を均質化処理する工程と、（ｃ）工程(b)で得られた均質化処理液と澱粉とを混合する工程と、（ｄ）工程(c)で得られた混合物を加熱する工程と、を含むことを特徴とする、チーズソースの製造方法。 - 特許庁

The method for producing carbonara source comprises (a) a process of heating an aqueous dispersion solution containing egg yolk and cheese but no starch, (b) a process of homogenizing the aqueous dispersion solution passed through the process (a), (c) a process of mixing the homogenized processing solution obtained in the process (b), and a process (d) of heating the mixture obtained in the process (c).例文帳に追加

（ａ）澱粉を含まず、卵黄及びチーズを含有する水分散液を加熱する工程と、（ｂ）工程(a)を経た前記水分散液を均質化処理する工程と、（ｃ）工程(b)で得られた均質化処理液と澱粉とを混合する工程と、（ｄ）工程(c)で得られた混合物を加熱する工程と、を含むことを特徴とする、カルボナーラソースの製造方法。 - 特許庁

To always fix the resist release performance by automatically controlling a resist release solution so that the moisture concentration and the degraded component concentration become prescribed values and properly managing solution replenishment of a resist release processing tank, and to reduce the overall manufacturing cost by reducing the use quantity of the resist release solution and shortening the operation halt time.例文帳に追加

レジスト剥離液に対して水分濃度と劣化成分濃度とが所定の濃度となるように自動制御し、レジスト剥離処理槽の液補給に対して適切な管理を行い、レジスト剥離性能を常時一定化すること、及びレジスト剥離液の使用液量を削減し、操業停止時間を短縮して総合的な製造コストを低減すること。 - 特許庁

To always fix the resist release performance by automatically controlling a resist release solution so that the MAE concentration and the degraded component concentration become prescribed values and properly managing solution replenishment of a resist release processing tank, and to reduce the overall manufacturing cost by reducing the use quantity of the resist release solution and shortening the operation halt time.例文帳に追加

レジスト剥離液に対してＭＥＡ濃度と劣化成分濃度とが所定の濃度となるように自動制御し、レジスト剥離処理槽の液補給に対して適切な管理を行い、レジスト剥離性能を常時一定化すること、及びレジスト剥離液の使用液量を削減し、操業停止時間を短縮して総合的な製造コストを低減すること。 - 特許庁

The resist solution application processing apparatus is provided with a reduced-pressure dryer 14 for performing the reduced-pressure drying of a substrate 100 to which a resist solution is applied, a baking device 16 for heating the substrate 100 dried in a reduced-pressure state to solidify the resist solution and a carrying robot 15 for carrying the substrate 100 between the reduced-pressure dryer 14 and the baking device 16.例文帳に追加

レジスト液が表面に塗布された基板１００を減圧乾燥する減圧乾燥機１４と、前記減圧乾燥された基板１００を加熱して前記レジスト液を固化させるベーキング装置１６と、減圧乾燥機１４と前記ベーキング装置１６の間で基板を搬送する搬送ロボット１５を備えるレジスト液塗布処理装置である。 - 特許庁

In the processing method, desilvering is carried out with a processing solution of pH 3-7 having bleaching capability and containing at least one iron (III) complex salt of a monoaminopolycarboxylic acid compound having a specified structure and a processing solution of pH 6.1-8.0 having fixing capability and containing at least one complex forming agent selected from diaminosuccinic acids each having a specified structure, EDTA and organic phosphonic acids.例文帳に追加

脱銀処理が、（イ）特定構造のモノアミノポリカルボン酸化合物の鉄(III) 錯塩の少なくとも１種を含むｐＨが３〜７の漂白能を有する処理液と、（ロ）特定構造のジアミノ琥珀酸類、ＥＤＴＡ及び有機ホスホン酸類から選ばれる少なくとも一つの錯形成剤を含むｐＨが６．１〜８．０の定着能を有する処理液とによって行われるハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

To provide a color developing solution and a concentrated composition for a silver halide color photographic sensitive material and a processing method in which neither crystal deposition nor tar contamination is caused to a processing tank or rack even when rapid processing or reduced replenishment is carried out and to provide a concentrated solution kit (concentrated composition) which does not cause precipitation at low temperature even when a color developing agent is dissolved at high concentration.例文帳に追加

第１に迅速処理や低補充化を行っても処理タンクやラックに結晶析出およびタール汚染が生じないハロゲン化銀カラー写真感光材料用発色現像液及び濃縮組成物並びに処理方法を提供することであり、第２に高濃度に発色現像主薬を溶解しても低温析出を起こさない濃縮液キット（濃縮組成物）を提供することである。 - 特許庁

To provide a color photoprocessing composition, particularly a color reversal processing composition, which reduces stain of highlight and non-image portions without adversely affecting photographic properties and the quality of a processing solution, and improves even the aging stability of the processing composition and the solubility of components of the composition in a processing agent medium, and to provide a color photoprocessing method using the same.例文帳に追加

写真性や処理液品質に悪影響を与えることなく、ハイライト部や非画像部のステインを低減させると共に処理組成物の経時安定性及び組成物成分の処理剤媒質への溶解性をも向上させたカラー写真処理組成物、特にカラー反転処理組成物と、それを用いるカラー写真処理方法を提示すること。 - 特許庁

Relative movements with reaction solution with the vertical rocking of the object itself of the film-forming processing and the equation of the composition of reaction solution which is stirred by the vertical operation of the stirring means acts synergistically as the lateral frame spirally operate, and thus a film having uniform characteristic and thickness is formed.例文帳に追加

成膜処理対象物自身の上下の揺動に伴う反応溶液との相対運動と、横枠を兼ねた攪拌手段の上下動で攪拌される反応溶液の組成の均一化とが相乗的に作用し、均一な特性と厚みの成膜が形成される。 - 特許庁

Thus, the present invention includes a step (S104) for eliminating the surface oxide film by cleaning the surface of the silicon core wire with a hydrofluoric acid solution following the step for eliminating processing strain of the surface by etching the silicon core wire using a mixed acid solution of hydrofluoric acid and nitric acid.例文帳に追加

そこで、本発明では、シリコン芯線をフッ酸と硝酸の混酸溶液でエッチングして表面の加工歪みを除去する工程に続いて、シリコン芯線の表面をフッ酸溶液で洗浄して表面酸化膜を除去する工程（Ｓ１０４）を備える。 - 特許庁

The ultrafine air bubble-containing water or aqueous solution produced by performing a processing discharging ultrafine air bubbles with a particle diameter of diameter of 10-50 μm into water or an aqueous solution for at least 10 hours, is diluted by the user to use it for plant cultivation or the like.例文帳に追加

水又は水溶液中に粒径が直径１０〜５０μｍの極微小気泡を放出する処理を１０時間以上行うことにより製造された極微小気泡を含有する水又は水溶液を利用者が希釈して植物栽培等に使用する。 - 特許庁

Since the fine particle dispersion solution can be produced by charging the LnOX-LnX_3 complex particle as a precursor into a solvent, the dispersion solution can be obtained easily at low cost without performing mechanical dispersing nor granule disintegrating processing.例文帳に追加

また、当該本発明の微粒子分散溶液は、前駆体となるＬｎＯＸ−ＬｎＸ_３複合体粒子を溶媒に投入することにより製造することができるので、機械的な分散、解粒処理を行うことなく、簡便かつ低コストで得ることができる。 - 特許庁

In this manufacture, a polishing cloth 11 for use in CMP processing a semiconductor wafer is surface-processed with a chemical solution, a surface-active agent, or the like having oxidation action such as a hydrogen peroxide solution, a potassium permanganate, a nitric acid, a nitrous acid, ozone water, ion water, or the like, and the surface is made hydrophile.例文帳に追加

半導体ウェーハをＣＭＰ処理に用いられる研磨布１１に過酸化水素水、過マンガン酸カリウム、硝酸、亜硝酸、オゾン水、イオン水などの酸化作用を有する薬液や界面活性剤等で表面処理を行い、その表面を親水化する。 - 特許庁