「processing solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

In the cleaning method, prior to holding of another processing-target object immersed in an ozone cleaning solution within an ozone cleaning bath with use of a chuck member, alkaline components deposited on part of a transportation arm and on the chuck member are cleaned and remove to suppress the alkaline components to be mixed in the ozone cleaning solution.例文帳に追加

チャック部材で、予めオゾン洗浄槽内のオゾン洗浄液に浸漬していた他の被処理物を保持するに先立ち、搬送アームの一部およびチャック部材に付着したアルカリ成分を洗浄除去して、アルカリ成分がオゾン洗浄液に混入するのを抑制することを特徴とする洗浄方法。 - 特許庁

In the surface processing method of a semiconductor substrate, after the surface of the semiconductor substrate is subjected to hydrogen termination with hydrofluoric acid solution, the semiconductor substrate is irradiated with light in a solution containing one kind or more of compounds selected from quinhydrone, hydroquinone, semiquinone and quinone thus rendering the surface of a semiconductor substrate inactive.例文帳に追加

半導体基板表面をフッ酸溶液により水素終端した後、キンヒドロン、ヒドロキノン、セミキノン及びキノンから選ばれた１種以上の化合物を含む溶液中で、半導体基板に光を照射することにより、半導体基板表面を不活性化させることを特徴とする半導体基板の表面処理方法である。 - 特許庁

This wool is produced by a method comprising charging wool, water, and a penetrating agent in an identical processing machine, subjecting the wool to an immersing pre-treatment at ordinary temperature, sequentially continuously charging an acidic solvent, a hypochlorite solution, and then a pyrophosphate solution at ordinary temperature or as a low temperature at suitable intervals, heating, and immersing for a constant time.例文帳に追加

同一加工機内にウール、水、及び浸透剤を投入後、常温で浸漬して前処理し、次いで、先ず酸性溶剤、次に次亜塩素酸塩溶剤、続いてピロリン酸塩溶剤を、各々常温又は低温域で順次、適宜な間隔を設けて連続投入した後、加熱し、一定時間浸漬する方法で製造されたウール - 特許庁

A processing apparatus for surface cleaning having a jet nozzle 40 for supplying deionized water pressurized by a jet pump 46 for the cleaning process, is provided with, aside from the nozzle 40, a nozzle 41 for supplying aqueous solution of carbonic acid, which supplies aqueous solution of carbonic acid in a form of mist to a wafer.例文帳に追加

ジェットポンプ４７によって高圧に加圧された純水をウェハＷに供給して洗浄処理するジェットノズル４０を備えた表面洗浄処理装置７において，ウェハＷにミスト状の炭酸水溶液を供給する炭酸水溶液供給ノズル４１をジェットノズル４０と別に設けた。 - 特許庁

In a step (d), a porous polysilicon layer 5 is formed by performing positive electrode oxidation processing with a constant current while performing light irradiation on the exposed polysilicon layer 3 by using the silicon oxide layer 4 as a mask material layer, and by using an electrolytic solution that is prepared by mixing 55 wt.% of hydrogen fluoride aqueous solution and ethanol with a ratio of 1:1, and cooled at 0°C.例文帳に追加

酸化シリコン層４をマスク材料層として５５ｗｔ％のフッ化水素水溶液とエタノールとを１：１で混合し０℃に冷却した電解溶液を用い、露出したポリシリコン層３に光照射を行いながら定電流で陽極酸化処理を行い多孔質ポリシリコン層５を形成する（図１（ｄ））。 - 特許庁

This sterilization method for the poultry meat when producing the poultry meat by processing poultry comprises subjecting the poultry meat to a contact process with a thujaplicin aqueous solution comprising at least one kind selected from the group consisting of α-, β- and γ-thujaplicin (excluding an aqueous solution comprising only β-thujaplicin).例文帳に追加

食鳥を処理して食鳥肉を製造するに際して、食鳥肉に対し、α−、β−およびγ−ツヤプリシンからなる群より選ばれる少なくとも１種を含んでなるツヤプリシン水溶液（ただし、β−ツヤプリシンのみを含む水溶液を除く。）との接触処理を行う、食鳥肉の殺菌方法。 - 特許庁

To provide a developing solution for a photosensitive planographic printing plate capable of ensuring both no stain in printing and printing resistance without impairing image forming property, capable of dissolving a developing-solution-insoluble compound or stabilizing the compound in a dispersed state over a long time and capable of also improving processing stability and to provide a plate making method for a planographic printing plate.例文帳に追加

画像形成性を損なわずに印刷時の汚れと耐刷性の両立ができ、かつ、現像液不溶性化合物を溶解或いは長時間分散安定化でき、処理安定性をも向上することができる感光性平版印刷版用現像液及び印刷版製版方法を提供する。 - 特許庁

The machining device 10 includes a processing vessel 11 for accommodating electrolytic solution 12, an ingot holding part 13 for holding the silicon ingot 30 immersed in the electrolytic solution 12 in the processing vessel 11 and an electrode line 38 for cutting the silicon ingot 30, an electrode device 14 for slicing the silicon ingot 30 by the electrode line 38 and an electrode device holding part 15 for holding the electrode device 14.例文帳に追加

この加工装置１０は、電解液１２を収容する処理槽１１と、処理槽１１内の電解液１２に浸漬した状態でシリコンインゴット３０を保持するインゴット保持部１３と、シリコンインゴット３０を切断する電極線３８を含み、この電極線３８によりシリコンインゴット３０をスライス加工するための電極装置１４と、電極装置１４を保持する電極装置保持部１５とを備えている。 - 特許庁

A heater 9 of a resistance heating type is provided around the outer periphery of a processing chamber 3 to heat an atmosphere within the chamber 3 and to increase the temperature of the entire semiconductor substrate 1 to a level nearly corresponding to the temperature (HF: 50°C) of the chemical solution.例文帳に追加

処理チャンバー３の外周に抵抗加熱方式のヒーター９を配置し、処理チャンバー３内の雰囲気を熱し、半導体基板１全体を薬液温度（ＨＦ：５０℃）と同じ５０℃相当にまで上昇させる。 - 特許庁

To provide a low replenishment processing method for a silver halide photographic sensitive material in which a developing solution does not substantially contain a borate, variation of performance (lowering of sensitivity) in long-term use is slight and little crystallized matter is formed.例文帳に追加

現像液に実質的にホウ酸塩を含有せず、長期間の使用での性能の変動（感度低下）が少なく、結晶化物が少ない低補充のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供すること。 - 特許庁

To suppress an increase in manufacturing steps, to suppress the deformation of a plastic substrate and separation of the plastic substrate from a support substrate in a manufacturing step and to suppress the intrusion of a processing solution into a gap between the plastic substrate and the support substrate.例文帳に追加

製造工程の増加を抑制して、製造工程において、プラスチック基板の変形及び支持基板からの剥離を抑制すると共に、プラスチック基板と支持基板との間への処理液の侵入を抑制する。 - 特許庁

A method of enhancing resistance of wood includes: a carbonizing step of completely carbonizing the surface of wood; a heating step; a step of immersing the wood immediately after the heating process into a solution of slaked lime; and a step of drying and processing the wood.例文帳に追加

木材の表面を完全炭化させる炭化工程、加熱する工程、その後、直ちに当該木材を消石灰溶液に浸漬する工程、及び当該木材を乾燥させて加工する工程からなる。 - 特許庁

To provide a linear and two-dimensional array ultrasonic wave probe that employs a composite piezoelectric body consisting of a solid solution group piezoelectric single crystal and a resin where no defective processing is caused at cutting and to provide a manufacturing method for the ultrasonic wave probe.例文帳に追加

固溶系圧電単結晶と樹脂との複合圧電体を用いて、切断時の加工不良が生じない一次元及び二次元アレイ超音波プローブ及び当該超音波プローブの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the power saving mode of the printer, a network module is configured to a WOL setting, and a current address of AppleTalk is abandoned once, and address solution processing is dynamically carried out again in return from the power saving mode.例文帳に追加

プリンタ装置の省電力モード時は、ネットワークモジュールはＷＯＬ設定にし、ＡｐｐｌｅＴａｌｋの現状アドレスを一旦放棄し、省電力モードから復帰する時にダイナミックに再度アドレス解決処理を行う。 - 特許庁

In the semiconductor ion sensor, the polarity of the resin on the surface of the resin coating 11 is heightened by processing the resin coating by gas in the ionized state, and the elution quantity of the ionophore from the surface of the resin coating 11 into a test solution is reduced.例文帳に追加

樹脂皮膜を電離状態のガスで処理することによって、樹脂皮膜１１の表面の樹脂の極性を高め、樹脂皮膜１１の表面から被検液へのイオノフォアの溶出量を低減する。 - 特許庁

To provide a method of preparing a lithographic printing plate by processing with an aqueous solution having a buffer function in which the lithographic printing plate exhibits good stain resistance, maintains the good stain resistance even when preserved for a long period of time, and is excellent in printing durability and chemical resistance.例文帳に追加

緩衝能を有する水溶液による処理によって、耐汚れ性が良好で、長期保存しても耐汚れ性が低下せず、耐刷性、耐薬品性に優れた平版印刷版の作製方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a wafer processing unit for manufacturing a semiconductor device capable of improving the uniformity of a treatment process by minimizing a temperature change of a wafer treatment solution supplied onto a wafer rotating by a spin chuck.例文帳に追加

スピンチャックによって回転するウェーハ上に供給されるウェーハ処理溶液の温度変化を最小化することで処理工程の均一度を向上させる半導体素子製造用ウェーハ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an information processing system presenting to a user, operation manual information wherein a solution corresponding to a problem is narrowed down when the problem related to printing by an image forming device occurs.例文帳に追加

画像形成装置による印刷にかかわる不具合が発生した場合に、その不具合に対応する解決策が絞り込まれた操作マニュアル情報をユーザに対し提示することのできる情報処理システムを提供する。 - 特許庁

The spin coater is provided with an exhaust damper 13 for regulating the exhaust air flow at an opening for exhausting the atmosphere produced through evaporation of resist liquid solution in a fixed cup 5 in order to suppress the exhaust air flow except during spin processing.例文帳に追加

スピン塗布装置において、固定式カップ５内のレジスト液溶媒が蒸発した雰囲気を排気する排気口に排気量を調節する排気ダンパ１３を設け、スピン処理時以外は排気量を抑制する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that enables developing processing by a dilute aqueous alkaline solution with high shape accuracy, and that can form an optical waveguide having superior transmission characteristics even under high temperature and high humidity conditions.例文帳に追加

希アルカリ水溶液による現像処理が可能であり、形状の精度が高く、高温高湿下でも優れた伝送特性を有する光導波路を形成しうる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a deposit protection cover and a plasma processing apparatus capable of providing a simple solution to deposits adhered to portions originally considered to be unreachable by plasma without increasing manufacturing cost.例文帳に追加

本来プラズマが入り込まないと想定されている部位等における堆積物に対して、製造コストの増大を招くことなく簡易に対策を行うことのできる堆積物対策用カバー及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

By utilizing ambiguity outputted by a morphological analysis system, semantic analysis is performed on the output results, and, based on the most correct solution out of the semantic analysis results, processing for outputting the morphological analysis is performed.例文帳に追加

形態素解析システムが出力する曖昧性を利用し、それらの出力結果に対して、意味解析を施し、意味解析結果の最も正しい解に基づいて、形態素解析を出力する処理を行なう。 - 特許庁

The number of such defects after developing as the crushing of pattern is decreased by using the processing solution as a rinse liquid at the time of developing of a patterned host resist layer or thereafter under a specified preferable aspect.例文帳に追加

この処理溶液は、特定の好ましい態様において、パターニングしたホトレジスト層の現像の際又はその後でリンス液として使用すると、パターンのつぶれのような現像後の欠陥を低減することができる。 - 特許庁

To supply a resist separation liquid with temperature appropriately regulated in accordance with a situation to a substrate, in a substrate processing apparatus configured to produce a resist separation liquid by mixing sulfuric acid with a hydrogen peroxide solution to be supplied to a substrate.例文帳に追加

硫酸と過酸化水素水とを混合してレジスト剥離液を生成し基板に供給する基板処理装置において、状況に応じて適切に温度調節されたレジスト剥離液を基板に供給する。 - 特許庁

A processing solution, comprising a liquid mixture of liquid ethylene carbonate, propylene carbonate or both heated to 50 to 200°C, is brought into contact with a substrate, having an organic coated film to remove the organic coated film on the surface of the substrate.例文帳に追加

有機被膜を有する基体に、50〜200℃に加熱した液状の炭酸エチレン、炭酸プロピレンまたは両者の液状混合物からなる処理液を接触させて、基体表面の有機被膜を除去する方法。 - 特許庁

To provide an image recorder, an information processor, and an image recording method by which the output of an image is stabilized by replenishing a developing processing solution in accordance with the size of photosensitive material and the image.例文帳に追加

感光材料のサイズと画像に応じた現像処理液の補充を行い、画像の出力を安定させることが可能な画像記録装置、情報処理装置および画像記録方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which attains resist formation by a photographic process with good pattern accuracy by development using an aqueous alkali solution and exhibits satisfactory heat resistance and flexibility by processing at a low temperature.例文帳に追加

写真法によるパターン精度の良いレジスト形成が、アルカリ水溶液を用いた現像で可能であり、また、低温での加工で十分な耐熱性及び柔軟性を発現する、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The method for producing particulate phosphor comprises a preparation step (S1) preparing the raw material solution for the particulate phosphor, a spraying and pyrolysis step (S2), a surface processing step (S3) and a light emission activating step (S4).例文帳に追加

本発明の微粒子蛍光体の製造方法は、微粒子蛍光体の原料溶液の調整ステップ（Ｓ１）と、噴霧熱分解ステップ（Ｓ２）と、表面処理ステップ（Ｓ３）と、発光活性化処理ステップ（Ｓ４）とを含んでいる。 - 特許庁

Then, the fluoro-compound solution S is frozen by a freezing chuck means, and the plastic base 100 frozen and fixed on the work holding stage 20 is irradiated with an excimer laser from its top face side to perform a hole processing.例文帳に追加

そして、フッ素化合物溶液Ｓを凍結チャック手段にて凍結してワーク保持台２０上に凍結固定したプラスチック基板１００に対して、その上面側からエキシマレーザーの照射による孔加工を行う。 - 特許庁

Media 3 are blown against the surface of the product 1 coated with the film material 2 in a sandblasting process to roughen the processing surfaces (C), and lastly the film material 2 is removed by dissolving with an alkaline aqueous solution (D).例文帳に追加

この被膜材で被覆した成形品の全面にサンドブラスト加工によりメデア３を噴射して粗面化し図１Ｃ、最後に被膜材２をアルカリ水溶液により溶解させ溶解して除去する図１Ｄものである。 - 特許庁

The basic aqueous solution can be reformed by adding adsorbent to improve adhesion force, mixing specified mineral to improve far infrared radiation ability, or reforming in such a way that baking processing is possible.例文帳に追加

基本となる水溶液は吸着剤を入れて接着力を強化させたり特定ミネラルを混合して遠赤外線放射能力を増大させたり焼成加工が可能なように改質する事ができる。 - 特許庁

In the spin washing apparatus, a discharge damper for adjusting a discharging amount is provided to an outlet port for discharging an atmosphere containing an evaporated washing solution as a solvent in a fixed cup to suppress the discharged amount except for spin processing operation.例文帳に追加

スピン洗浄装置において、固定式カップ内の洗浄液溶媒が蒸発した雰囲気を排気する排気口に排気量を調節する排気ダンパを設け、スピン処理時以外は排気量を抑制する。 - 特許庁

To provide a developing solution which combines prevention of contamination with printing durability during printing without degrading image forming property, and in particular, is suitable for environment-friendly ink, and to provide a method for processing a photosensitive planographic printing plate material.例文帳に追加

画像形成性を損なわずに印刷時の汚れと耐刷性の両立ができ、特に環境対応の印刷インキに適用できる現像液および感光性印刷版材料の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for making a planographic printing plate in which both stain in printing and printing resistance are ensured without impairing image forming property, a developing solution can be stabilized and even processing stability is improved.例文帳に追加

画像形成性を損なわずに印刷時の汚れと耐刷性の両立ができ、かつ、現像液を安定化でき、処理安定性をも向上することができる平版印刷版の製版方法を提供すること。 - 特許庁

When the preparation of the processing liquid in an automatic mode is selected, whether the inside of a developing tank is empty or not is checked and when the developing tank is empty, the supply of diluting water, agitation and temperature control are carried out after a stock solution is fed.例文帳に追加

自動モードでの処理液の仕込みが選択されると、現像槽内が空か否かを確認し、現像槽が空であるときには、原液が投入された後に、希釈水の供給及び攪拌、温調を行う。 - 特許庁

To provide a developer for a lithographic printing plate precursor excellent in suitability to development running with respect to a lithographic printing plate precursor for simple development processing with a non-alkaline aqueous solution, and a process for producing a lithographic printing plate.例文帳に追加

非アルカリ性水溶液による簡易現像処理型の平版印刷版原版において、現像ランニング性に優れた平版印刷版原版用現像液、及び、平版印刷版の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photographic processing device having a replenishing device which is capable of supplying a treating solution without being affected by the fluctuation of a power supply voltage and allowing pump means to start without fluctuation in a torque.例文帳に追加

本発明は、処理液の補充に対し、電源電圧の変動の影響を受けず、ポンプ手段の起動に際してトルク変動の生じない補充装置を有する写真処理装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The method for producing particulate phosphor comprises a preparation step S1 preparing the raw material solution for the particulate phosphor, a spraying and pyrolysis step S2, a surface processing step S3 and a light emission activating step S4.例文帳に追加

微粒子蛍光体の製造方法は、微粒子蛍光体の原料溶液の調整ステップＳ１と、噴霧熱分解ステップＳ２と、表面処理ステップＳ３と、発光活性化処理ステップＳ４とを含んでいる。 - 特許庁

This method produces an aqueous solution for processing includes titanium oxide having the photo catalytic function in a strong acidic electrolytic water and a strong alkaline electrolytic water obtained by electrolysis of water which gives no effect on the human body.例文帳に追加

本発明は、人体に対して影響のない電気分解した強酸性電解水及び強アルカリ性電解水に光触媒作用を有する酸化チタンを含有した加工用水溶液の製造法。 - 特許庁

To provide a means for electrically obtaining a low-resistance zinc oxide film without deteriorating the light transmissivity of the zinc oxide film by its processing method in the zinc oxide film electrochemically precipitated from an aqueous solution.例文帳に追加

水溶液から電気化学的に析出させた酸化亜鉛膜において、その処理方法によって酸化亜鉛膜の光透過率を損なうことなく電気的に低抵抗な酸化亜鉛膜を得る手段を提供する。 - 特許庁

The sawdust of the hinoki cypress- hiba arborvitae is distilled by steam of purified water from which the cation is removed by purification processing, and the vaporized liquid after distilling is cooled to extract solution including hinokitiol.例文帳に追加

また、ヒノキアスナロのオガクズを、予め浄化処理されて陽イオンが除去された浄化水の蒸気で蒸留し、その蒸留後の気化液を冷却することでヒノキチオールを含んだ溶液を抽出するようにした。 - 特許庁

The spool cut in a cutting process 1 is polished in a polish process 2 and soaked in an electrolytic solution to be given anodizing processing in an anodizing filming process 3 so as to form a porous anodizing film on the surface of the spool.例文帳に追加

切削工程１で切削加工したスプールを研磨工程２で研磨し、陽極酸化被膜工程３で電解液に浸漬して陽極酸化処理し、スプール表面に多孔性の陽極酸化被膜を形成する。 - 特許庁

The surface of a planographic printing plate using surface- roughened and anodically oxidized aluminum having a psychometric lightness of ≤78 as the base and utilizing a silver complex salt diffusion transfer process is processed with a silicate-containing processing solution after forming a silver image.例文帳に追加

明度指数78以下の粗面化され陽極酸化されたアルミニウムを支持体とする銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版の版面を銀画像形成後にケイ酸塩を含有する処理液で処理する。 - 特許庁

In processing of a photosensitive material, at least one processing solution contains one or more compounds that are at least partly held in a photosensitive material even after processing, and when the material is irradiated with light having a visible spectrum, the compounds can be detected by a nondestructive treatment without affecting the optical properties of the material.例文帳に追加

少なくとも１つ処理溶液が、処理が終了した後も感光性材料中に少なくとも部分的に保持される１種またはそれ以上の化合物含んでいる、感光性材料の処理方法であって、前記化合物が、可視スペクトルの光で照らしたときに、前記材料の光学特性に影響を与えないで非破壊的な処理で検出可能である処理方法。 - 特許庁

A silver halide emulsion is applied on a substrate and developed with a diffusion transfer developing solution to form a thin silver film and subsequent processing is carried out with a processing solution having 0 to <0.1 ppm chlorine ion concentration to produce the objective planographic printing original plate used for manufacturing a planographic printing plate by removing the thin silver film by heat-mode laser exposure.例文帳に追加

ヒートモードのレーザ露光を用いて銀薄膜を除去することにより平版印刷版を作製するため用いる平版印刷原版の製造方法であって、少なくとも、平版印刷原版の支持体にハロゲン化銀乳剤を塗布し、拡散転写現像液により現像して銀薄膜を形成させる製造方法において、該現像液による現像処理工程以降の液体処理を塩素イオン濃度が０ｐｐｍ以上０．１ｐｐｍ未満の処理液で行うこと。 - 特許庁