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processing solutionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1336



例文

To shorten a processing time in a system in which an image processor transfers image data with ID information to a server, and the server processes an application program for providing a solution.例文帳に追加

画像処理装置がID情報付き画像データをサーバに転送し、サーバでソリューション提供のためのアプリケーションプログラムの処理を行うためのシステムにおける処理時間を短縮する。 - 特許庁

The processing solution for forming the surface coated cermet member 1 has the composition including metal salt which is reacted with titanium compound to generate compound oxide, and solvent of20 mass%.例文帳に追加

表面被覆サーメット部材1の形成用の処理液は、チタン化合物と反応して複合酸化物を生成する金属塩と、20質量%以上の溶媒とを含有した組成とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the noncontact data carrier is provided with a process for executing etching by injecting an etching solution and a process for executing the etching processing over the whole surface.例文帳に追加

このような非接触データキャリアの製造は、エッチング液を噴射してエッチングする工程の後に、全面のエッチング処理を行う工程を設けることにより製造することができる。 - 特許庁

Bubbling in the photographic processing solution due to the hydrophilic polymer is, however, prevented by the presence of a nonionic surfactant having an HLB(hydrophile-lipophile balance) of <12.例文帳に追加

しかしながら、上記写真処理溶液中の上記親水性ポリマーに起因する泡立ちは、12未満のHLBを有する非イオン性界面活性剤の存在によって防止される。 - 特許庁

例文

To perform efficient parallel processing for various data storage methods by a memory decentralized parallel computer which solves simultaneous linear equations by an iterative solution.例文帳に追加

反復解法により連立一次方程式を解くメモリ分散型並列計算機において、多様なデータ格納方法に対応して効率的な並列処理行うことが課題である。 - 特許庁


例文

A fixed relative positional relation between the wafer W and the wafer housing grooves 2 is broken off, so that replacement of a processing solution and removal of air bubbles can be accelerated in a narrow structure.例文帳に追加

ウェーハWとウェーハ収容溝2との相対位置の固定関係が解消されるので、狭隘な構造部における処理溶液の交換や気泡の除去が促進される。 - 特許庁

To realize a system for suppressing problem solution for any useless input candidate by operating processing in a semantic level to plural input candidates including vagueness.例文帳に追加

曖昧さを含む複数の入力候補に対して意味レベルでの処理を行なうことによって無意味な入力候補に対する問題解決を抑制可能にする方式を提供すること。 - 特許庁

To provide a silver halide photosensitive material capable of obtaining an image having good image preservability and a good color tone using the same processing solution system in color/black-and-white developments.例文帳に追加

カラー/白黒現像において同一の処理液システムを用いて、良好な画像保存性及び色調を有する画像を得ることができるハロゲン化銀感光材料を提供すること。 - 特許庁

To form a silicon dioxide film of high quality on a surface of a semiconductor in a short time through processing wherein the semiconductor is brought into contact with vapor and/or a solution of nitric acid of high concentration.例文帳に追加

半導体を高濃度の硝酸の蒸気および/または溶液に接触させる処理で、短時間に、前記半導体表面に高品質の二酸化シリコン膜の生成を実現する。 - 特許庁

例文

As a result of this, the fluorine-based inert liquid is located under the hydrofluoric acid aqueous solution in a state of a tank 91 for recovering these processing liquids, and moreover, they are stored under a completely separated state.例文帳に追加

このため、これらの処理液を回収するタンク91では、フッ素系不活性液体がフッ酸水溶液の下に位置し、しかも完全に分離した状態で貯溜される。 - 特許庁

例文

The convergence laser beam 24 is charged into diamond 15 and absorbed by solid solution nitrogen contained in diamond 15; and thermal energy processing of the diamond 15 is carried out by ablation and evaporation.例文帳に追加

収束レーザ光24はダイヤモンド15に入射され、ダイヤモンド15に含有されている固溶窒素に吸収されて、ダイヤモンド15はアブレーションや蒸発によって熱エネルギー加工される。 - 特許庁

To provide a method and a device which calculate an optimum solution by selecting and executing a means which efficiently performs optimization processing in accordance with the characteristics of an evaluation function to be an object.例文帳に追加

対象となる評価関数の特徴に合わせて効率的に最適化処理する手段を選択し実行することで最適解を求める方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The Australian Customs Service provided an explanation of its Smartgate system, which is an automated border processing solution incorporating facial recognition and e-passport technology, that enables eligible travelers to self-process.例文帳に追加

豪州税関は、該当する旅客が自身で手続を終えられるよう、顔の認識と電子パスポートの技術を用いて、自動で旅客手続処理を行う「スマートゲートシステム」の説明を行った。 - 財務省

To provide a process liquid feeding unit which efficiently implements a sensitizing solution application process and simplifies the configurations of the unit and an apparatus, and to provide a substrate processing apparatus and method using the same.例文帳に追加

感光液塗布工程を効率的に遂行できユニット及び装置の構成を簡素化できる処理液供給ユニットと、これを用いた基板処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

This system is provided with a web server, a communication server, a mail server, a customer data base server, a questionnaire data base server, a reply analysis server, a purchase barrier data base server, and a purchase barrier solution data base server and an information control processing part.例文帳に追加

ウェブ、通信、メール、顧客データベース、アンケートデータベース、回答分析、購入障壁データベース、購入障壁解決データベースの各サーバと情報制御処理部を備える。 - 特許庁

As for the calculation of the communication route network, first of all, (1) all communication route candidates are defined as targets and strict calculation processing is carried out for calculating a strict solution of the best evaluated communication route network.例文帳に追加

通信経路網の算出は、先ず、1)全ての通信経路候補を対象として、評価が最良の通信経路網の厳密解を算出する厳密解算出処理を実行する。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material which ensures such satisfactory sensitivity as to cause no unevenness in density and can rapidly be processed even in a processing system in which a developing solution is replenished by a small amount.例文帳に追加

現像液の補充量の少ない処理システムにおいても濃度ムラのない十分な感度が得られ、同時に迅速処理可能なハロゲン化銀写真感光材料を提供すること。 - 特許庁

To provide a nozzle in which the occurrence of electric discharge from a processing solution to a substrate is suppressed, and which is small-size and lightweight and of which the strength is sufficiently secured, and a substrate treatment device provided with the same.例文帳に追加

処理液から基板への放電の発生が抑制されるとともに、小型かつ軽量で十分な強度が確保されたノズルおよびそれを備える基板処理装置を提供する。 - 特許庁

(2) The platemaking method for the lithographic printing plate comprises processing the lithographic printing plate by a developing solution substantially not containing the developing agent, then washing away the silver halide emulsion layers.例文帳に追加

(2)前記平版印刷版を実質的に現像主薬を含有しない現像液で処理し、次いでハロゲン化銀乳剤層を水洗除去する平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

In this initial chemical processing (time until time T1 elapses from time 0), a flow rate of hydrofluoric acid solution is suppressed to 510 (mL/min) and the usage of hydrofluoric acid is suppressed.例文帳に追加

そこで、初期薬液処理(時刻0から時間T1が経過するまでの間)においてはフッ酸溶液の流量を510(mL/min)に抑えてフッ酸の使用量を抑制している。 - 特許庁

In particular, this invention provides a protective overcoat permeable to a processing solution, having water resistance in a final processed product and imparting improved water-abrasion resistance.例文帳に追加

より詳細には、本発明は、最終的な処理済み製品においては耐水性であり、同時に、改良された水−耐摩耗性を提供する処理溶液透過性保護オーバーコートを提供する。 - 特許庁

A day scheduler 30 prepares an attending schedule of the plurality of operators, and at that time, the optimizing processing for obtaining the optimum solution using SA method is conducted to obtain an attending schedule table 70.例文帳に追加

1日スケジューラ30は、複数のオペレータの着台スケジュールを作成し、その際、SA法を用いて最適解を求める最適化処理を行うことにより、着台スケジュール表70を得る。 - 特許庁

To provide the developing solution capable of relieving silver stains occurring in a developing tank and/or on developing racks or rollers at the time of processing the rapidly processable silver halide photosensitive material.例文帳に追加

迅速処理が可能なハロゲン化銀感光材料を処理する際、現像タンク中及び/ 又は現像ラック、ローラーに発生する銀汚れを軽減しうる現像液を提供する。 - 特許庁

In the stripping processing process, the residual polymerizable monomers in the polymer particles are removed by subjecting the dispersion solution to the stripping treatment under the presence of a specific non-silicone defoaming agent.例文帳に追加

ストリッピング処理工程において、分散液を特定の非シリコーン系消泡剤の存在下にストリッピング処理して、重合体粒子中の残留重合性単量体を除去する。 - 特許庁

This glass substrate for magnetic disk is obtained by applying solution including compound including zirconium on a surface of the glass substrate, performing heat processing of the applied glass substrate, and forming a layer including zirconium.例文帳に追加

上記磁気ディスク用ガラス基板は、ジルコニウム含有化合物を含む溶液をガラス基板表面に塗布し、塗布されたガラス基板を熱処理して、ジルコニウム含有層を有することにより得る。 - 特許庁

A water repellent processing method includes applying a solution containing the water repellent agent which reversibly undergoes the solid-liquid phase transition within the range of 0 to 100°C to a fiber aggregate and drying it.例文帳に追加

0〜100℃の範囲内で可逆的に固液相転移する撥水剤を含む溶液を繊維集合体に適用し、乾燥することを特徴とする撥水加工方法。 - 特許庁

The water-soluble lubricant for metal processing allows little change in the solution viscosity, inhibits decrease in the liquid stability when diluted with water and inhibits generation of mists in cutting process.例文帳に追加

この水溶性金属加工用油剤は、溶液の粘度変化が少なく、水に希釈した際の液安定性の低下を防ぐと共に、切削加工工程においてミストの発生を抑制する。 - 特許庁

To provide a polyester resin having heat resistance, transparency, solvent solubility, cohesiveness to a substrate, and alkali decomposition properties suitable for film processing; and a coating solution for the same.例文帳に追加

耐熱性、透明性、溶剤溶解性を有し、基材に対する優れた密着性および膜加工に適したアルカリ分解性を有するポリエステル樹脂、およびそのコート液を提供する。 - 特許庁

SYSTEM AND PROGRAM FOR PROCESSING OPERATING PROBLEM SOLUTION FOR MOBILE MACHINE, DATABASE RETRIEVAL PROGRAM AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM RECORDED WITH THE PROGRAM例文帳に追加

モバイル機用取扱問題解決処理システム及びモバイル機用取扱問題解決処理プログラム並びにデータベース検索プログラム並びに当該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

The ingot processor also includes a processing electrode 10 for dissolving and cutting the ingot member I in the electrolytic solution E by supplying a current to form the plurality of slice members S.例文帳に追加

インゴット処理装置は、電流が流されることによってインゴット部材Iを電解液E内で溶解して切断し、複数のスライス部材Sを生成する加工用電極10も備えている。 - 特許庁

The ion-exchange filter is obtained by processing hydrophilic surface treatment of a base material filter made up of polyolefin or polyfluorolefin, applying ion-exchange polymer solution on the filter, and then by drying it.例文帳に追加

ポリオレフィン又はポリフルオロオレフィンからなる基材フィルタを表面親水化処理した後、該基材フィルタにイオン交換性ポリマー溶液を塗布し、乾燥してイオン交換性フィルタを得る。 - 特許庁

In a deposition process (steps S2 and S3), when a first voltage is applied to the processing solution through electrodes, a reduction reaction takes place, and metal ions are separated out as metal at the electrode.例文帳に追加

析出過程(ステップS2,S3)において、電極を介して処理液に第1電圧を印加すると還元反応が生じ、処理液中の金属イオンが金属として電極に析出する。 - 特許庁

In this device, the quantity of the distributed replenished solution is dependent on the quantity or size of the photosensitive material which is transported along a processing course and, more minutely, the length of the photosensitive material.例文帳に追加

この装置において、分配される補給溶液の量は、処理径路に沿って輸送される感光性材料の量又はサイズ、より詳しくは感光性材料の長さに依存する。 - 特許庁

As a result, once address solution by DNA processing is performed, it is possible for the client terminal 107 to perform communication between a plurality of TCP sessions without transmitting any DNS query.例文帳に追加

その結果、一度、DNS処理でのアドレス解決が行われると、クライアント端末107では、その後はDNSクエリを送ることなく、複数のTCPセッションでの通信が可能になる。 - 特許庁

In the method for monitoring a developing solution for a planographie printing plate, when many planographic printing plates are processed using an automatic processing machine, a tracing material stable under alkalinity is previously added to the photosensitive layer of each of the planographic printing plates and the amount of the tracing material dissolved in the developing solution is measured to judge the developing ability of the developing solution.例文帳に追加

自動現像処理装置を用いて、多量の平版印刷版を現像処理する場合に、アルカリ性下で安定なトレース物質を前記平版印刷版の感光層に加えておき、現像液中に溶け込んだ前記トレース物質の量を測定することで、当該現像液の現像処理能力を判断することを特徴とする平版印刷版用現像液のモニタ方法。 - 特許庁

The polishing solution for metal is constituted, containing an amino acid derivative purified by a purifying method for separating out the amino acid derivative from a processing solution which is obtained after electrodialysis performed by adding acid to an aqueous solution containing the amino acid derivative expressed by formula (I), and used for a chemical mechanical flattening of a copper wire of a semiconductor integrated circuit board.例文帳に追加

下記式(I)で表されるアミノ酸誘導体を含む水溶液に酸を添加して電気透析を行った後、得られた処理液から前記アミノ酸誘導体を析出させる精製方法によって精製された前記アミノ酸誘導体を含有し、半導体集積回路用基板の銅配線の化学的機械的平坦化に用いられることを特徴とする金属用研磨液。 - 特許庁

In the substrate processing device 1, a liquid film of the hydrogen peroxide water solution is formed on a surface of a semiconductor wafer W by immersing the semiconductor wafer W in the hydrogen peroxide water solution 143, and a high-temperature SPM immediately after mixing is brought into contact with the semiconductor wafer W by immersing the semiconductor wafer W with the liquid film of the hydrogen peroxide solution formed on the surface in high-temperature sulfuric acid 103.例文帳に追加

基板処理装置1では、過酸化水素水143に半導体ウエハWを浸漬することにより半導体ウエハWの表面に過酸化水素水の液膜を形成し、表面に過酸化水素水の液膜が形成された半導体ウエハWを高温の硫酸103に浸漬することにより、混合直後の高温SPMを半導体ウエハWに接触させる。 - 特許庁

To provide an electrode inserting method that more secures the insertion of an electrode into an electrode guide and a device therefor, provide a pore electric discharge machining method capable of stably feeding the electrode by preventing a contaminated liquid in the processing solution from entering the electrode guide and reduction of a metal ion in the processing solution to cause deposition of the metal on the electrode guide and improving machining accuracy, and provide a device therefor.例文帳に追加

電極ガイドに対する電極挿通をより確実にする電極挿通方法および装置の提供と、加工液中の汚液の電極ガイドへの侵入および加工液中の金属イオンが還元されて電極ガイドへ付着を防止して安定した電極送りを可能にし、かつ加工精度を向上させる細穴放電加工方法および装置の提供。 - 特許庁

The manufacturing method for making the ceramic particles uniformly adhere to the carbon fibers includes the steps of: mixing a carbon fiber dispersion solution in which processing for improving dispersibility and processing for improving wettability are performed to the nano structure carbon fibers, with a sol solution obtained by adjusting metal alkoxide as a ceramic raw material; making the ceramic particles adhere to the carbon fibers by a sol-gel method; and performing heating baking at the low temperature.例文帳に追加

炭素繊維にセラミックスを均一に付着させるための製造方法は、ナノ構造炭素繊維に分散性が向上する処理及び濡れ性が向上する処理を施した炭素繊維分散溶液と、金属アルコキシドをセラミックス原材料として調製したゾル溶液とを混合し、ゾル・ゲル法によりセラミックス粒子を炭素繊維に付着させ、低温で加熱焼成する。 - 特許庁

In the processing method for a silver halide color photographic sensitive material, in a step for processing an exposed silver halide color photosensitive material with a bleach fixing solution after development, the bleach fixing solution does not substantially contain a thiosulfate and contains at least one selected from specified ferric salts and specified compounds or thiocyanates.例文帳に追加

露光されたハロゲン化銀カラー感光材料を現像処理後に漂白定着液で処理する工程において、該漂白定着液が、チオ硫酸塩を実質的に含有せず、特定の第2鉄塩、及び特定の化合物またはチオシアン酸塩から選ばれ少なくとも一種を含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法である。 - 特許庁

To provide an image forming method by which a high-quality print free of marked deterioration of glossiness after processing and ensuring less unevenness in the white background during storage of the print is provided even when the condition of a processing solution varies.例文帳に追加

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、処理液の状態が変化しても、処理後の光沢感低下やプリント保存時の白地ムラが目立ちにくい高品質なプリントを提供する画像形成方法を提供することにある。 - 特許庁

In the processing apparatus having an application means for applying the processing solution to the photosensitive material, the slot die having a plurality of fluid outflow routes consisting of manifolds and slits within the die is used as the application means.例文帳に追加

感光材料に処理液を塗布するための塗布手段を有する処理装置において、前記塗布手段としてダイ内部にマニホールドとスリットからなる液体の流出経路を複数有するスロットダイを用いたことを特徴とする感光材料の処理装置。 - 特許庁

To provide a vaporizer that can restrain the deterioration of a medical solution, has high vaporization efficiency, and can reduce the flow rate of a carrier gas, to provide a substrate processing apparatus employing the vaporizer to reduce the risk of leakage of a vaporized processed gas, and to provide a substrate processing method.例文帳に追加

薬液の劣化を抑え、気化効率が高くキャリアガスの流量を少なくすることができる気化装置、及びこの気化装置を備えることにより気化された処理ガスの漏洩のリスクを低減させた基板処理装置、基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a processing method for obtaining a printing plate excellent in process stability, printing property and recovering property from contamination even when a large amount of lithographic printing plate material is developed for a long period of time, and to provide a developer solution used for the processing method.例文帳に追加

長期間大量に平版印刷版材料を現像処理した場合でも、処理安定性に優れており、刷り出し性に優れ、汚れ回復性に優れる印刷版を与える処理方法およびこの処理方法に用いられる現像液を提供する。 - 特許庁

This method for disinfecting the raw vegetables comprises processing raw vegetables in the whole condition in hot water at 50-70°C for 1-15 min, and processing the vegetables in the whole condition as they are using a sodium hypochlorite aqueous solution or hypochlorite water having effective chloride concentration of 30-300 ppm and a temperature of25°C.例文帳に追加

生野菜をホール状で50〜70℃の温水で1〜15分間処理した後、ホール状のままで有効塩素濃度が30〜300ppmで且つ温度が25℃以下の次亜塩素酸ナトリウム水溶液または次亜塩素酸水を用いて処理する方法。 - 特許庁

To provide a color developing concentrated composition that suppresses deterioration of the liquid composition due to storage at a high temperature, prevents interfacial precipitation in a processing tank when used as a replenisher solution and prevents contamination of a processed photosensitive material and to provide a photographic processing method using the composition.例文帳に追加

高温での保存による液組成の劣化を抑制し、補充液としての使用時における処理槽界面析出防止及び処理感光材料の汚染防止が図れる発色現像濃縮組成物及びこれを用いた写真処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solution for processing of metal replacement with aluminum or aluminum alloy used for surface processing for removing an oxide film on an aluminum substrate, suppressing attackability to the aluminum substrate and forming a plating film having high smoothness and excellent plating appearance.例文帳に追加

アルミニウム素地上の酸化皮膜を除去するとともに、アルミニウム素地へのアタック性を抑え、平滑性が高く、めっき外観の優れためっき皮膜を形成させるための表面処理に用いられるアルミニウム又はアルミニウム合金の金属置換処理液を提供する。 - 特許庁

To configure selective processing on components in a page fragment, you set the immediate property to true on those components. This solution is sufficient to cover a number of uses cases; however,it is still limited in sofar as it can only configure selective processing on one group of components.例文帳に追加

ページフラグメント内のコンポーネントの選択的処理を設定するには、コンポーネントの「immediate」プロパティーを true に設定します。 このソリューションはいくつかのケースに使用できますが、1 つのグループのコンポーネントに対してのみ選択的処理を設定できるという制限があります。 - NetBeans

To provide a photosensitive material containing a flat platy silver halide grain emulsion, having high contrast and ensuring suppressed deterioration of its color leaving property and a silver tone, particularly a preserved silver tone even when it is rapidly processed with a processing solution not containing a boron compound and to provide a processing method for the photosensitive material.例文帳に追加

ホウ素化合物を含有しない処理液で迅速処理しても、高コントラストで、残色性、銀色調、特に保存銀色調の劣化が改良された平板状ハロゲン化銀粒子乳剤を含有する感光材料及びその処理方法を提供する。 - 特許庁

例文

In formating the uneveness, the silica performed with surface processing of a radiation-curable resin is dispersed, a solution thereof having a viscosity appropriately adjusted by a solvent is applied onto the film, and ultraviolet rays, an electron beam or the like is radiated to cure it.例文帳に追加

形成する際は、放射線硬化型樹脂の表面処理されたシリカを分散し、溶剤にて適宜粘度調整したものをフィルムに塗布し、紫外線、電子線などを照射して硬化させる。 - 特許庁




  
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