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processing solutionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1336件
To provide an IR sensitive composition excellent in suitability to processing with an exhausted developing solution having lowered activity (development latitude) when used in an image forming layer of an original plate for a planographic printing plate or the like.例文帳に追加
平版印刷版用原版の画像形成層等に用いた場合に、活性度の落ちた疲労現像液での処理性(現像ラチチュード)に優れる感赤外線感光性組成物を提供すること。 - 特許庁
The processing composition container for the photographic solution of a prismatic shape is formed by disposing the mouth in a segment near the flank atop the container and providing this flank with a bulge, longer than wide, of which the upper part verges the top surface of the container.例文帳に追加
また、口部を容器上面の側面に近い部分に設け、その側面に上部が容器上面に接する縦長の膨らみを備えた角柱状の写真用液体処理組成物容器。 - 特許庁
The single wafer processing etching device 10 is constituted so as to apply etching on the upper surface 11a of the wafer 11 by supplying etching solution 14 onto the upper surface 11a of the wafer 11, while turning the wafer 11.例文帳に追加
枚葉式エッチング装置10は、ウェーハ11を回転させながら、ウェーハ11の上面11aにエッチング液14を供給してウェーハ11の上面11aをエッチングするように構成される。 - 特許庁
In more details, the citric acid solution is preferably extracted from plum or fruit and preferably includes vinegar, and the method for processing the pickled plum preferably includes softening the skin of pickled plum with hard skin.例文帳に追加
具体的には、クエン酸液は、梅もしくは果実から抽出すると好ましく、食酢からなるクエン酸液であると良く、さらに、皮のかたい梅干しの皮をやわらかくする梅の加工の方法であると良い。 - 特許庁
To provide a high-precision inexpensive delivery system which uses a replenishment solution packages containing processing solutions so that they are all consumed at the same time and delivers replenishment solutions to a photographic processor.例文帳に追加
同時に空になるように複数の処理溶液を有した補充液パッケージを使用する、写真処理装置へ補充溶液を供給する高精度かつ安価な供給装置を提供すること。 - 特許庁
The system and method is adapted to recover water from humid air for reuse in the processor, as well as convert a liquid waste processing solution into a dry waste for disposal.例文帳に追加
この感光材処理システム及び方法は、液状の廃棄処理溶液を、廃棄可能な固形状の廃棄物に変えると同様に、湿気を帯びた空気から水を回収し、感光材処理器内で再利用する。 - 特許庁
The classification facility 11 for water quality is composed of a temperature controlled tank having one or more parts selected from a sampling part, solution producing part and reaction part, and of a measuring means, information processing part and cleaning means.例文帳に追加
前記水質分類設備11が、サンプリング部、溶液生成部および反応部から選ばれる1つまたは2つ以上を備えた恒温槽と、計測手段と、情報処理部と、洗浄手段とからなる。 - 特許庁
After rinse processing, a bottom surface 43 as a substrate facing surface of a facing member 4 formed of a porous material is disposed with a space while facing a rinse solution adhering on a substrate surface Wf.例文帳に追加
リンス処理後に多孔質材料で形成された対向部材4の底面43を基板対向面として基板表面Wfに付着するリンス液に対向しながら離間配置させる。 - 特許庁
In the air bubble removal parts 61, 62, the processing solution is turned to collect the air bubbles to the center of the turning and remove them, so that the particles can be removed without the use of any filter.例文帳に追加
気泡除去部61,62では、処理液を旋回することによって、その旋回中心に気泡を集合させて除去するので、フィルタを用いることなくパーティクルを除去することができる。 - 特許庁
To surely obtain a solution and also shorten a processing time by performing a 1st path retrieval using a coarse model to create a word lattice, and performing a 2nd path retrieval from the end on the word lattice using a high accurate model.例文帳に追加
粗いモデルで第1パス探索を行って単語ラティスを作り、高精度モデルを用いて単語ラティス上で終端から第2パス探索を行い、必ず解が得られ、かつ処理時間を短かくする。 - 特許庁
To realize high speed operation by solving the restriction of an applicable circuit or a difficulty in a parallel processing in obtaining the solution of a sparse matrix in the transient analysis of an electronic circuit simulation.例文帳に追加
本発明は、電子回路シミュレーションの過渡解析において、適用可能回路の限定や、スパース行列の求解における並列化処理の困難性を解決し、高速化を実現することにある。 - 特許庁
The problem of the phase separation of polymer aqueous solution is solved by adding a suitable amount of polyvinyl alcohol, and the problem of uneven volumetric change of polymer hydrogel is solved by adding polyvinyl alcohol and by processing of taking off water at a high temperature.例文帳に追加
ポリマー水溶液の相分離問題は適当量のポリビニルアルコール類添加により、また、ポリマーハイドロゲルの体積変化問題はポリビニルアルコール類添加と高温離水処理により解決した。 - 特許庁
To provide a developing solution for a photosensitive planographic printing plate capable of satisfying both stains in printing and printing resistance and capable of improving even processing stability under a pH change and to provide a method for making a planographic printing plate.例文帳に追加
印刷時の汚れと耐刷性の両立ができ、かつ、pH変動に伴う処理安定性も向上した感光性平版印刷版用現像液及び印刷版製版方法を提供する。 - 特許庁
This method comprises leading an exhaust gas 2 discharged from a firing dryer 1 in the finish processing step of raw tea leaves, through a heat exchanger 4 or the like to liquefy and collect an aqueous solution 5 containing tea flavor components.例文帳に追加
原料葉茶の仕上加工工程における火入乾燥機1から放出される排気2を熱交換器4等に通して、茶香気成分を含有した水溶液5を液化・回収する。 - 特許庁
Besides, the driving force of a motor 142 is transmitted to the roller pairs 50 to 126 by the attractive force and the repulsive force of magnets 140 and 144 and the roller pairs 50 to 126 are rotated, so that the processing solution is surely enclosed.例文帳に追加
しかも、マグネット140、144の吸引力及び反発力によってモータ142の駆動力を搬送ローラ対50〜126へ伝えて回転させるため、確実に処理液を封入できる。 - 特許庁
In the analysis by notation knowledge, processing is performed by a grammar driving DP using stack (dynamic programming), wrong read/unread or omission of N character is permitted, and an optimum solution based on the editing distance is searched.例文帳に追加
表記知識の解析では、スタックを用いた文法駆動DP(動的計画法)により処理を行い、N文字の誤不読・省略を許容し、編集距離に基づく最適解の探索を行う。 - 特許庁
The value of the objective function of an initial executable solution calculated in advance is set as the maximum value, and a constraint formula 0≤xi≤1, relaxed regarding the number of use of raw materials is set, and simplex arithmetic processing is performed.例文帳に追加
予め求めた初期実行可能解の目的関数の値を最大値とし、原材料の使用本数について緩和された制約条件式0≦xi≦1を設定してシンプレックス演算処理をする。 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus and method capable of efficiently removing resist residues on the surface of a substrate by using a sulphuric acid while using a hydrogen peroxide solution which is unstable at a high temperature.例文帳に追加
高温で不安定な過酸化水素水を使用しながら、硫酸を用いて基板表面のレジスト残渣を効率よく除去することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for processing a semiconductor substrate which processes the semiconductor substrate with a solution having an extremely low concentration of CN^-ion to remove metallic contaminations therefrom, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加
半導体基板を、CN^−イオン濃度が極低濃度の溶液で処理して、金属汚染を除去する半導体基板の処理方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus and method capable of efficiently removing resist residues on the surface of a substrate by using a sulphuric acid without using a hydrogen peroxide solution which is unstable at a high temperature.例文帳に追加
高温で不安定な過酸化水素水を使用せずに、硫酸を用いて基板表面のレジスト残渣を効率よく除去することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁
A substrate W on which a silicon oxide film and a silicon nitride film are formed is immersed into the phosphoric acid solution in the immersion processing bath 10 to proceed a process of selectively etching the silicon nitride film.例文帳に追加
シリコン酸化膜およびシリコン窒化膜が形成された基板Wが浸漬処理槽10のリン酸水溶液中に浸漬されることによってシリコン窒化膜の選択的なエッチング処理が進行する。 - 特許庁
The numerical analytical processor 100 has an analytical part 10 consisting of plural analytical blocks 10-1 to 10-4,... and a control part 20 for processing their analytical results and obtaining an approximate solution.例文帳に追加
数値解析用処理装置100は複数の解析ブロック10−1,10−2,10−3,10−4,・・からなる解析部10とそこでの解析結果を処理して近似解を得る制御部20を有する。 - 特許庁
To enable heating and easy charge and detachment and to maintain a solution in a self-cleaning tank when all processing is carried out in the same tank.例文帳に追加
本発明は、加熱可能であり、容易に装填する及び取外すことが可能であり、全ての処理が同一のタンク内で行われる場合は、自洗式のタンクの中に溶液を維持することを目的とする。 - 特許庁
The antirust film is formed on the external conductor of the insulating substrate, and a fluorescent film is formed on the antirust film using a fluorescence processing solution used for the formation of the antirust film.例文帳に追加
絶縁基板の外部導体上に防錆膜を形成し、防錆膜の形成で用いた処理液に蛍光剤を微量添加した蛍光処理液を用いて、防錆膜上に蛍光膜を形成する。 - 特許庁
To provide a method capable of miniaturizing a spot size to a droplet amount, when spotting a droplet of a solution including a probe onto the base material (substrate) surface which has been subjected to application processing with an immobilization agent.例文帳に追加
固定化剤塗布処理した基材(基板)表面に対して、プローブを含有する溶液の液滴をスポットする際、その液滴量に対するスポット径の微小化を可能とする手法の提供。 - 特許庁
To reproduce images free of the occurrence of an excess smear while utilizing the exposure capacity possessed by an exposure head as effectively as possible without depending upon the kinds of photographic paper and/or the state of a development processing solution.例文帳に追加
印画紙の種類および/または現像処理液の状態に依存せず、露光ヘッドの有する露光能力をできるだけ有効に活かしながら、余分な滲みが生じることない画像を再現する。 - 特許庁
This method comprises processing a solution of phthalonitrile in tetrahydrofuran, tetrahydrofuran/water or dimethoxyethane at 100-180 bar hydrogen pruessure in the presence of 5% Pt/C at 30-100°C.例文帳に追加
フタロニトリルの、テトラヒドロフラン溶液、テトラヒドロフラン/水の混合物溶液、又はジメトキシエタン溶液を、30〜100℃の温度、かつ、5%Pt/Cの存在下において、100〜180barの水素圧力に付す。 - 特許庁
This basket consists of a vessel with lid made of foamed metal or sintered metal having permeability and materials not solving in nitric acid solution in a solving tank of a chemical-processing facility.例文帳に追加
このバスケットは、通液性を有する発泡金属もしくは焼結金属で、かつ化学処理施設の溶解槽中の硝酸溶液に溶解しない材料で作られている蓋付容器からなる。 - 特許庁
This composition for processing the fiber product is characterized by comprising an aqueous solution containing (A) a hydrolyzed protein silylation product, (B) a protein and (C) chitosan as essential components and further containing (D) a plant-originated active ingredient.例文帳に追加
加水分解蛋白質シリル化物(A) 、蛋白質(B) およびキトサン(C)を必須成分とし、さらに植物由来の有効成分(D) を含有する水溶液からなる繊維製品加工用組成物である。 - 特許庁
To provide a polishing device in which water or a mixed liquid of water and alcohol can be used as a processing liquid which solves various problems resulting from a use of an aqueous strong alkali solution.例文帳に追加
加工液として水または水とアルコールの混合液を使用することが可能であり、したがって、強アルカリ水溶液を使用することに伴う諸問題を解消した研磨装置を提供する。 - 特許庁
A solvent of the first sol solution is dried by this heating processing, whereby the electrode active material precursor is filled in the pore of the porous solid electrolyte with a high concentration (in a large amount).例文帳に追加
この加熱処理で第1ゾル溶液の溶媒を乾燥させることによって、多孔質固体電解質の孔内に電極活物質前駆体が高濃度で(大量に)充填されることになる。 - 特許庁
To provide a ^18F-fluoro-deoxy-glucose (FDG)-solution which enables autoclave processing and, on the other hand, conforms to a standard that radiochemical purity after 8 hours from preparation is still 95% or more.例文帳に追加
オートクレーブ処理でき、一方で依然として作成8時間後の放射化学的純度が95%より高いという規格に適合する、^18F−フルオロ−デオキシ−グルコース(FDG)−溶液を提供すること。 - 特許庁
The process for producing a film-forming composition comprises processing a solution containing an aromatic polyarylene and/or an aromatic polyarylene ether through a filter medium on which a zeta potential acts.例文帳に追加
芳香族ポリアリーレンおよび芳香族ポリアリーレンエーテルもしくはいずれか一方を含有する溶液をゼータ電位が作用する濾材により処理することを特徴とする膜形成用組成物の製造方法。 - 特許庁
The aqueous processing solution for a fixed abrasive grain wire saw contains: at least one water-soluble polymer selected from a copolymer containing (A) polyvinylpyrrolidone and vinylpyrrolidone; and (B) water.例文帳に追加
(A)ポリビニルピロリドン、および、ビニルピロリドンを含む共重合物から選ばれる少なくとも一種類以上の水溶性高分子、ならびに、(B)水を含有する固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液とする。 - 特許庁
To provide a solubility displaying method useful for evaluating the solute solubility of water or an aqueous solution, especially the degree of dissociation of water for use in electrolytic water, drinking water, food processing, medicines, cosmetics, a detergent and the like.例文帳に追加
電解水等、飲用、食品加工用、薬用、化粧品用、洗剤等に使用される水又は水溶液の溶質溶解性、特に水の解離度を評価するのに有用な表示方法を提供する。 - 特許庁
To make it possible to feed a processing solution by means of a bellows pump even if there occurs a trouble in a means to detect the expansion of first and second bellows.例文帳に追加
第1、第2のべローズの拡張を検出する手段が故障しても、ベローズポンプによる送液動作を行なうことを可能とした基板処理装置の処理液送液装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide means for effectively and economically removing an organic coated film, e.g. a resist film on a substrate in a short time by making use of a processing solution which is safe, even at high temperatures and is useable in regenerative circulation.例文帳に追加
高温でも安全で、循環再生使用ができる処理液を用いて、基体上の有機被膜、例えばレジスト膜を、短時間で効率的かつ経済的に除去する手段を提供すること。 - 特許庁
To present an electrolytically oxidizing method for restraining the deterioration of the COD (or TOC (total organic carbon)) decreasing efficiency when COD (or TOC) of waste photographic processing solution is effectively electrolyzed continuously.例文帳に追加
写真廃液のCOD(あるいはTOC)を効果的に、かつ継続して電解する際のCOD(あるいはTOC)低減効率の低下が抑止された電解酸化処理方法を提示すること。 - 特許庁
In a substrate processing apparatus 100, substrate treatment liquid TL can be supplied only to a substrate processing region TS on a substrate PB to be processed by, for example, immersing a substrate holding member 110, to which the substrate PB to be processed is set, into the substrate treatment liquid TL in the substrate processing region TS, the substrate treatment liquid being accommodated in a solution holding container 130.例文帳に追加
基板処理装置100は、例えば、処理対象基板PBがセットされた基板保持部材110を溶液保持容器130に収容されている基板処理領域TSの基板処理溶液TLに浸漬することにより、処理対象基板PBの基板処理領域TSのみに基板処理溶液TLを供給することができる。 - 特許庁
To provide means of lightening the work load of an exchange of an empty container for a new one, retaining the performance of a concentrated liquid processing composition in the new container after start of use, and suppressing evaporation concentration and precipitation, when a photographic processing solution is prepared from the concentrated liquid processing composition with an automatic preparing unit.例文帳に追加
自動調製装置を用いて濃厚液体処理組成物から写真処理液を調製する際の、空容器と新しい容器との交換作業の作業負荷の軽減と、使用を開始した容器中の濃厚液体処理組成物の性能の維持及び蒸発濃縮や沈殿析出の抑止とを実現させる手段を提供すること。 - 特許庁
The microfabrication processing method is characterized by storing and using the microfabrication processing agent of aqueous solution containing at least one kind of hydrofluoric acid or ammonium fluoride in a range of a chemical temperature of 5 to 15°C for a predetermined period, and by carrying out a microfabrication of a workpiece in the range of the chemical temperature in case of using the microfabrication processing agent.例文帳に追加
微細加工処理方法は、フッ化水素酸、又はフッ化アンモニウムの少なくとも何れか一種を含む水溶液の微細加工処理剤を薬液温度5〜15℃の範囲で所定期間保管しつつ使用し、かつ、前記微細加工処理剤の使用の際には、前記薬液温度の範囲内で被加工物を微細加工することを特徴とする。 - 特許庁
The coating solution for production of the nonlinear optical material is prepared by processing a raw material solution containing at least an organic nonlinear molecule having one or more hydrolyzable silicon substituent groups, wherein the process includes the steps of bringing the solution in contact with a solid catalyst and separating the solution from the solid catalyst.例文帳に追加
少なくとも、1つ以上の加水分解性ケイ素置換基を有する有機非線形化合物を含んでなる原料溶液を、調整処理することにより作製される非線形光学材料製造用のコーティング液であって、前記調整処理が、前記原料溶液を固体触媒に接触させる接触工程と、該接触工程を経た前記原料溶液を前記固体触媒から分離する分離工程と、を含む工程からなることを特徴とする非線形光学材料製造用のコーティング液である。 - 特許庁
This photosensitive material processor 10 transports an image- exposed photosensitive material 1, supplies a processing solution to the material 1 and also performs processing while rubbing the surface of the material 1 by the rubbing roller 35 brought into contact with the surface of the material 1 during rotation.例文帳に追加
本発明の感光材料処理装置10は、画像露光された感光材料1を搬送して、感光材料1に処理液を供給すると共に、感光材料表面に回転しながら接する擦りローラ35によって、感光材料1の表面を擦りながら処理する。 - 特許庁
The discharged liquid discharged from the recycle tank 22, the discharged liquid discharged from the spin recovered water recycle tank 23, and a recovered water processing agent diluted solution discharged from a recovered water processing agent dissolution tank 2 are transferred to the laundry input water tank 19 by the operation of pumps, respectively.例文帳に追加
リサイクルタンク22から排出される排出液、脱水回収水リサイクルタンク23から排出される排出液、及び、回収水処理剤溶解槽29が排出する回収水処理剤希釈液は、それぞれポンプの動作により被洗物投入水タンク19へ移送される。 - 特許庁
To provide a lubricant additive and a lubricant additive composition desirably used in e.g., a metal processing oil giving high rust-preventive properties to a variety of steel sheets and easily removed with an alkali degreasing solution and to provide a lubricant composition containing these and used as e.g., a metal processing oil.例文帳に追加
各種鋼板に対して良好な防錆性を有し、かつアルカリ脱脂液で容易に除去し得る金属加工油などに好適に用いられる潤滑剤用添加剤と潤滑剤用添加剤組成物、及びこれらを含み、金属加工油等として用いられる潤滑剤組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an image processing apparatus, an image processing system, a name registration method, a name registration program and a recording medium which enables a DNS server to perform suitable name solution even if a host name is changed or the host name is the same as the name of another device in a DDNS environment.例文帳に追加
DDNS環境においてホスト名が変更された場合や、他の機器と重複した場合であっても、適切な名前解決をDNSサーバに実行させることができる画像処理装置、画像処理システム、名前登録方法、名前登録プログラム及び記録媒体の提供を目的とする。 - 特許庁
The processing apparatus is equipped with a table 4 to hold a substrate on its surface, a vibrator 3 to impart ultrasonic vibration in up and down directions perpendicular to the substrate surface to the substrate held on the table, and a nozzle body to supply a processing solution on the upper surface of the substrate held on the table and ultrasonically vibrating by the vibrator.例文帳に追加
上面に基板が保持されるテーブル4と、テーブルに保持された基板にその板面と直交する上下方向に超音波振動を付与する振動子3と、テーブルに保持され振動子によって超音波振動する基板の上面に処理液を供給するノズル体を具備する。 - 特許庁
To provide a processing method for a silver halide photographic sensitive material by which good dryability and no unevenness in drying are ensured even by rapid processing with a fixing solution not containing a boron compound in consideration of the environment and a good color tone is retained after storage at high humidity or the like.例文帳に追加
環境を配慮したホウ素化合物を含まない定着処理液で迅速処理しても、乾燥性が良好で、乾燥ムラが生じず、高湿条件等の保存後の色調が良好なハロゲン化銀を用いた写真感光材料の処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a processing method for a silver halide photographic sensitive material in which a change in photographic performance in running is small and high density is maintained even if the amount of a developing solution replenished is small when a photosensitive material having a reduced amount of silver is processed with an automatic processing machine after passing through an image setter.例文帳に追加
銀量を下げた感光材料をもちいてイメージセッターに続いて自動現像機で処理する時、現像液の補充量が少なくてもランニングでの写真性能の変動が小さく、しかも高濃度を維持するハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供すること。 - 特許庁
A processor 14 is provided with a coupling part 38, and the coupling part 38 and the processing solution processing part 34 are each divided by an outer plate panel 104, partition plates 112, 114, 118 and 120 and a bottom board 116, and a suction grill 124 is provided between a lower space 102 and the coupling part 38.例文帳に追加
プロセッサ14には、連結部38が設けられ、この連結部及び処理液処理部34のそれぞれが、外板パネル104、仕切り板112、114、118、120及び底板116によって区画され、また、下部スペース102と連結部の間に吸気グリル124が設けられている。 - 特許庁
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