「processing solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

A plurality of tanks 104 for storing a plurality of processing solution, severally, including, at least, a developing solution and a fixing solution, are provided, a temperature sensor 274 and a heater 272 are disposed in each tank, a reference temperature is set up for each processing solution, and the heaters 272 are each controlled so that the reference temperatures are attained.例文帳に追加

少なくとも現像液および定着液を含む複数の処理液をそれぞれ収容する複数のタンク１０４を備え、各タンクに温度センサ２７４およびヒーター２７２を配置し、処理液ごとに基準温度を設定し、前記基準温度になるようにヒーター２７２を制御する。 - 特許庁

To provide a solution processing apparatus and method which can improve its throughput by preventing such a situation as to cause an untreated substrate to be transferred to the interior of the solution processing apparatus to be returned back.例文帳に追加

液処理装置の奥部へ搬送された未処理基板の引き戻しが生ずる事態を防止して、スループットを向上させた液処理装置および液処理方法を提供する。 - 特許庁

When constant value automatic solution processing F1 is selected, for instance, characters other than the specified variable "x" are specified as constants "a" and "b" and automatic solution processing is carried out according to a coefficient comparison method.例文帳に追加

例えば定数値自動求解処理［Ｆ１］を選択すると、前記指定の変数「x」以外の文字が定数「a」「b」として指定され係数比較法に従い自動求解処理される。 - 特許庁

Furthermore, since the sulfuric acid concentration is held constant, the number of times of use of the same processing solution can be increased until the entire amount is replaced, a consumption amount of the processing solution can be decreased.例文帳に追加

また、硫酸の濃度を一定に保つことにより全量交換までの同一処理液の利用回数を増やすことができるので、処理液の消費量を削減することができる。 - 特許庁

The processing solution ejection part 15 comprises a vertical passage 45 formed by the tip part 41 of the processing solution pipe 25, and a nozzle head 42 connected to the outlet of the up/down passage 45.例文帳に追加

処理液吐出部１５は、処理液配管２５の先端部分４１で形成したアップ・ダウン流路４５と、このアップ・ダウン流路４５の出口に結合したノズルヘッド４２とを有している。 - 特許庁

The processing solution nozzle 3 is retained at a position so that the arriving point 20 of the processing solution 2 on the surface of the substrate W is apart from the rotating center 21 of the substrate W by a predetermined distance 22.例文帳に追加

処理液ノズル３を、基板Ｗの表面における処理液２の着液点２０を、基板Ｗの回転中心２１から所定距離２２離隔した位置に保持する。 - 特許庁

A cooling pipe 273 is installed in each tank 104, and when the temperature of a processing solution 228 exceeds a fixed value, cooling water is passed through the cooling pipe to cool the processing solution 228.例文帳に追加

また、タンク１０４内に冷却パイプ２７３を設置し、処理液２２８の温度が所定値以上になると冷却パイプ２７３内に冷却水を通して処理液２２８を冷却する。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus which is capable of cleaning the side face of a substrate, preventing bubbles from being trapped in a developing solution, and restraining the developing solution from creeping to the rear surface of the substrate while the substrate is subjected to processing.例文帳に追加

処理中に、被処理基板の側面を洗浄すると共に、処理液の泡噛みを防止し、かつ、被処理基板の裏面への処理液の回り込みを阻止すること。 - 特許庁

The electron beam irradiation section 10 directs an electron beam passing through a window 14 to a processing solution 81 on the surface of the object 90 to be processed, so as to activate the processing solution 81.例文帳に追加

電子ビーム照射部１０は、窓１４を通過した電子ビームを処理対象物９０表面上の処理溶液８１に照射して、その処理溶液８１を活性化させる。 - 特許庁

The processing method for the solution layer includes carrying out dielectric barrier discharge processing on a solution layer 20, for example, applied over a surface (first surface 11) of the base 10 by using a discharge electrode 30.例文帳に追加

溶液層の処理方法は、基体１０の表面（第１面１１）に例えば塗布された溶液層２０に放電用電極３０を用いて誘電体バリア放電処理を施す。 - 特許庁

To compatibly provide a compilation processing allowing a user to freely compile solution data used for summarization by mechanical learning and a summarization processing summarizing in such a manner as being specialized to the user using the solution data.例文帳に追加

機械学習による要約処理で用いる解データをユーザが自由に編集できる編集処理と前記解データを用いてユーザに特化した要約処理とを実現する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a method, where a processing solution is uniformly applied to all the surface of a substrate.例文帳に追加

基板の全面に処理液を均一に供給することができる基板処置装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the scattering of processing solution in replenishing a processing tank with replenisher and to prevent the replenisher remaining in a duct line from being deteriorated.例文帳に追加

処理槽へ補充液を補充する時の処理液の飛散や、管路に残った補充液が劣化してしまうのを防止する。 - 特許庁

In the infrastructure solution for feeding the contents base, filter pipeline processing allows processing on the high-speed message stream.例文帳に追加

コンテンツベースの送出のためのインフラストラクチュア解決策において、フィルタパイプライン処理は、高速メッセージストリームの処理を可能にする。 - 特許庁

ANTIFOAMING AGENT COMPOSITION FOR SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC PROCESSING SOLUTION AND PROCESSING METHOD FOR SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加

ハロゲン化銀写真処理液用の消泡剤組成物及び該組成物を用いたハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method prolonging the life of a drug solution of which the performance is deteriorated owing to moisture absorption.例文帳に追加

吸湿により性能が劣化する薬液を長寿命化させる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

In the processing cup cleaning processing, pure water as a cleaning solution is supplied to first to fourth spaces 81, 82, 83, 84.例文帳に追加

処理カップ洗浄処理では、第１〜第４空間８１，８２，８３，８４に対して洗浄液としての純水が供給される。 - 特許庁

To provide a color negative photosensitive material excellent in suitability to rapid processing and having consideration for the environment by reduced replenishment of a processing solution.例文帳に追加

迅速処理適性にすぐれ、処理液の低補充化により環境に配慮したカラーネガ感光材料を提供すること。 - 特許庁

This method for oxidizing waste photographic processing solution electrolytically (this method for improving the electrolytic oxidation efficiency) comprises a step to electrolytically oxidize the waste photographic processing solution while diluting the gas to be generated in/emitted from the waste photographic processing solution with air or oxidizing gas-mixed air.例文帳に追加

写真廃液の電解酸化処理において、該処理によって写真廃液中に発生して放出されるガスを空気又は酸化性気体混合空気によって希釈しながら電解酸化することを特徴とする写真廃液の電解酸化処理方法（電解酸化処理効率の改良方法）。 - 特許庁

To provide a printing plate developing device for developing a printing plate by making the development processing solution act on a printing plate prepared to have property that solubility to the development processing solution is different in accordance with an image, which is constituted to have the degree of freedom in the arrangement of the device and prevent the development processing solution from being scattered.例文帳に追加

画像に応じて、現像処理液に対する溶解性が異なる性質を有するように準備された版面に対し、現像処理液を作用させ、版面を現像する版面現像装置に関し、装置の配置に自由度を持たせ、現像処理液の飛散を防止する。 - 特許庁

To obtain a printing plate developing method for developing a printing plate by making the development processing solution act on a printing plate prepared to have property that solubility to the development processing solution is different in accordance with an image, which has the degree of freedom in the arrangement of a device and by which the development processing solution is prevented from being scattered.例文帳に追加

画像に応じて、現像処理液に対する溶解性が異なる性質を有するように準備された版面に対し、現像処理液を作用させ、版面を現像する版面現像方法に関し、装置の配置に自由度を持たせ、現像処理液の飛散を防止する。 - 特許庁

When a processing solution is applied to a silver halide photographic sensitive material containing at least 0.5 g/m2 Ag to process the sensitive material, at least 0.023 mol/l color developing agent is mixed with the processing solution immediately before the application and this color developing agent-containing processing solution is applied.例文帳に追加

少なくとも０．５ｇ／ｍ^2以上のＡｇを含有するハロゲン化銀写真感光材料に処理液を塗布して処理し、この塗布する直前に少なくとも０．０２３モル／ｌ以上の発色現像主薬を処理液に混合し、この発色現像主薬を含有する処理液を塗布する。 - 特許庁

To provide a low pressure transportation method and a low pressure transportation system for a processing solution, which can surely prevent the mixing and dissolution of bubbles into the processing solution when the processing solution is transported from a first tank to a second tank even when performing deaeration and degassing in a batch system.例文帳に追加

バッチ方式で脱気・脱泡処理を行う場合においても、処理液を第１タンクから第２タンクへ搬送するに際して、処理液へ気泡が混入溶解されることを確実に防止することが可能な処理液の減圧搬送方法及び減圧搬送装置を提供する。 - 特許庁

The processing lubricant is obtained by freezing a solution at normal temperature and then grinding the frozen solution into a semi-liquid body or liquid body.例文帳に追加

加工用潤滑剤は、常温で溶液を凍らせ、次いで、凍らせた溶液を粉砕し、半液状体または液状体にしたものである。 - 特許庁

As a method for contact with the peeling solution, the substrate 4 with the multilayer reflection film which is inserted into a holder 3 is dipped into the peeling solution 2 in a processing tank 1.例文帳に追加

剥離液との接触方法は、処理槽１内の剥離液２に、ホルダー３に挿入した多層反射膜付き基板４を浸漬させる。 - 特許庁

Incidentally, the supplement operation of the hydrogen peroxide solution has only to be rendered at a period of time from immediately prior to the substrate is led into the processing solution until immediately after it.例文帳に追加

なお、過酸化水素水の補充動作は、基板を処理液に導入する直前から直後までの時間において行えばよい。 - 特許庁

COLOR DEVELOPER SOLUTION FOR SILVER HALIDE COLOR PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL AND PROCESSING METHOD FOR SILVER HALIDE COLOR PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL BY USE OF THE DEVELOPER SOLUTION例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー写真感光材料用発色現像液、及び該現像液を用いたハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法 - 特許庁

Accordingly, the chemical solution processing time using the peeling solution can be shortened and the etched degree of an interlayer insulation film can be reduced.例文帳に追加

これにより、剥離液による薬液処理時間を短縮することが可能となり、層間絶縁膜のエッチング量を低減することができる。 - 特許庁

The active silicate aqueous solution is prepared by subjecting an alkali metal silicate aqueous solution to alkali metal removal processing by an ion exchanging body.例文帳に追加

前記活性珪酸水溶液が、珪酸アルカリ金属塩水溶液をイオン交換体により脱アルカリ金属処理して生成されるものである。 - 特許庁

The formula of a replenisher solution and the amount of the solution added to each processing tank of the automatic processing device can be made optimum by connecting two or more replenishing pumps to each processing tank, accordingly an operator can cope with any peculiar problem which arises in each processing tank.例文帳に追加

自動現像装置の各処理槽に連結する補充ポンプの個数を２個以上にすることによって、各処理槽への補充液処方とその添加量を最適にすることができるので、各々の処理槽で発生する特有の問題に対処できる。 - 特許庁

To provide a method to reduce corrosivity and toxicity of a used photographic processing solution.例文帳に追加

使用済み写真処理溶液の腐食性および毒性を低下させる方法を提供する。 - 特許庁

The compression process (S12) is performed in a state that the lumber strip 10 is immersed in the processing agent solution.例文帳に追加

圧縮工程Ｓ１２は、木材片１０が処理剤溶液に浸漬された状態で行う。 - 特許庁

To reduce computational amount and to improve quality of an estimated solution in QRM-MLD processing.例文帳に追加

ＱＲＭ−ＭＬＤ処理において演算量の削減及び推定解の品質の向上。 - 特許庁

RESIN SOLUTION FOR PROCESSING RUBBER, RUBBER COMPOSITION FOR TIRE, AND METHOD FOR MANUFACTURING PNEUMATIC TIRE USING THE SAME例文帳に追加

ゴム加工用樹脂溶液、タイヤ用ゴム組成物、それを用いた空気入りタイヤの製造方法 - 特許庁

PROCESSING METHOD FOR SILVER HALIDE COLOR PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL AND COLOR DEVELOPING SOLUTION USED FOR THE SAME例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法及びそれに用いる発色現像液 - 特許庁

To shorten the processing time required for disposal of solution having been used for forming a ferrite film.例文帳に追加

フェライト皮膜の形成に使用した溶液の廃棄のために要する処理時間を短縮する。 - 特許庁

PHOTOGRAPHIC PROCESSOR AND METHOD FOR DELIVERING REPLENISHMENT SOLUTION TO PROCESSING TANK IN PHOTOGRAPHIC PROCESSOR例文帳に追加

写真処理装置および写真処理装置の処理タンクへ補充溶液を供給する方法 - 特許庁

BLEACH FIXING SOLUTION FOR SILVER HALIDE COLOR PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL AND PROCESSING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー写真感光材料用漂白定着液及びこれを用いた処理方法 - 特許庁

In the manufacturing method of the semiconductor device, it is subjected to a wet processing by using the aqueous solution of a phosphoric acid after etching its ferroelectrics film.例文帳に追加

強誘電体膜をエッチングしたあと、燐酸水溶液を用いてウェット処理をする。 - 特許庁

When it is recognized that the specification is not satisfied, the provisional optimal solution is shifted to some degree, and the same processing is performed.例文帳に追加

実現できなければ、仮最適解を多少ずらした上で、上と同じ処理を実施する。 - 特許庁

The processing solution tank 1 contains a support member 3 which supports the substrate 4 including the surface to be processed.例文帳に追加

処理液槽１は被処理面を含む基板４を保持する保持部材３を内部に有する。 - 特許庁

The surface modification by the amino group is performed by solution plasma (SP) processing in an aqueous ammonia.例文帳に追加

アミノ基による表面修飾はアンモニア水中でのソリューションプラズマ（ＳＰ）処理により行なう。 - 特許庁

The above processing is repeated to obtain Pareto solution taking trade-off into consideration according to MOGA.例文帳に追加

以上の処理が繰り返され、ＭＯＧＡに則りトレードオフが考慮されたパレート解が得られる。 - 特許庁

To perform the efficient circulation and stirring of a processing solution to realize highly accurate temperature control.例文帳に追加

高精度の温調を可能とするための効率的な処理液の循環及び攪拌を行う。 - 特許庁

Upon the immersing treatment of the substrate W, the treatment proceeds while a processing solution overflows from a processing bath 20, during which part of overflowed processing solution stays in the mechanism 30 to cause pollution substance to be deposited in the mechanism 30.例文帳に追加

基板Ｗの浸漬処理の際には、処理槽２０から処理液を溢れ出しつつ処理を進行させるのであるが、その溢れ出た処理液の一部は支持機構３０に溜まり、支持機構３０に汚染物質が付着する。 - 特許庁