「projection method」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

Irregularities, where the LEPS method can be carried out, are machined on the surface of a crystal substrate 1, and a GaN-based crystal layer 2 is grown from the recess or projection.例文帳に追加

結晶基板１の表面にＬＥＰＳ法を実施し得る凹凸を加工し、該凹部または凸部からＧａＮ系結晶層２を成長させる。 - 特許庁

To provide a driving circuit formed in such a manner that the contrast of an image can be emphasized, a driving method, a display device and a projection display device.例文帳に追加

本発明は、画像のコントラストを強調できるようにした駆動回路、駆動方法、表示装置、投射型表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To planarize a projection section formed on the surface of a polycrystalline thin-film structure formed, utilizing a LILAC method.例文帳に追加

本発明は、ＬＩＬＡＣ法を利用して形成された多結晶薄膜構造の表面に形成される突出部を平坦化することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for determining the normality of projection data in a view channel space, and an X-ray CT apparatus for making such a determination.例文帳に追加

ビュー・チャンネル空間における投影データの正常性を判定する方法、および、そのような判定を行うＸ線ＣＴ装置を実現する。 - 特許庁

To provide an optical scanner, configured as a projection display device that realizes improvement in the screen luminance and reduction of uneven luminance, and to provide an optical scanning method.例文帳に追加

スクリーン輝度の向上と共に輝度ムラの低減を実現した投影型表示装置などとして構成される光走査装置及び光走査方法である。 - 特許庁

Conic projection parts (11) are formed on a surface of a substrate through exposure, development, and dry etching of resist provided on a substrate by a double-beam interference method.例文帳に追加

基板上に設けたレジストの二光束干渉法による露光、現像、およびドライエッチングによって基板の表面に円錐状の凸部（１１）を形成する。 - 特許庁

To provide a projected sheet metal machining method by which a projection with a desired height can be obtained from a sheet metal without variance of height or inclination.例文帳に追加

金属板金から、希望する高さの突起形状を、高さのばらつきや倒れの生じることなく得られる突起形状板金加工法を提供する。 - 特許庁

A variable magnification processing section 30 performs expansion/reduction processing for the image signal subjected to density conversion and magnification error correction while using, e.g. a projection method.例文帳に追加

変倍処理部３０で、濃度変換および倍率誤差補正を行った画像信号について、例えば投影法を用いて拡大縮小処理を行う。 - 特許庁

To provide a method and a unit to reduce influence by cut-off of X-ray cone beam projection on image quality.例文帳に追加

本発明はＸ線コーンビーム投影のカットオフによる画質への影響を減少する方法及びＸ線装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a display device which can sufficiently lessen the mirroring of external light, a back projection type display device and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

外部光の映り込みを十分に低減させることができる表示装置、背面投写型表示装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a projection optical system which shows less change in a refraction factor and less aberration even if an exposure process is continued for a long period.例文帳に追加

長期間に亘り露光処理を継続しても屈折率の変化が少なく、収差が少ない投影光学系の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of efficiently forming a structural body free from any defects or defective shape, and having a projection part of slender section.例文帳に追加

欠陥及び形状不良等のない、細長い断面の突起部を有する構造体を効率よく成形することができる方法を提供する。 - 特許庁

This substrate 2 is manufactured by a method of successive alignment processing in three mutually different directions D1, D2, and D3, of the aligning layer 8 after disposition of the projection 9.例文帳に追加

この基板２は、突起９配置後の配向膜８を、相異なる３方向Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３に順次配向処理する方法により製造される。 - 特許庁

This image processing method is to obtain a panoramic tomogram of a teeth row by using X-ray projection data of a facial jaw area obtained through X-ray CT imaging.例文帳に追加

本発明は、Ｘ線ＣＴ撮影で得た歯顎顔面領域のＸ線投影データを用いて歯列のパノラマ断層画像を得る画像処理方法である。 - 特許庁

To provide a projection type liquid crystal display device and a method for illuminating the device so that the display of the black level can be improved and the contrast can be increased.例文帳に追加

黒レベルの表示を改善し、コントラストを向上することができる投射型液晶表示装置およびその照明方法を提供する。 - 特許庁

A method for reconfiguring an ML-EM image is provided for use while being related to an image-creating device 10 for diagnosis for generating a projection data.例文帳に追加

ＭＬ−ＥＭ画像再構成の方法が、投影データを発生する診断用画像作成装置１０に関連して使用するため提供される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reflective screen enabling a viewer to see high contrast projection light and permitting easily coping with a design change.例文帳に追加

高コントラストな投影光を鑑賞者に視認させることが可能で、設計変更への対応が容易な反射スクリーンの製造方法を提供する。 - 特許庁

On the other hand, in the case of photographing the people from the middle of a circular table by the omnidirectional camera, the image processing apparatus selects the cylindrical projection method wherein the image is naturally displayed.例文帳に追加

一方、円形テーブルの中央から全方位カメラで撮影する場合には、自然な表示を行える円筒面投影法を選択する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a ceramic component in which a projection type conductor can be formed accurately on an external electrode of the ceramic component without any position shift.例文帳に追加

セラミック部品の外部電極上に突起状の導体を位置ズレがなく正確に形成することができるセラミック部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a structure on a base board for effectively preventing adsorption of a beam part and the base board, and an easy projection forming method used for the structure.例文帳に追加

梁部と基板との吸着を効果的に防止できる基板上構造体と、その構造体に用いる突起の簡便な形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a tape carrier base material for semiconductor chip mounting which has no projection by polishing the surface of a copper layer formed by copper plating, and its manufacturing method.例文帳に追加

銅めっきによって形成した銅層表面を研磨することで、突起の無い半導体チップ搭載用テープキャリア基材とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multi-directional projection type moire interferometer for irradiating an inspecting object with pattern lighting from many directions, and an inspection method using this.例文帳に追加

多方向からパターン照明を検査対象物に照射する多方向映写式モアレ干渉計及びこれを用いた検査方法を提供する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR IMPROVING PICTURE QUALITY OF REAL-IMAGE PROJECTION SYSTEM USING ON-AXIS REFLECTORS, AT LEAST ONE OF WHICH IS IN ASPHERICAL SHAPE例文帳に追加

少なくとも一つは非球面形状であるオン軸反射器を使用する実像投射システムにおける映像画質向上のための装置及び方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF SUBSTRATE FOR MICROLENS, SUBSTRATE FOR MICROLENS, MICROLENS SUBSTRATE, ELECTROOPTICAL DEVICE, COUNTER SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL PANEL, LIQUID CRYSTAL PANEL, AND PROJECTION DISPLAY DEVICE例文帳に追加

マイクロレンズ用基板の製造方法、マイクロレンズ用基板、マイクロレンズ基板、電気光学装置、液晶パネル用対向基板、液晶パネル、および投射型表示装置 - 特許庁

EUV LITHOGRAPHY REFLECTION DEVICE, METHOD OF FABRICATING THE SAME, EUV LITHOGRAPHY MASK APPLYING THE SAME, PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND LITHOGRAPHY APPARATUS例文帳に追加

超紫外線リソグラフィ用の反射デバイス及びその製造方法、それを適用した超紫外線リソグラフィ用マスク、プロジェクション光学系及びリソグラフィ装置 - 特許庁

In the method of manufacturing the semiconductor device, an insulating resin layer 3 is formed on the circuit surface S1 of a semiconductor wafer 1 so that projection electrodes 2 are embedded.例文帳に追加

この半導体装置の製造方法では、突起電極２を埋め込むように半導体ウエハ１の回路面Ｓ１に絶縁性樹脂層３を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transdermal absorption sheet capable of selectively and quantitatively adding a required sufficient amount of a medical agent only to a needle-like projection part.例文帳に追加

必要十分な量の薬剤を針状凸部だけに選択的に、かつ、定量的に添加可能な経皮吸収シートの製造方法を提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR SUBSTRATE WITH RECESSED PART FOR MICROLENS, SUBSTRATE WITH RECESSED PART FOR MICROLENS, MICROLENS SUBSTRATE, OPPOSED SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL PANEL, LIQUID CRYSTAL PANEL AND PROJECTION TYPE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 - 特許庁

This invention can achieve a forming method for forming a coating film 50 on the top surface of a projection 23 of a substrate 30 which has concavo-convex structure on the surface.例文帳に追加

本発明は、凹凸構造を表面に有する基板３０の凸部２３の頂面に被覆膜５０を形成する方法に具現化することができる。 - 特許庁

To provide a polarization conversion element capable of reducing manufacturing cost, and further to provide a polarization conversion unit, a projection device and a manufacturing method of the polarization conversion element.例文帳に追加

製造コストを低く抑えることができる偏光変換素子、偏光変換ユニット、投射装置、及び偏光変換素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a welding control method and a consumable electrode type pulse arc welding machine in which spatter generation is suppressed in an unstable arc condition such as at the arc start or during the change of the projection length when a work is positionally deviated.例文帳に追加

アークスタート時及びワークの位置ズレ等の突出し長さが変化する時等のアークが不安定となる場合にスパッタが多量に発生する。 - 特許庁

To provide a method capable of executing position adjustment of projected images from a plurality of projectors and projected on a projection screen at a high speed, with less computation complexities, and high accuracy.例文帳に追加

投写面上に投写される複数のプロジェクタから投写画像の位置調整を少ない演算量で高速かつ高精度に可能とする。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of maintaining exposure precision in exposure by irradiating a substrate with exposure light via a projection optical system and liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板に露光光を照射することによって露光するときの露光精度を維持できる露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of highly accurately detecting a pixel deviation amount without any loss of projection light in an image projecting device with a reflection type display elements.例文帳に追加

反射型表示素子を備える画像投射装置において、投影光を損失することなく、画素ずれ量を高精度で検出する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a measuring method for accurately detecting a micro- projection existing on the outside surface of an elastic tubular object.例文帳に追加

弾力性を有するチューブ状検査物の外周表面に存在する微小突起を正確に検出する計測方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of maintaining an exposure accuracy when exposing by irradiating a substrate with exposure light via a projection optical system and a liquid.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介して基板に露光光を照射することによって露光するときの露光精度を維持できる露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a program for obtaining a transfer function of a high order of an FIR filter having a minimum phase transition characteristic by using a sequential projection process.例文帳に追加

逐次射影法を用いて最小位相推移特性を有するＦＩＲフィルタの高次の伝達関数を得る方法及びプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a mold, and a forming mold capable of setting the arranging direction of a recessed part or a projection part of the mold in the desired direction.例文帳に追加

成形品の凹部又は凸部の配列方向を所望の方向とすることができる成形品の製造方法、成形型を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a crystallized silicon layer which has a large crystal grain size using metal catalyst, to provide a method of manufacturing a semiconductor device using the method, to provide a method of manufacturing an electrooptical device, and to provide the electrooptical device and a projection type display device.例文帳に追加

金属触媒を利用して、結晶粒径が大きな結晶化シリコン層の製造方法、かかる方法を利用した半導体装置の製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および投射型表示装置を提供すること。 - 特許庁

With a projection 106a, remaining at the upper end part of the boarder part between the insulation separation groove 104 and an active element 105 region, a second insulation film 108 formed by the bias ECR-CVD method is deposited by a film-thickness of equal almost to the height of the projection 106a, so that the projection 106a is eliminated for complete planarization over the entire wafer surface.例文帳に追加

この時絶縁分離溝１０４とアクティブ素子１０５領域の境界部に上端部に突起１０６ａが残留するが、さらにバイアスＥＣＲ−ＣＶＤ法で形成された第２の絶縁膜１０８を、突起１０６ａの高さと同程度の膜厚で堆積させることにより、突起１０６ａを無くしウェハー全面を完全平坦化する。 - 特許庁

In this manufacturing method, a projection for forming a contact terminal 42 is formed by anistropic etching of a silicon wafer with a silicon dioxide film as a mask, and a cantilever having a projection is formed by anistropic etching the silicon dioxide film on the periphery of the projection in a projecting shape sideways, and a contact terminal 42 and draw-out wiring 40 are formed by using a conductive coating.例文帳に追加

接触端子４２を形成するための突起を、二酸化シリコン膜をマスクとして、シリコンウェハの異方性エッチングにより形成して、この突起の周辺の二酸化シリコン膜をコ字形に異方性エッチングすることにより、突起を有した片持ち梁を形成し、導電性被覆を用いて、接触端子４２、および引き出し用配線４０を形成する。 - 特許庁

In the surface treatment method for the spring for applying compression residual stress to a treating material 1 in a plurality of stages of processes of shot peening, the same type of a projection material 2 having the same particle size is used in shot peening in the whole processes, and a range to which the compression residual stress is applied can be changed by changing projection speed of the projection material 2.例文帳に追加

複数段のショットピーニング工程により被処理材１に圧縮残留応力を付与するばねの表面処理方法において、全工程でのショットピーニングで同一種類、同一粒径の投射材２を用いるとともに、投射材２の投射速度を変化させて圧縮残留応力を付与する範囲を変更可能にするものである。 - 特許庁

In the multiple exposure method for at least one substrate covered with a photosensitive layer, first exposure is performed in a first projection system (17) according to an exposure parameter of a first group, and second exposure is performed in a second projection system (18) spatially separated from the first projection system (17).例文帳に追加

感光層により被覆される少なくとも１個の基板の多重露光方法において、第１の露光は、第１組の露光パラメータにしたがって第１の投影系（１７）において行なわれ、第２の露光は、第２組の露光パラメータを用いて、前記第１の投影系（１７）から空間的に分離される第２の投影系（１８）において行なわれる。 - 特許庁

To provide a method and device for obstacle detection, capable of improving accuracy of detecting obstacles by suppressing detection omission of obstacles at sections where light projection distance is faraway and erroneous detection at sections where light projection distance is approximate even when there exist obstacles such as snow, fugitive dust, water vapor and fallen leaves in a projection range of laser light.例文帳に追加

レーザ光の投光範囲に雪、砂埃、水蒸気、落葉等の異物が存在する場合であっても、投光距離が遠い部分の障害物の検知漏れを抑制しつつ、投光距離が近い部分の誤検知を抑制し、障害物の検知精度を向上することができる障害物検知方法及び装置を提供する。 - 特許庁

In the multi-exposure method for at least one substrate which is covered with a light sensitive layer, a first exposure is carried out in a first projection system (17) corresponding to an exposure parameter of a first group, and a second exposure is carried out in a second projection system (18) spatially separated from the first projection system (17) using an exposure parameter of a second group.例文帳に追加

感光層により被覆される少なくとも１個の基板の多重露光方法において、第１の露光は、第１組の露光パラメータにしたがって第１の投影系（１７）において行なわれ、第２の露光は、第２組の露光パラメータを用いて、前記第１の投影系（１７）から空間的に分離される第２の投影系（１８）において行なわれる。 - 特許庁