「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To measure the registration precision of a resist pattern to a reference layer (a resist pattern formed through a thin film on the reference layer) with high precision.例文帳に追加

基準層に対するレジストパターン（基準層の上に薄膜を介して形成されたレジストパターン）の重ね合わせ精度の測定を高い精度で行う。 - 特許庁

The reference wiring pattern image is formed of the absorption current image of reference wiring which is confirmed to be accurately formed or a CAD pattern image of inspection wiring.例文帳に追加

基準配線パターン像は、正確に形成されたことが確認された基準配線の吸収電流像あるいは検査配線のＣＡＤパターン像からなる。 - 特許庁

Path image data 14 is pattern-matched with reference pattern data to select a reference pattern with the highest degree of conformity, and the operation of a player character 6 is controlled based on a magic actuation operation input instruction associated with the selected reference pattern.例文帳に追加

そして、軌跡画像データ１４を、参照パターンデータとパターンマッチングして最も適合する参照パターンを選択し、この選択された参照パターンに対応づけられている魔法発動の操作入力命令に従ってプレーヤキャラクタ６の動作を制御する。 - 特許庁

The convergence controller is equipped with a pattern generator which generates a reference pattern, a photosensor which senses the change of the brightness of the reference pattern shifted on a screen, and a convergence control part which compensates the inclination of the reference pattern, based on the output result of the photosensor.例文帳に追加

コンバージェンス制御装置は、基準パターンを発生させるパターン発生部と、スクリーン上で移動される基準パターンの輝度変化を感知する光センサと、光センサの出力結果に基づき基準パターンの傾斜を補償するためのコンバージェンス制御部とを備える。 - 特許庁

A pattern matrix generating method comprises the processes of preparing a reference pattern matrix composed of one type of reference block patterns; preparing a distributed type sequence matrix; and generating a pattern matrix by using the reference pattern matrix and the sequence matrix.例文帳に追加

パターンマトリクス生成方法は、１種類の基準ブロックパターンで構成される基準パターンマトリクスを準備する工程と、分散型の順序マトリクスを準備する工程と、基準パターンマトリクスと順序マトリクスとを用いてパターンマトリクスを生成する工程と、を備える。 - 特許庁

The second modulation pattern exhibited in the second optical modulation part 22 is a correlation filter pattern corresponding to a reference pattern superimposed on the second fresnel lens pattern.例文帳に追加

第２光変調部２２に呈示される第２変調パターンは、参照パターンに対応する相関フィルタパターンと第２フレネルレンズパターンとが重畳されたものである。 - 特許庁

This inspection method has a process S3 for extracting reference pattern information of an inspection object, a process S4 for forming a two-dimensional Fourier transform filter for canceling the reference pattern information based on the reference pattern information, and a process S5 for inspecting a defect pattern other than a reference pattern of the inspection object by using the two-dimensional Fourier transform filter.例文帳に追加

また、検査方法において、検査対象物の基準パターン情報を抽出する工程（Ｓ３）と、基準パターン情報に基づき、この基準パターン情報をキャンセリングする二次元フーリエ変換フィルタを形成する工程（Ｓ４）と、二次元フーリエ変換フィルタを使用し、検査対象物の基準パターン以外の欠陥パターンを検査する工程（Ｓ５）とを備える。 - 特許庁

A plurality of reference patterns having different line width from each other are set for the measurement apparatus and the plurality of reference patterns and the actual pattern are checked for matching (ST13) and a reference pattern having a line width corresponding to the actual pattern is selected (ST14).例文帳に追加

互いに異なる線幅を有する複数の基準パターンを測定装置に設定し、複数の基準パターンと実際パターンをマッチングして（ＳＴ１３）、実際パターンに対応する線幅の基準パターン一つを選択する（ＳＴ１４）。 - 特許庁

The control section 4 compares the pattern of the transmission illumination image with a first reference pattern, inspects the pattern 5a, compares the pattern of the vertical illumination image at a position corresponding to a faulty section with a second reference pattern regarding the pattern 5a that is determined to be a faulty candidate, and determines whether the pattern 5a is conforming or not.例文帳に追加

制御部５は、透過照明画像のパターンと第１の基準パターンを比較して、上記パターン５ａの検査を行い、不良候補と判定されたパターン５ａに関して、該不良部分に対応する位置における落射照明画像のパターンと第２の基準パターンを比較して、上記パターン５ａの良否を判定する。 - 特許庁

By comparing the first edge with the edge of the shifted first reference pattern, an inspecting object pattern is inspected.例文帳に追加

第１のエッジとシフトした第１の基準パターンのエッジとを比較することにより、検査対象パターンを検査する。 - 特許庁

The apparatus stores a reference pattern and a measured pattern, determines the amount of ink to be applied based on the patterns, and performs a recording.例文帳に追加

基準パターンと測定パターンとを記録し、そのパターンを読み取ってインク塗布量を決めて記録を行う。 - 特許庁

The reference pattern is provided by a pattern generation circuit that is resident within a larger comparison and counting circuit.例文帳に追加

リファレンス・パターンは、より大規模な比較計数回路に配置されるパターン発生回路によって提供される。 - 特許庁

Furthermore, it is selected whether the first transmission pattern is used or the second transmission pattern is used for the reference signals depending on whether SFN data is transmitted in the sub-frame.例文帳に追加

ここで、これら送信パターンは、基準信号のために使用するサブ・フレームのシンボルおよびトーンを示す。 - 特許庁

The reference wavefront 10 and the inspected wavefront 11 form an interference pattern on an interference pattern imaging unit (CCD) 9.例文帳に追加

参照波面１０と被検波面１１は、干渉縞撮像装置（ＣＣＤ）９上に干渉縞を形成する。 - 特許庁

By comparing the second edge and the edge of the shifted second reference pattern, the inspecting object pattern is inspected.例文帳に追加

第２のエッジとシフトした第２の基準パターンのエッジとを比較することにより、検査対象パターンを検査する。 - 特許庁

To improve overlapping accuracy of an exposure pattern with respect to a reference pattern of a substrate coated with a photosensitive resin.例文帳に追加

感光性樹脂を塗布した基板の基準パターンに対する露光パターンの重ね合わせ精度を向上する。 - 特許庁

By using a reference pattern surface wherein only one of the reference patterns is a special pattern different from other reference patterns to modulate power of an electron lens L1, the reference pattern surface is positioned so that a main beam from the center of the special pattern passes through the center of the electron lens L1.例文帳に追加

標準パターンのうち１個だけが他の標準パターンと異なった特殊パターンである標準パターン面を使用し、電子レンズＬ１のパワーを変調することにより、この特殊パターンの中心からの主光線が電子レンズＬ１の中心を通るように、標準パターン面の位置合わせを行う。 - 特許庁

Detection rate is compared between a basic pattern and a spare pattern and if the detection rate by the spare pattern is higher, a shift is detected using the spare pattern as the reference pattern at first.例文帳に追加

基本パターンとスペアパターンとの検出率等を比較して、スペアパターンによる検出率が高い場合は、最初に、基準パターンとしてスペアパターンを使用してずれ量の検出を行うようにする。 - 特許庁

The mask size checking mark 3 includes a line pattern 4 having a line width equal to that of the product pattern and a reference pattern 5 disposed next to the line pattern 4 and having a larger width than the line pattern 4.例文帳に追加

マスク寸法検査マーク３は、製品パターンの線幅と等しい線幅のラインパターン４と、このラインパターン４に隣接して配置されラインパターン４よりも幅が広い基準パターン５とを含んでいる。 - 特許庁

The pattern detecting device then compares the reference image with the object image, and detects the position of each pattern in the repeated pattern based on the compared result.例文帳に追加

そして、参照画像と、物体の画像とを比較し、比較の結果に基づいて繰り返しパターンにおける個々のパターンの位置を検出する。 - 特許庁

To calculate the same density cooccurrence matrix without depending on an extracting position of a reference pattern about a pattern image in which a fixed pattern is repeatedly arranged.例文帳に追加

一定の模様が繰り返される模様画像について、基本パターンの抽出位置に依らず、同一の濃度共起行列を算出する。 - 特許庁

A pattern storage means 3 stores, as a reference pattern, a distribution pattern of the distance from a three-dimensional position measuring device 1 on the detection object.例文帳に追加

パターン記憶手段３は検知対象物について３次元位置測定装置１からの距離の分布パターンを基準パターンとして記憶する。 - 特許庁

An identifying part 105 outputs the recognition result of the input pattern by checking the m-dimensional reference pattern with the m-dimensional feature of the input pattern.例文帳に追加

識別部１０５は、ｍ次元参照パターンと入力パターンのｍ次元特徴とを照合して入力パターンの認識結果を出力する。 - 特許庁

A reference wave data generation unit 142 generates a two-dimensional reference wave pattern reproducing the interference wave on the basis of the radio wave information stored by the reference wave memory.例文帳に追加

参照波データ生成部１４２は、参照波メモリが保持する電波情報に基づいて、干渉波を再現した２次元参照波パターンを生成する。 - 特許庁

A pattern exception means 25 selects exception data from the reference display data.例文帳に追加

図柄除外手段25は、参照表示データの中から除外データを選択する。 - 特許庁

A reference pattern 11 is provided at a position parallel with the original reading position A.例文帳に追加

原稿読取位置Ａと並ぶ位置に設けられた基準パターン１１を備える。 - 特許庁

The game is transferred to the probability variation game in response to a result obtained by comparing information concerning identifying information being a stopped and displayed pattern with reference identifying information being a reference pattern to be reference for comparison.例文帳に追加

停止表示された図柄である識別情報に関する情報と、比較基準となる基準図柄である基準識別情報との比較結果に応じて、確率変動遊技に移行する。 - 特許庁

As a result of the determination, when the deceleration of the comparison pattern can be finished up to starting of the deceleration of the reference pattern, timing for executing the comparison pattern is determined so that an operation finishing point of time of the comparison pattern coincides with a deceleration start point of time of the reference pattern.例文帳に追加

その判断の結果、基準パターンの減速開始までに比較パターンの減速が終了可能である場合、比較パターンの動作終了時点が基準パターンの減速開始時点に一致するように比較パターンを実行するタイミングを決定する。 - 特許庁

The position detector detects the position of the reference pattern and the position of the measurement pattern, and the optical state of the position detector is inspected based on the relative relation between the position of the reference pattern and the position of the measurement pattern thus detected.例文帳に追加

位置検出装置により、基準パターンの位置および計測パターンの位置を検出し、検出した基準パターンの位置と計測パターンの位置との相対関係に基づいて位置検出装置の光学状態を検査する。 - 特許庁

It is determined whether or not the second pattern has a pattern shape identical with the first pattern, based on whether or not a dimensional difference between the first pattern and the second pattern is within a range of the determination reference of the pattern dimensional difference.例文帳に追加

前記第１のパターンと前記第２のパターンとの間の寸法差が、前記パターン寸法差の判定基準内であるか否かに基づいて、前記第２のパターンが前記第１のパターンと同一のパターン形状であるか否かを判定する。 - 特許庁

To provide a pattern evaluation method and a pattern evaluation device, capable of matching an objective pattern to a reference pattern with high accuracy in the pattern measurement using an SEM image, even when the pattern of the measurement object includes a relatively large defect.例文帳に追加

ＳＥＭ画像を利用したパターン計測において、計測対象のパターンに比較的大きな欠陥が含まれている場合でも、基準パターンとのマッチングを高精度に実施することができるパターン評価方法及びパターン評価装置。 - 特許庁

When the moire image p2 is subtracted from the reference image p1, the stripe pattern is deleted from the reference image p1.例文帳に追加

参照画像ｐ１からこのモアレ画像ｐ２を減算すれば、参照画像ｐ１から縞模様のパターンが消去される。 - 特許庁

A first pattern matching angle detecting part 3 compares the binary pattern BI with each of those reference patterns RA, and outputs the angle of the matched reference pattern RA as angle information PA.例文帳に追加

第１のパターンマッチング角度検出部３は２値化パターンＢＩを複数のリファレンスパターンＲＡの各々と比較し、一致したリファレンスパターンＲＡの角度を角度情報ＰＡとして出力する。 - 特許庁

An image correcting section 7 performs deviation correction upon the captured image in such a way that a position of the comparison pattern on the image matches a position of a reference pattern, on the image, read from a reference pattern storage section 5.例文帳に追加

画像補正部７は、比較パターンの画像上の位置が基準パターン記憶部５から読み出された基準パターンの画像上の位置と一致するように、撮像画像のずれ補正を行う。 - 特許庁

Before starting diagnosis operation, a reference pattern corresponding to the equipment is reset based on the reference pattern stored in the reference pattern memory section 3 before the earthquake broke and the fluctuation quantity obtained in the predetermined period after the earthquake broke out.例文帳に追加

そして、地震発生前に参照パターン記憶部３に記憶された参照パターン、及び、地震発生後の所定期間に得られた上記変動量に基づいて、診断運転の開始前に、機器に対応する参照パターンを再設定する。 - 特許庁

In the mask inspection apparatus 10, an objective pattern for inspection is inspected by imaging the objective pattern and comparing the obtained objective data with reference pattern data.例文帳に追加

マスク検査装置１０は、検査対象パターンを撮像して得られた検査対象データと、基準パターンデータとを比較して、検査対象パターンを検査する。 - 特許庁

A correction pattern selection part 35 selects an optimal correction pattern which minimizes errors from among a plurality of correction patterns with reference to an acquired change pattern P.例文帳に追加

修正パターン選択部３５は、取得した変化パターンＰを参考に、複数の修正パターンのうち誤差が最小となる最適修正パターンを選択する。 - 特許庁

A pattern comparing means 205 searches a pattern coincident with designated character string image data for reference out of two-dimensional image data by pattern matching.例文帳に追加

その２次元イメージデータの中から指定の参照用文字列イメージデータと一致するパターンを、パターン比較手段２０５によりパターンマッチングで探索する。 - 特許庁

The layout data of an absorber pattern are divided into meshes starting from a reference pattern on an EUV mask having a multilayer film and the absorber pattern (step S01).例文帳に追加

多層膜と吸収体パターンとを有するＥＵＶマスク上の基準パターンを基点にして、吸収体パターンのレイアウトデータをメッシュに区分する（ステップＳ０１）。 - 特許庁

To provide a pattern recognizing device capable of recognizing a pattern and learning a reference vector for pattern recognition with a little wiring quantity and small circuit scale.例文帳に追加

少ない配線量・回路規模で、パターン認識およびパターン認識に用いる参照ベクトルの学習が行えるパターン認識装置を提供する。 - 特許庁

Alignment is conducted to attain matching between the reference coordinates of alignment for alignment pattern and the center coordinates of the target pattern (S16), to thereby detect the target pattern (S17).例文帳に追加

そのアライメント・パターンのアライメント基準座標と、ターゲット・パターンの中心座標とが一致するように位置合わせし（S16）、ターゲット・パターンを検出する（S17）。 - 特許庁

A first reference relating to a first pattern, which is used to determine a relative layout of the first pattern and a second pattern, is set in accordance with a user's specification.例文帳に追加

第一模様と第二模様の相対的な配置を決定するための、第一模様に関する第一基準が、ユーザの指定により設定される。 - 特許庁

The wiring pattern 12, reference mark 13, and two-dimensional code pattern 14, are simultaneously formed by utilizing a photolithography technique.例文帳に追加

配線パターン１２、基準マーク１３及び２次元コードパターン１４は、フォトリソグラフィ技術を利用して同時に形成される。 - 特許庁

If the edge interval detecting signal matches the reference value, the pattern discrimination unit 102 outputs a pattern detecting signal.例文帳に追加

パタン判別部１０２は、エッジ間隔検出信号と基準値とが一致した場合、パタン検出信号を出力する。 - 特許庁

By comparing a signal intensity pattern extracted from the CCD 26 to a reference pattern, undulations and recess defects are detected.例文帳に追加

ＴＤＩラインＣＣＤ２６から得られた信号強度パターンを標準パターンと比較し、うねりや凹欠陥を検知する。 - 特許庁