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reference patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1662件
To effectively use a list of component figures, pointer reference to a component figure in the list is done from a pattern group, a single figure, and a repetition pattern.例文帳に追加
部品図形のリストを有効利用するために、パターン群、単一図形、繰り返しパターンからリスト中の部品図形をポインタ参照する。 - 特許庁
A pattern matching part 144 detects a region having high correlation with the two-dimensional reference wave pattern as an interference region from the two-dimensional PPI data.例文帳に追加
パターンマッチング部144は、2次元参照波パターンと相関の高い領域を、干渉領域として2次元のPPIデータから検出する。 - 特許庁
The control device 1 includes a timer 2, a pattern 3 memory for deflection electromagnet current, a frequency pattern memory 4, and a frequency reference value correction circuit 5.例文帳に追加
制御装置1は、タイマ2、偏向電磁石電流用パターンメモリ3、周波数用パターンメモリ4、周波数基準値補正回路5を備える。 - 特許庁
The visual recognition mode of the respective patterns are gradually changed with a specified pattern as a reference so that the specified pattern is most conspicuous among a plurality of patterns.例文帳に追加
複数の図柄のうち、特定の図柄が最も目立つよう当該特定の図柄を基準にして、各図柄の視認態様を徐変させた。 - 特許庁
To automatically generate a pattern which has different line width by automatically varying the line width by changing parameters on the basis of a generated reference pattern.例文帳に追加
作成した基準パターンを元にパラメータ変更により線幅を自動変更して線幅の異なるパターンを自動生成することを課題とする。 - 特許庁
The head is positioned and controlled by using the absolute position information of the first servo pattern, the relative position information of the second servo pattern, and the reference position.例文帳に追加
第1のサーボパターンの絶対位置情報と、第2のサーボパターンの相対位置情報と、基準位置とを用いて、ヘッドを位置決め制御する。 - 特許庁
The reference chip is compared with the pattern of the inspection chip, and a defect generation place where a pattern defect can be easily generated is specified in the layout (S3 to S5).例文帳に追加
リファレンスチップと検査チップのパターンを比較し、レイアウト内においてパターン欠陥が生じやすい欠陥発生箇所を特定する(S3〜S5)。 - 特許庁
A pseudo-random pattern generating circuit 3 receives data by using a latch signal and generates a reference PN pattern by using the data for an initial value.例文帳に追加
疑似ランダムパターン発生回路3は、ラッチ信号により受信データを取り込み、その値を初期値として基準のPNパターンを発生する。 - 特許庁
A candidate pattern having the largest total score is determined as a recognition result and a keyword included in the candidate pattern is extracted in reference to the dictionary.例文帳に追加
最大のトータルスコアを有する候補パターンが認識結果とされ、辞書を参照してその候補パターンに含まれるキーワードが抽出される。 - 特許庁
At a key station 20, a vibration pattern (reference pattern) of the trumpet loudspeaker 13 when chimes indicating the start of broadcasting are sounded is previously recorded.例文帳に追加
親局20には、放送開始を知らせるチャイムを鳴らしたときのトランペットスピーカ13の振動パターン(基準パターン)が予め記録されている。 - 特許庁
The first gear 16, the second gear 17, the driving circular ring body 4 and the pattern display member 9 are provided such that the first reference point and the second reference point match when the third reference point and the fourth reference point match.例文帳に追加
第3基準点と第4基準点とが一致した時に第1基準点と第2基準点とが一致するように第1歯車16、第2歯車17、駆動円形リング体4、図柄表示部材9が設けられている。 - 特許庁
An evaluation expression extraction part 12 extracts evaluation expression by pattern matching to an evaluation expression pattern in reference to an evaluation expression pattern storage part 13, to an analysis result of a text.例文帳に追加
評価表現抽出部12は、テキストの解析結果に対して、評価表現パターン記憶部13を参照して評価表現パターンとのパターンマッチにより評価表現を抽出する。 - 特許庁
The above amount of corrections is variable rectangular beam size data corresponding to the difference of a target pattern size, a resist pattern size formed by specifying the amount of the reference light exposure, and the target pattern size.例文帳に追加
前記補正量は、目標パターンサイズと基準露光量を指定して形成したレジストパターンサイズと目標パターンサイズとの差分に対応する可変矩形ビームサイズデータである。 - 特許庁
A test pattern area where a test pattern is formed is set on an intermediate transfer belt 4, and a reference area is set in an area where a test pattern is not formed.例文帳に追加
中間転写ベルト4上に、試験パターンが形成される試験パターン領域が設定されるとともに、試験パターンが形成されない領域において、基準領域が設定される。 - 特許庁
A pattern image data judging section 500 judges whether input image data is the data of a color pattern image or a black pattern image with reference to image data attribute information added to the input image data.例文帳に追加
地紋画像データ判定部500は、入力画像データに付加された画像データ属性情報を参照して、当該画像データが色地紋画像か黒地紋画像か判定する。 - 特許庁
To allow correct visual determination of contrasting density between a standard density pattern of yellow and a reference density pattern by applying a contrast effect pattern of a color having a contrast effect with respect to yellow.例文帳に追加
黄色に対して対比効果のある色の対比効果パターンを施し、黄色の基準濃度パターンと参照濃度パターン間の目視による正確な濃淡判断を可能にする。 - 特許庁
The repeated recording of the servo pattern includes the repeating of the simultaneous recording of first and second reference pattern lines in at least one servo track 27 and a track pattern line.例文帳に追加
サーボパターンを反復的に記録することは、少なくとも一つのサーボトラック27内の第1および第2基準パターンラインとトラックパターンラインの同時記録を反復することを含む。 - 特許庁
The CPU 7 forms a subject pattern of the paper sheet, based on the light-receiving data, and compares the subject pattern with a reference pattern used for discrimination to identify the paper sheet.例文帳に追加
そして、CPU7は、その受光データに基づいて紙葉類の被検パターンを形成し、該被検パターンと識別に用いる基準パターンとを比較することによって紙葉類の識別を行う。 - 特許庁
In a control block 31, the presence or absence of a defect of the inspecting pattern is detected based on the comparison result of the data for pattern inspection with preset pattern reference data.例文帳に追加
そして、制御ブロック31にて、予め設定されているパターン基準データと前記パターン検査用データとの比較結果に基づき前記被検査パターンの欠陥の有無を検出する。 - 特許庁
To provide a multi-gradation photomask which has a resist pattern having a desired remaining film value of thickness in a translucent area without reference to a pattern shape and a method of manufacturing the same, and a pattern transfer method.例文帳に追加
半透光領域においてパターン形状によらず、所望の厚さの残膜値のレジストパターンを得ることができる多階調フォトマスク及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
A mask pattern corresponding to the flare value of the pattern is created based on a flare difference which is a difference between the flare value in an arrangement position at which the pattern is disposed and the reference flare value and based on the extracted reference mask correction amount and the extracted change amount information.例文帳に追加
さらに、前記パターンが配置される配置位置でのフレア値と前記基準フレア値との差分であるフレア差分と、抽出した基準マスク補正量および変化量情報とに基づいて、前記パターンのフレア値に応じたマスクパターンを作成する。 - 特許庁
When pattern fluctuation is started, the pattern display device is turned from high-speed scroll to low-speed scroll and swinging is performed at a display reference position further, and when a swing stop signal from a controller is inputted, the pattern is stopped at the reference position.例文帳に追加
図柄表示装置は図柄変動がスタートされると、高速スクロールから低速スクロールになり、さらに表示される基準位置で揺動されるが、制御装置からの揺動停止信号を入力すると、基準位置で図柄が停止される。 - 特許庁
The matching of the start position/stop position with the start position/stop position of the reference pattern is judged by a comparing/judging part 10, and it is judged that the same pattern as the reference image pattern is present in the two-dimensional image according to the matching rate, and the result is announced.例文帳に追加
このスタート位置・ストップ位置と基準パターンのスタート位置・ストップ位置との一致を比較・判定部10で判定し、その一致率により二次元画像内に基準画像と同じパターンのものがあることを判定し、その旨を報知する。 - 特許庁
A mobile station, by taking advantage of the fact that the pattern of a cell-specific reference signal is known, can eliminate interferences by a cell-specific reference signal with high accuracy.例文帳に追加
移動局は、セル固有参照信号のパターンが既知であることを利用してセル固有参照信号による干渉を高精度に除去することができる。 - 特許庁
On the other hand, computational capacitance of the three-dimensional wiring route is determined with reference to the actually measured capacitance between a reference pattern and the ground potential.例文帳に追加
一方で、基準パターンと接地電位との間の実測静電容量を基準にして、立体的な配線経路の計算上の静電容量を求める。 - 特許庁
To provide an authenticity determination device and authenticity program, which sets a reference pattern serving as a reference for authenticity determination to reduce an erroneous determination rate.例文帳に追加
真偽判定の基準となる基準パターンを、誤判定率を低減できるものに設定できる真偽判定装置及び真偽判定プログラムを提供する。 - 特許庁
Then, the variable data is compared and collated with the reference data in a first comparing inspection part 142 and the background pattern is compared and collated with the reference data in a second comparing inspection part.例文帳に追加
そして、可変データは第1の比較検査部142において、背景絵柄は第2の比較検査部において、各々基準データと比較照合される。 - 特許庁
Thus erroneous recognition of the reference figure in pattern matching is prevented when a relative position of the object image to the reference image is detected.例文帳に追加
これにより、参照画像に対する対象画像の相対位置を検出する際のパターンマッチングにおける基準図形の誤認識が防止される。 - 特許庁
A reference block is extracted from the picture buffer 2 by a reference block extracting part 4 and affine-transformed by an affine transformation part 5, and a collation pattern is generated.例文帳に追加
参照ブロック抽出部4は、画像バッファ2から参照ブロックを取り出し、アフィン変換部5でアフィン変換して照合パターンを生成する。 - 特許庁
As a result, the pattern is interpolated with the electrostatic potential of the deflection electrodes constant, that is, to be linear between reference potentials at reference points (Pij) of respective subfields.例文帳に追加
従って、偏向電極の静電電位が一定、すなわち、それぞれのサブフィールドの基準点(Pij)における基準電位間で直線的に補間される。 - 特許庁
To provide a spacer ejecting apparatus highly accurately performing an arrangement of spacer particles to a reference position of a reference pattern pre-formed on a substrate.例文帳に追加
基板に予め形成された基準パターンの基準位置に対するスペーサ粒子の配置を高精度に行おうとするスペーサ吐出装置を提供する。 - 特許庁
Thus, a graphite film 103 is formed by a stepped part at a peripheral end of the reference pattern 102.例文帳に追加
これらのことにより、基準パタン102の周端の段差部より、グラファイト膜103が形成される。 - 特許庁
Then, the new patterns are written in the outer peripheral side while each reference pattern of the inner peripheral side track is read.例文帳に追加
次に、内周側トラックの各基準パターンを読み出しながら、外周側に新しいパターンを書き込む。 - 特許庁
REFERENCE PATTERN DETERMINATION METHOD AND EQUIPMENT THEREFOR, POSITION DETECTION METHOD AND EQUIPMENT THEREFOR, AND EXPOSURE METHOD AND EQUIPMENT THEREFOR例文帳に追加
基準パターン決定方法とその装置、位置検出方法とその装置、及び、露光方法とその装置 - 特許庁
CREATION METHOD OF REFERENCE PATTERN INFORMATION, POSITION MEASURING METHOD, POSITION MEASURING DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加
基準パターン情報の作成方法、位置計測方法、位置計測装置、露光方法、及び露光装置 - 特許庁
An electron beam 1 has passed a reference pattern formed in a mask, and it shows the direction of the mask.例文帳に追加
電子ビーム1はマスクに形成された基準パターンを通過したものであり、マスクの方向を示す。 - 特許庁
Moreover, a data reference rule table DT8 which defines the number of arranged data blocks for every varying pattern is built.例文帳に追加
また、変動パターン毎のデータブロックの配置数を定めたデータ参照規則テーブルDT8を構築する。 - 特許庁
The main substrate 23 includes a ground pattern layer 33, as a reference potential part, at its edge.例文帳に追加
メイン基板23は、基準電位部としてグランドパターン層33を少なくともその周縁部に有する。 - 特許庁
In an exemplary embodiment, the characteristic of interest is a reference pattern that may be synchronized with the input data signal.例文帳に追加
一実施例においては、該重要な特性は入力データ信号と同期可能なリファレンス・パターンである。 - 特許庁
The other crossings generate the self-control patterns in cooperation with the control pattern of the reference crossing (1_1).例文帳に追加
他の交差点は基軸交差点(1_1)の制御パターンに協調しながら自己の制御パターンを作成する。 - 特許庁
The template image is an image deformed by the enlargement or reduction of the reference pattern 101b.例文帳に追加
テンプレート画像は、参照パタン101bを拡大または縮小するなどして変形させた画像である。 - 特許庁
The correction amount is subtracted from the reference resist diameter to obtain the diameter of the circular pattern after correction.例文帳に追加
基準レジスト径から補正量を減算することにより、補正処理後の円形パターンの径が得られる。 - 特許庁
Defects D1 and D2 are extracted through binarization of a reference image and the inspection image after the pattern matching thereof.例文帳に追加
基準画像と検査画像とをパターンマッチングした後に二値化し、欠陥D1,D2等を抽出する。 - 特許庁
A grounding pattern 40 is formed on the grid 12 and connected to a circuit reference potential by a conductor 44.例文帳に追加
グリッド12に接地用パタン40を形成し、これと回路基準電位を導体44で接続する。 - 特許庁
Each reference pattern is the average value of clusters obtained by cluistering a category learning sample group to Nh pieces.例文帳に追加
各参照パターンは、カテゴリの学習サンプル群をN_h個にクラスタリングして得た各クラスタの平均値である。 - 特許庁
In reference to the handwriting, the user can easily decide the effectiveness of the character pattern.例文帳に追加
この筆跡を参照してユーザは当該文字パターンの有効性の判断を容易に行うことができる。 - 特許庁
An ink ejection timing of each ink ejection nozzle is determined from the determined reference timing and the pattern to be printed.例文帳に追加
決定した基準タイミングと、プリントするパターンから、各インク吐出ノズルのインク吐出タイミングを決定する。 - 特許庁
A bus master 111 synchronizes and transmits a reference clock signal and a synchronization signal showing a prescribed pattern.例文帳に追加
バスマスタ111は、所定のパターンを示す同期信号と基準クロック信号とを同期して送信する。 - 特許庁
The space light modulator 3 electrically controls the position and the modulation pattern of the reference light RL.例文帳に追加
空間光変調器3は、参照光RLの位置および変調パターンを電気的に制御する。 - 特許庁
To exactly and highly accurately inspect an appearance of a pattern based upon a comparative measurement with a pattern form optimal for a production process of a user by utilizing a pattern image of a reference mask whose pattern form is confirmed in advance when inspecting the appearance of a mask pattern.例文帳に追加
マスクパターンの外観検査において、予めパターン形状を確認済みの基準マスクのパターン画像を利用することで、ユーザーの製造プロセスに最適なパターン形状との比較計測による正確かつ高精度なパターンの外観検査を行うことを課題とする。 - 特許庁
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