「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A three-times-magnification pattern, an adjacent-left-sub-pixel pattern, and an adjacent-right-sub-pixel pattern are determined on the basis of a reference pattern consisting of eight pixels surrounding a center target pixel.例文帳に追加

中心の注目画素を取り囲む８画素の参照パターンに従って、３倍パターン及び左右隣接サブピクセルパターンを決定する。 - 特許庁

Also, a second reference position to be a determination reference position of a pattern shape is set on a second pattern as a determination target for which it is determined whether or not the second pattern has a pattern shape identical with the first pattern.例文帳に追加

また、前記第１のパターンとパターン形状が同一であるか否かが判定される判定対象としての第２のパターンにパターン形状の判定基準位置となる第２の基準位置を設定する。 - 特許庁

The actual pattern corresponding to the selected reference pattern is made to be recognized by the measurement apparatus (ST15).例文帳に追加

選択された基準パターンに対応する実際パターンを測定装置に認識させる（ＳＴ１５）。 - 特許庁

The finger print pattern of a user is recognized and compared with A reference pattern previously contained.例文帳に追加

ユーザの指紋パターンが認識され且つ以前に格納されている基準パターンと比較される。 - 特許庁

To perform comparison inspection between a pattern image to-be-inspected and a reference pattern in real time, or the like.例文帳に追加

検査対象パターン画像と基準パターンとの比較検査を実時間で行うこと等である。 - 特許庁

To perform a comparing inspection on an inspecting object pattern image and a reference pattern in real time.例文帳に追加

検査対象パターン画像と基準パターンとの比較検査を実時間で行うこと等である。 - 特許庁

The generated pattern sample is collated with a reference pattern to determine the authenticity of the object.例文帳に追加

そして、生成したパターンサンプルを基準パターンと照合して、対象物の真偽を判定する。 - 特許庁

To perform appropriate matching, even when an inspection object pattern differs from a reference pattern remarkably.例文帳に追加

検査対象パターンと基準パターンとが著しく異なる場合であっても、適切なマッチングを行う。 - 特許庁

The reference of the pattern is performed by producing a binary pattern and navigating the review place.例文帳に追加

パターンの参照は、２値パターンを発生させ、レビュー箇所をナビゲートすることにより、行われる。 - 特許庁

This device extracts a correspondence pattern corresponding to a reference pattern including the object image in a reference image and also calculates the contrast value CR of the reference pattern and the contrast value CL of the correspondence pattern (S15 to S18).例文帳に追加

基準画像中の対象物像を含む基準パターンに対応する対応パターンを比較画像の中から抽出するとともに、基準パターンのコントラスト値ＣＲ及び対応パターンのコントラスト値ＣＬを算出する（Ｓ１５〜Ｓ１８）。 - 特許庁

Thus, when the display position of the reference light pattern is shifted, another reference light is generated where a phase relationship with a reference light generated from the reference light pattern before the shifting of the display position is low.例文帳に追加

その結果、参照光パターンの表示位置をずらすと、表示位置をずらす前の参照光パターンから生成する参照光との位相相関が低い、別の参照光が生成する。 - 特許庁

METHOD FOR PREPARING REFERENCE IMAGE, METHOD FOR RECOGNIZING PATTERN AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

基準画像作成方法、パターン認識方法および記録媒体 - 特許庁

The relative layout of the first pattern and the second pattern is determined on the basis of the changed first reference and the second reference (S304).例文帳に追加

変更後の第一基準と第二基準とに基づき、第一模様と第二模様の相対的な配置が決定される（Ｓ３０４）。 - 特許庁

To provide a designated position identification method to identify the designated position in an array structure in which a reference pattern is repeatedly arranged by a reference pattern counting.例文帳に追加

基準パターンが繰り返し配置されたアレイ構造中の指定位置を、基準パターン計数によって特定する指定位置特定する。 - 特許庁

To correct into the optimum reference data corresponding to the density of a pattern.例文帳に追加

パターンの粗密に応じて最適な参照データに補正すること。 - 特許庁

During a predetermined period after an earthquake broke out, fluctuation quantity of the reference pattern corresponding to the equipment from the time when this pattern is stored in the reference pattern memory section 3 is measured.例文帳に追加

また、地震発生後の所定期間に、上記機器に対応する参照パターンの、参照パターン記憶部３に記憶された時からの変動量を測定する。 - 特許庁

A control part 44 generates a Moire' pattern by an arithmetic operation of both a reading pattern formed when the image sensor 40 reads the test pattern and a reference pattern.例文帳に追加

制御部４４は、イメージセンサ４０がテストパターンを読み取って形成される読み取りパターンと、基準パターンとの演算によりモワレパターンを生成する。 - 特許庁

The pattern comparison part 10 compares a pattern of a drive load during a new travel along the travel route (reference drive load pattern) with the drive load pattern history.例文帳に追加

パターン比較部１０は、新たに走行経路を走行するときの運転負荷のパターン（参照運転負荷パターン）を運転負荷パターン履歴と比較する。 - 特許庁

A pattern by 2^n-1 bits of one period of the PN pattern from the least significant bit of the PN pattern generated at an m-th reference clock (hereinafter this pattern is called 'A pattern') is employed for a pattern in 2^n-1 bits from the most significant bit of the pattern generated at an (m+1)th reference clock.例文帳に追加

第ｍ番目の基準クロックで発生したＰＮパターンの最下位ビットからＰＮパターンの１周期分の２^ｎ−１ビット分のパターン（以下、このパターンを「Ａパターン」という）を、第ｍ＋１番目の基準クロックで発生させるパターンの最上位ビットから２^ｎ−１ビット分のパターンとする。 - 特許庁

By using a reference pattern surface wherein only one of the reference patterns is a special pattern different from other reference patterns to modulate power of an electron lens L1, the reference pattern surface is positioned so that main beam from the center of the special pattern pass the center of the electron lens L1.例文帳に追加

標準パターンのうち１個だけが他の標準パターンと異なった特殊パターンである標準パターン面を使用し、電子レンズＬ１のパワーを変調することにより、この特殊パターンの中心からの主光線が電子レンズＬ１の中心を通るように、標準パターン面の位置合わせを行う。 - 特許庁

A prediction pattern decision section 8 decides an evaluation pattern determined to have a correlation between the processed reference areas as the prediction pattern.例文帳に追加

予測パターン決定部８は、処理済参照領域間の相関があると判定した評価パターンを予測パターンと決定する。 - 特許庁

A prediction pattern determination section 8 determines the evaluation pattern determined to have the correlation between the processed reference areas as a prediction pattern.例文帳に追加

予測パターン決定部８は、処理済参照領域間の相関があると判定した評価パターンを予測パターンと決定する。 - 特許庁

The reference system of an entire system is set by using a reference pattern (5) for focus control.例文帳に追加

本発明では、焦点制御用の基準パターン（５）を用いて、システム全体の基準系を設定する。 - 特許庁

REFERENCE IMAGE GENERATING METHOD, PATTERN INSPECTING DEVICE, AND RECORDING MEDIUM WITH RECORDED REFERENCE IMAGE GENERATING PROGRAM例文帳に追加

参照画像作成方法、パターン検査装置及び参照画像作成プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

The reference potential pattern imparts a reference potential to at least one of the semiconductor component and the piezoelectric element.例文帳に追加

基準電位パターンは、半導体部品及び圧電素子の少なくとも一方に基準電位を付与する。 - 特許庁

A reference pattern determination part 44 calculates an average value and a standard deviation of the plurality of similarity degrees, and determines the reference pattern based thereon.例文帳に追加

基準パターン決定部４４は、上記複数の類似度の平均値と標準偏差とを算出し、これに基づいて基準パターンを決定する。 - 特許庁

The scale 1 includes an optical pattern 3 for the detection of a movement quantity arranged periodically, and a reference position pattern 4 for the detection of a reference position.例文帳に追加

スケール１は、移動量検出用の周期的に並ぶ光学パターン３と、基準位置検出用の基準位置パターン４とを有している。 - 特許庁

A feature pattern is prepared, and relative positions of a reference point viewed from positions of the feature pattern, in the reference image are prepared as an R table.例文帳に追加

特徴パターンを準備し、参照画像において特徴パターンの位置からみた基準点の相対位置をＲテーブルとして準備する。 - 特許庁

The reference pulse is supplied at a fixed time point to the test pattern.例文帳に追加

基準パルスをテストパターンに対して固定の時間位置で供給する。 - 特許庁

If it can not track the target subject, a reference pattern frame showing the fetching range of the reference pattern image is displayed with flickering in a view finder 18.例文帳に追加

もし、追尾不能となった場合には、基準パターン画像の取込範囲を示す基準パターン枠のビューファインダ１８での表示を点滅させる。 - 特許庁

A main CPU sets a variation pattern decision table for a reference in variation pattern decision processing.例文帳に追加

メインＣＰＵは、変動パターン決定処理において参照するための変動パターン決定テーブルをセットする。 - 特許庁

(normal pattern hit variation time 2500 ms, normal pattern miss variation time 7500 ms for reference).例文帳に追加

（図２５：普通図柄当り変動時間２５００ｍｓ，図２６：普通図柄はずれ変動時間７５００ｍｓ参照）。 - 特許庁

Primary exposure reticle pattern data are formed in reference to the calculation result of the pattern shape correction.例文帳に追加

上記パターン形状補正の計算結果を参考にして一次露光用レチクルパターンデータを作製する。 - 特許庁

To determine, accurately in a short time, the pattern direction used as a reference of the position of a fingerprint-like pattern.例文帳に追加

指紋状紋様の位置の基準となる紋様方向を短時間で正確に決定できるようにする。 - 特許庁

A pattern generator circuit 4 generates an image pattern for detecting positional deviation in printing while setting such a pulse as reference.例文帳に追加

このパルスを基準とし、パターンジェネレータ回路４は印字位置ずれ検出用の画像パターンを生成する。 - 特許庁

The reference pattern image includes an upper limit pattern image 50 having a different upper limit brightness in each gray area in the pattern and a lower limit pattern image 51 having a different lower limit brightness in each gray area in the pattern.例文帳に追加

基準パターン画像は、パターンの濃淡域毎に上限の輝度が異なる上限パターン画像５０と濃淡域毎に下限の輝度が異なる下限パターン画像５１とを含む。 - 特許庁

A specific reference signal pattern is read from a reference signal pattern memory 18 having a plurality of reference signal patterns stored therein beforehand based on a navigation map information 19 and outputted to a reference signal generating part 12.例文帳に追加

予め複数の参照信号パターンが記憶された参照信号パターンメモリ１８から、ナビゲーション地図情報１９に基づいて特定の参照信号パターンを読み出して参照信号発生部１２に出力する。 - 特許庁

To provide a drawing device and method that can draw a main pattern and a reference pattern as a reference for prescribing the position of the pattern on a substrate in proper position relation.例文帳に追加

基板上に主たるパターンと当該パターンの位置を規定する基準となる基準パターンとを適正な位置関係で描画することができる描画装置および描画方法を提供する。 - 特許庁

At this time, an image on the substrate 1 is detected by a line CCD camera, and a first layer pattern on the substrate is taken as a reference pattern to detect whether the exposure pattern of the mask 3 coincides with the reference pattern or not.例文帳に追加

このとき、基板１上の画像をラインＣＣＤカメラにより検出し、基板上の第１層パターンを基準パターンとして、マスク３の露光パターンがこの基準パターンと一致しているか否かを検出する。 - 特許庁

When the exposure pattern is not accorded with the reference pattern, the microlens arrays 2 are inclined from a direction parallel to the substrate 1 to adjust the exposure area on the substrate by the microlens arrays 2 and make the exposure pattern of the mask accord with the reference pattern.例文帳に追加

不一致の場合に、マイクロレンズアレイ２を基板１に平行な方向から傾斜させ、マイクロレンズアレイ２による基板上の露光領域を調整して、マスクの露光パターンを基準パターンに一致させる。 - 特許庁

Then, the image on the substrate 1 is detected by a line CCD camera and whether the exposure pattern on the mask 3 is accorded with a reference pattern or not, with a first layer pattern on the substrate defined as the reference pattern.例文帳に追加

このとき、基板１上の画像をラインＣＣＤカメラにより検出し、基板上の第１層パターンを基準パターンとして、マスク３の露光パターンがこの基準パターンと一致しているか否かを検出する。 - 特許庁

As soon as the assembling, the reference potential contact piece 42 is contacted on the reference potential pattern 34, and the case 4 is conducted to the reference potential part.例文帳に追加

この組み付けと同時に、基準電位接触片４２が基準電位パターン３４に当接し、ケース４が基準電位部分に導通される。 - 特許庁

REFERENCE PATTERN EXTRACTION METHOD, POSITIONING METHOD AND DEVICE, AND EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

基準パターン抽出方法、位置決め方法及び装置、並びに露光装置 - 特許庁

SELF-SERVO WRITING METHOD OF DISK DRIVE AND EMBEDDED REFERENCE PATTERN USED THEREFOR例文帳に追加

ディスクドライブのセルフサーボ書込方法およびそれに用いる埋込基準パターン - 特許庁

The control unit calculates an intensity difference D[n] for each reference pattern (step S110), and extracts a reference pattern having a largest intensity difference (step S112).例文帳に追加

そして、制御部は、参照パターン毎の強度差Ｄ［ｎ］を算出し（ステップＳ１１０）、最大の強度差をもつ参照パターンを抽出する（ステップＳ１１２）。 - 特許庁