「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The convergence control part detects an angular error where the reference pattern is distorted by the earth magnetic field, based on the difference between the datum position of the reference pattern and the maximum brightness measurement position, and controls a deflection circuit so as to compensate the angular error in question.例文帳に追加

コンバージェンス制御部は基準パターンの標準位置と最大輝度測定位置との差に基づき基準パターンが地磁界により歪んだ角誤差を検出し、該角誤差が補償されるよう偏向回路を制御する。 - 特許庁

The workstation 3 superimposes the Penrose tile pattern of the reference picture and the Penrose tile pattern of the sample LSU 21 (the object picture) through a microscope to calculate the displacement quantity between the reference picture and the object picture.例文帳に追加

画像処理用ワークステーション３は参照画像のペンローズタイルパタンと顕微鏡２を介して得られた試料ＬＳＩ２１（対象画像）のペンローズタイルパタンとを重ね合わせて参照画像と対象画像との位置ずれ量を算出する。 - 特許庁

In the local alignment step, a local alignment unit carries out the local alignment of a pattern image of a detection object and a reference pattern image of a detection reference in the local area, and obtains a shift amount being the alignment result.例文帳に追加

局所アライメントステップでは、局所アライメント部が、前記局所領域において、検査対象のパターン画像と検査基準の基準パターン画像との前記局所アライメントを行い、局所アライメント結果であるシフト量を得る。 - 特許庁

A wiring pattern 12 corresponding to design processing such as product specifications, a reference mark 13, and a two-dimensional code pattern 14 are formed to a flexible tape base material 11 after pressing processing.例文帳に追加

プレス加工後、フレキシブルなテープ基材１１に、製品仕様等設計処理に応じた配線パターン１２、基準マーク１３及び２次元コードパターン１４を形成する。 - 特許庁

When an input text is registered in the language dictionary, a rhythm information generation part 400 selects an FO pattern by reference to an FO pattern group for registered text.例文帳に追加

入力テキストが言語辞書に登録されている場合、韻律情報生成部４００は、登録テキスト用のＦＯパタン群を参照してＦＯパタンを選択する。 - 特許庁

When it is discriminated that the transition pattern is not a specific pattern (step S24, NO), phase error information is calculated conforming to a reference calculation means (step S25).例文帳に追加

その推移パターンが特定パターンではないと判定された場合（ステップＳ２４ＮＯ）、基準となる演算手法に従って位相誤差情報が算出される（ステップＳ２５）。 - 特許庁

In the drawing device provided with an exposure head, a substrate for measurement is loaded on a drawing table and an exposure operation is performed on the basis of the pattern data of a reference spot pattern.例文帳に追加

露光ヘッドを備えた描画装置において、計測用基板を描画テーブルに搭載し、基準スポットパターンのパターンデータに基づいて露光動作が行われる。 - 特許庁

To provide an inspection device and an inspection method capable of detecting a flaw at high speed while precisely aligning the pattern of an optical image and the pattern of a reference image.例文帳に追加

光学画像のパターンと基準画像のパターンとの位置合わせを高い精度で行いつつ、且つ、高速で欠陥検出のできる検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

The pulse pattern generating circuit 6 and the high speed differential I/O8 are driven by a reference clock 7 whereby a pulse width will not be affected by the pulse pattern 11.例文帳に追加

パルスパターン生成回路６及び高速差動Ｉ／Ｏ８は基準クロック７で駆動されているため、パルスパターン１１によってパルス幅が影響を受けることはない。 - 特許庁

To improve the recognition precision of nonparametric pattern recognition by forming a fine recognition boundary while suppressing memory capacity for storing a reference pattern.例文帳に追加

参照パターンを記憶するためのメモリ容量を抑制しつつ、きめ細かく識別境界を形成し、もってノンパラメトリックなパターン識別をおこなう場合の認識精度を上げること。 - 特許庁

Thus, the device 1 can accurately detect a defect of the pattern of the other die while removing the defect of the pattern of the die as the reference.例文帳に追加

これにより、欠陥検出装置１では基準とされるダイのパターンの欠陥の影響を除きつつ、他のダイのパターンの欠陥を精度よく検出することができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor mask layout pattern correction/verification device capable of verifying/correcting a pattern by a margin value different from a normal design reference value in the open end part of wiring.例文帳に追加

配線の開放端部においては、通常の設計基準値とは別個の余裕値でパターンの検証・補正が行える半導体マスクレイアウトパターン補正・検証装置を得る。 - 特許庁

A camera 200 photographs a board 100 for calibration on which a reference position 101, a surrounding pattern, a central pattern 103, and corner patterns 104 are formed from a prescribed position.例文帳に追加

カメラ２００は、基準位置１０１、包囲パターン１０２、中央パターン１０３および角パターン１０４が形成された校正用ボード１００を所定の位置から撮像する。 - 特許庁

To provide a servo writing method capable of shortening a processing time for detecting a reference pattern, which decides the writing start timing of a spiral servo pattern.例文帳に追加

スパイラルサーボパターンの書込み開始タイミングを決定する基準パターンを検出するための処理時間の短縮化を図ることができるサーボ書込み方法を提供する。 - 特許庁

A pattern matching part 52 detects embedded data and a reference pattern for data extraction from images read by an image read part 51 and replaces them with prescribed pixel values.例文帳に追加

パターンマッチング部５２は、画像読取部５１によって読取られた画像から、埋め込まれたデータおよびデータ取り出し用基準パターンを検出して所定の画素値に置き換える。 - 特許庁

The hologram recording medium is irradiated with a signal light with a phase modulation pattern according to recording data and a reference light with a predetermined phase modulation pattern.例文帳に追加

記録データに応じた位相変調パターンを与えた信号光と、所定の位相変調パターンを与えた参照光とをホログラム記録媒体に対して照射する。 - 特許庁

Each outer peripheral side pattern is written by a clock frequency modulated from the timing of detecting each reference pattern of the inner peripheral side track after delay time calculated for each sector.例文帳に追加

各外周側パターンは、内周側トラックの各基準パターンを検出したタイミングから、変調されたクロック周波数で、セクタ毎に算出された遅延時間後に書き込む。 - 特許庁

The monochromatic image of the printed board to be inspected is acquired, and the acquired monochromatic image is divided into each pattern region on reference to each registered pattern region (S6).例文帳に追加

検査対象のプリント基板のモノクロ画像を取得し、その登録されている各パターン領域を参照し、その取得したモノクロ画像を各パターン領域に分割する（Ｓ６）。 - 特許庁

To provide a method of drawing a pattern for magnetic transfer for drawing a pattern corresponding to a reference servo signal of a spiral system recorded by a magnetic head by using an electron beam.例文帳に追加

磁気ヘッドで記録されるスパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応するパターンを電子ビームで描画する磁気転写用パターンの描画方法を提供する。 - 特許庁

An emotion determining section 101 compares and collates the brain wave data of the user with a reference brain wave pattern registered in a brain wave pattern database T10 to determine an emotion of the user.例文帳に追加

感情判定部１０１は、ユーザの脳波データと脳波パターンデータベースＴ１０に登録されている基準脳波パターンとを比較照合し、ユーザの感情を判定する。 - 特許庁

Rotation angle deviation from a detection object pattern image is detected and further corrected by calculating an angle difference from a reference pattern for detecting rotation angle deviation.例文帳に追加

回転角度ずれを検出するための基準パターンとの角度差を計算することで検出対象パターン画像との回転角度ずれを検出し、さらには補正する。 - 特許庁

A pattern discrimination unit 102 determines whether or not the edge interval count signal matches a reference value resulting from counting falling edge intervals of a predetermined pattern of the Manchester data using a sample clock.例文帳に追加

パタン判別部１０２は、エッジ間隔カウント信号と、マンチェスタデータの所定パタンの立ち下がりエッジ間隔をサンプルクロックでカウントした基準値とが一致するか否か判定する。 - 特許庁

When the input text is not registered in the language dictionary, the rhythm information generation part 400 selects an FO pattern by reference to a FO pattern group for normal text.例文帳に追加

入力テキストが言語辞書に登録されていない場合、韻律情報生成部４００は、通常テキスト用のＦＯパタン群を参照してＦＯパタンを選択する。 - 特許庁

Further, the track pattern line has a specified shape different from those of the first and second reference pattern lines, and extended over the width of at least one servo track.例文帳に追加

さらに、トラックパターンラインは、第１および第２の基準パターンラインの所定形状と異なる所定形状を有し、少なくとも一つのサーボトラックの幅にわたって延在する。 - 特許庁

To properly set a threshold as a determination reference for detecting a pattern image by reflecting the success/failure of the decryption of code information for a detected pattern image.例文帳に追加

検出されたパターン画像に対するコード情報の復号の成否を反映させて、パターン画像を検出するための判断基準である閾値の設定を適切に行う。 - 特許庁

In this configuration, the radar sensor is determined to have an abnormality when a changing pattern of the deflection amount deviates from a reference pattern which is set in advance (S210 to S230).例文帳に追加

この構成において、偏向量の変化パターンが予め設定された基準パターンから逸脱する場合にレーダセンサに異常があると判定する（Ｓ２１０〜Ｓ２３０）。 - 特許庁

Prior to the formation of the gradation pattern, referring to the former detection results stored in a non-volatile memory area, the density value of the gradation pattern is determined based on the reference value, then, the gradation pattern is formed on a transfer belt 18.例文帳に追加

階調パターンの形成に先立ち、不揮発メモリ領域に保存された過去の検知結果を参照し、その参照値に基づき階調パターンの濃度値を決定し、階調パターンを転写ベルト１８上に作成する。 - 特許庁

The difference between the value obtained by multiplying the dimension A1 of the evaluation pattern 11 by the ratio of the dimension B2 to the dimension B1, and the dimension A2 of the reference pattern 11s is calculated as the defect size of the evaluation pattern 11.例文帳に追加

寸法Ｂ１に対する寸法Ｂ２の比率を評価用パターン１１の寸法Ａ１に乗算した値と基準パターン１１ｓの寸法Ａ２との差分を、評価用パターン１１の欠陥サイズとして算出する。 - 特許庁

Displacement of a present pattern layer for a reference pattern formed on a pilot wafer within the same lot to be processed in a prescribed aligner is inspected in the method of aligning a plurality of pattern layers.例文帳に追加

複数のパターンレイヤ間の位置合わせ方法において、所定の露光装置で処理する同一ロット内のパイロットウェーハで、このパイロットウェーハ上に形成された基準パターンに対する現在のパターンレイヤの位置ずれを検査する。 - 特許庁

A face pattern recognition part 107 recognizes a face image by comparing the detected face pattern with reference face patterns previously stored in a face pattern storage part 106.例文帳に追加

顔パターン認識部１０７は、顔パターン検出部１０５で検出された顔パターンを、顔パターン記憶部１０６にあらかじめ記憶されている複数の基準の顔パターンと比較（照合）することにより顔画像を認識する。 - 特許庁

A comparator 43 compares computational result of the process gas supply periodic pattern from the pattern operation part 42 with reference result of the process gas supply periodic pattern adversely-affecting the processing result from a memory 45.例文帳に追加

比較部４３において、パターン演算部４２からの処理ガス供給周期パターンの演算結果と、記憶部４５からのプロセス結果に悪影響を与える処理ガス供給周期パターンの参照結果とが比較される。 - 特許庁

Displacement of present pattern layer for the reference pattern formed on a pilot wafer within the same lot to be processed with the predetermined aligner is inspected in the method of aligning a plurality of pattern layers.例文帳に追加

複数のパターンレイヤ間の位置合わせ方法において、所定の露光装置で処理する同一ロット内のパイロットウェーハで、このパイロットウェーハ上に形成された基準パターンに対する現在のパターンレイヤの位置ずれを検査する。 - 特許庁

Static electricity coming from the outside is discharged outward through the second ground pattern isolated from the first ground pattern, thereby preventing the reference voltage of the first ground pattern from fluctuating.例文帳に追加

外部から発生した静電気が第１グラウンドパターンと離隔された第２グラウンドパターンを通じて外部に再び放出されることによって、第１グラウンドパターンの基準電圧が変動することを防止することができる。 - 特許庁

A color thermal printer forms a sample print 21 by solid printing a Y calibration pattern 18, an M calibration pattern 19 and a C calibration pattern 20 of predetermined optical density values adjacently above each of the reference patterns 13-15.例文帳に追加

カラー感熱プリンタは、各参照パターン１３〜１５の上方に隣接して、所定の光学濃度値のＹキャリブレーションパターン１８，Ｍキャリブレーションパターン１９，Ｃキャリブレーションパターン２０をベタ印画してサンプルプリント２１を作成する。 - 特許庁

To provide a collation method of a foreign matter distribution pattern capable of quickly and quantitatively estimating collation accuracy indicating the degree of collation of both of the foreign matter distribution pattern and a reference pattern of a semiconductor manufacturing apparatus.例文帳に追加

異物分布パターンと半導体製造装置の基準パターンの両パターンの一致の程度を示す照合確度を迅速に且つ定量的に求めることが可能な異物分布パターンの照合方法を提供する。 - 特許庁

A mask pattern conversion part 15 re-judges a valid pixel on the basis of mask judgement reference information from the enlarged/reduced mask pattern and converts it to the mask pattern composed of binary data indicating only whether or not it is valid.例文帳に追加

マスクパターン変換部１５が、拡大縮小処理されたマスクパターンから、マスク判定基準情報に基づいて有効画素を再判定し、有効か否かのみ示す２値のデータからなるマスクパターンに変換する。 - 特許庁

A defect is detected by identifying online the relation between an inspection reference pattern image and an objective pattern image for inspection during inspection, constructing a mathematical model absorbing (fitting) displacement of pixels, expansion or contraction noise, or sensing noise of an image, and further comparing a new inspection reference pattern image (model image) obtained by the simulation of the obtained model with the objective pattern image for inspection.例文帳に追加

検査基準パターン画像と被検査パターン画像との関係を検査中にオンラインで同定して、画像の画素ズレや伸縮ノイズ、センシングノイズを吸収（フィッティング）した数式モデルを構築し、そのモデルのシミュレーションによって得られる新たな検査基準パターン画像（モデル画像）と被検査パターン画像とを比較することによって欠陥を検出する。 - 特許庁

When drawing a pattern, the pattern data PD of a drawing pattern are divided into respective rectangular areas stipulated by the reference spot pattern, and closed area pattern data PD1 and PD2 of the respective rectangular areas LM1 and LM2 are corrected matched with deformed rectangular areas LN1 and LN2 deformed or displaced based on the measured position coordinates of the spot pattern.例文帳に追加

パターンを描画するとき、描画パターンのパターンデータＰＤを、基準スポットパターンによって規定される矩形領域毎に分割し、各矩形領域ＬＭ１、ＬＭ２の閉領域パターンデータＰＤ１、ＰＤ２を、計測されたスポットパターンの位置座標に基づく変形、もしくは変位の生じた変形矩形領域ＬＮ１、ＬＮ２に合わせて補正する。 - 特許庁

Then, each reference pattern is read by a plurality of times to measure an interval, and an average value of intervals among sectors is decided.例文帳に追加

その後、各基準パターンを複数回読み出してその間隔を測定し、各セクタ間の間隔の平均値を決定する。 - 特許庁

SYSTEMS AND METHODS FOR PRINTED-MEDIA SSW REFERENCE PATTERN WITH EXTRA SERVO BURSTS USED NEAR OD例文帳に追加

ＯＤ近傍で用いられる外部サーボバーストを備えたプリントされるメディアＳＳＷ参照パターンのためのシステム及び方法 - 特許庁

After that, the reference pattern data are recorded on a plurality of non-user data areas B with a plurality of recording laser intensities.例文帳に追加

しかる後、複数の記録レーザ強度にて複数の非ユーザデータ領域Ｂに対し、参照パターンデータを記録する。 - 特許庁

The reference pattern is transferred to a 2nd intermediate transfer belt 20 further and detected by a 2nd image density sensor 27.例文帳に追加

その基準パターンをさらに第２中間転写ベルト２０に転写し、これを第２画像濃度センサ２７で検出する。 - 特許庁

A pattern detector 16 detects the reference sequence from the digitized data 14 and generates a synchronization signal 20 correspondingly.例文帳に追加

パターン検出器１６がデジタル化データ１４から基準シーケンスを検出し、それに応じて同期信号２０を発生する。 - 特許庁

Four or more of reference points corresponding to a basic pattern are detected from a distortion detecting image obtained by the TV camera (S4).例文帳に追加

ＴＶカメラで得られた歪み検出画像から基本図形に対応した４個以上の基準点を検出する（Ｓ４）。 - 特許庁

An error calculation part 11 obtains the sum of the square errors of the reference PR pattern register 9 and the shift register 10 for each sample.例文帳に追加

誤差演算部１１は、基準ＰＲパターンレジスタ９とシフトレジスタ１０をサンプル毎に２乗誤差の加算値を求める。 - 特許庁