「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

A reference image macro block searching movement section 11 adopts a reference image macroblock M1 from which a minimum evaluation calculation value is obtained for a searching start position, and moves for searching the reference image macro block M1 from the searching start position according to a searching pattern.例文帳に追加

参照画マクロブロック探索移動部１１は、評価計算によって極小値が得られた参照画マクロブロックＭ１を探索開始位置として、探索開始位置から参照画マクロブロックＭ１を探索パターンにしたがって探索移動させる。 - 特許庁

In a sensor unit 3 of a reticle carrying device as a mask carrying device, drawing error of a pattern is estimated in advance by matching a reticle R mechanically with a predetermined reference in terms of an outer shape reference using a reference member 32, and measuring a mark RM of the reticle R.例文帳に追加

レチクル搬送装置のセンサユニット３において基準部材３２を用いてレチクルＲを外形基準で機械的に所定の基準に整合させて、レチクルＲのマークＲＭを計測することによりパターンの描画誤差を求めておく。 - 特許庁

A two-dimensional coordinate calculation section 310 calculates two-dimensional coordinates (frame coordinates) of a plurality of reference positions on a position code pattern on an image of a board 100 for correction and a reference position identification section 320 identifies a plurality of the reference positions with each other.例文帳に追加

二次元座標算出部３１０は、校正用ボード１００の画像について、位置コードパターン上の複数の基準位置の二次元座標（フレーム座標）を算出し、基準位置識別部３２０は、複数の基準位置を互いに識別する。 - 特許庁

To provide a reference image forming method capable of performing the stable inspection of a product pattern by forming the optimum reference image so that an excessively large number of products among inspection target products are detected as abnormal products and products having pattern flaw are detected as normal products, a method of inspecting a product pattern using it and device for inspecting the product pattern.例文帳に追加

検査対象のうち過剰に多くの製品が異常であると検出されないように、かつ、パターンに欠陥がある製品が正常であると検出されることがないように、最適な基準画像を作成して、安定した製品パターン検査を行うことを可能とする基準画像作成方法と、これを用いた製品パターン検査方法および装置を提供する。 - 特許庁

An image of a transfer speed reference pattern provided in a first reading roller or a second reading roller is read together with a document image by a first reading section or a second reading section, to calculate a magnification ratio in a sub-scanning magnification device, on the basis of the image of the transfer speed reference pattern.例文帳に追加

第１読取ローラや第２読取ローラに設けられた搬送速度基準パターンの画像を第１読取部や第２読取部により原稿画像とともに読み取って、搬送速度基準パターンの画像に基づいて副走査変倍器での変倍率を算出する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus with less machine down time and of high productivity by simultaneously reading a reference pattern image for misregistration detection and/or a reference pattern image for density error detection by using a plurality of sensors and attaining quick and accurate detection.例文帳に追加

複数のセンサを用いて位置ずれ検出用基準パターン像及び／又は濃度誤差検出用基準パターン像を同時に読み込み、短時間で高精度の検出を行うことにより、マシンダウンタイムの少ない、生産性の高い画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The optimal pattern feature is extracted from a reduced reference image data Dss, the template image Dt is segmented from reference image data Ds before reducing it and registered based on positional coordinates (Xs, ys) of the pattern feature and template size (Sizex, Sizey).例文帳に追加

縮小参照画像データＤssから最適なパターン特徴を抽出し、このパターン特徴の位置座標（ｘｓ，ｙｓ）とテンプレートサイズ（Sizeｘ、Sizeｙ）とに基づいて縮小する前の参照画像データＤｓからテンプレート画像Ｄｔを切り出して登録する。 - 特許庁

Specifically, the image reading apparatus includes: a reference pattern provided in the housing to be read by the reading means when reading an original; and a detecting means for detecting an inclination of the reading means based on the result of reading of the reference pattern.例文帳に追加

とりわけ、画像読み取り装置は、原稿を読み取る際に、読み取り手段により読み取られる筐体の内部に設けられた基準パターンと、基準パターンの読み取り結果に基づいて読み取り手段の傾きを検出する検出手段とを備えている。 - 特許庁

A standard pattern using a wavelength as a parameter for the differential value of interference light with reference to the prescribed step of a first material to be treated and a standard pattern using a wavelength as a parameter for the differential value of interference light with reference to the prescribed mask residual film thickness of the material to be treated are set.例文帳に追加

第１の被処理材の所定段差に対する干渉光の微分値の、波長をパラメータとする標準パターンと被処理材の所定マスク残膜厚さに対する干渉光の微分値の、波長をパラメータとする標準パターンを設定する。 - 特許庁

This iron cover is provided with a projecting part 3 for a pattern formed by projecting to a reference bottom surface 2 of an iron cover upper surface and nonslip projections 4 (a main projection 4A and a sub- projection 4B) dispersively projected in large numbers on the reference bottom surface 2 and an upper surface of the projecting part 3 for the pattern.例文帳に追加

鉄蓋上面の基準底面２に対して突出して形成された絵柄用突部３と、基準底面２および絵柄用突部３の上面に多数分散して突設された滑り止め用突起４（主突起４Ａ、副突起４Ｂ）とを備えている。 - 特許庁

Further, when a change in internal temperature of the apparatus is detected by a detection sensor, an image stabilizing operation is performed by forming a reference pattern image on a photoreceptor drum, transferring the reference pattern image to the intermediate transfer body, determining an image forming performance, and then, adjusting an image forming condition.例文帳に追加

また、検知センサによって装置内温度の変化が検知されると、感光体ドラム上に基準パターン像を形成し、これを中間転写体に転写して像形成性能を判断して画像形成条件を調整する画像安定化動作が行われる。 - 特許庁

A group of change patterns which differ in shape from the reference pattern are generated according to variations of process parameters, the amounts of changes in shape of the group of change patterns are calculated, and the calculated amounts of changes in shape are added to information on the edge points of the reference pattern.例文帳に追加

プロセスパラメータの変動に応じてその形状が基準パターンから変化した変化パターン群を作成し、該変化パターン群における形状の変化量を算出し、算出された形状の変化量を基準パターンのエッジ点の情報に付加する。 - 特許庁

A position where a reference mark is to be formed is found based on the image data of the internal electrode pattern obtained by irradiating the X ray 38 to the ceramic green block 27, the reference mark is formed at the position where the reference mark is to be formed, and the ceramic green block 27 is cut based on the reference mark.例文帳に追加

セラミックグリーンブロック２７にＸ線３８を照射して得た内部電極パターンの画像データに基づいて、基準マーク形成予定位置を求め、この基準マーク形成予定位置に基準マークを形成し、基準マークに基づいて、セラミックグリーンブロック２７に対して切断加工を行なうようにする。 - 特許庁

A radio-controlled timepiece 10 is provided with a conductive case 150 having a reference surface, a dielectric display window 100 having an opposite surface opposed to the reference surface and a metallic pattern 110 as a circulating radial conductor which is formed between the reference surface and the opposite surface and separated by a prescribed distance from the reference surface.例文帳に追加

電波時計１０は、基準面を有する導電性のケース１５０と、前記基準面と対向する対向面を有する誘電体の表示窓１００と、前記基準面と前記対向面との間にあって、前記基準面と所定の距離を離間して周回する放射導体としての金属パターン１１０とを備える。 - 特許庁

To easily correct a minute inclination of a reference pattern on an object of image recording with respect to a reference direction without providing a mechanism of rotating a holding section in an image recording device having two moving mechanisms parallel to each other with respect to one reference direction between two reference directions orthogonal to each other.例文帳に追加

互いに直交する２つの基準方向のうち一方の基準方向に関して互いに平行な２つの移動機構を有する画像記録装置において保持部を回動する機構を設けることなく、画像記録の対象物上における参照パターンの基準方向に対する微小な傾斜を容易に補正する。 - 特許庁

In this estimation device, a storage part 12 stores a characteristic pattern 12a indicating a relation between reference release voltage values of a reference battery under a plurality of charged conditions including a full charge condition and an overcharge condition, and a difference value between the reference release voltage values and reference discharge voltage values under a discharged condition connected to electric loads.例文帳に追加

満充電状態及び過放電状態を含む複数の充電状態における基準バッテリの基準開放電圧値と、その基準開放電圧値と電気負荷が接続された各放電状態における基準放電電圧値との差分値との関係を示す特性パターン１２ａを記憶部１２に記憶しておく。 - 特許庁

To shorten a reference mark detecting time in an auxiliary scanning direction in correcting the skew feed of a CD-R tray in CD-R printing and to prevent erroneous detection caused by a pattern that resembles a reference mark.例文帳に追加

ＣＤ-Ｒ印刷時、ＣＤ−Ｒトレイの斜行を補正する際の副走査方向における基準マーク検出時間の短縮、かつ、基準マークに似た模様による誤検知の防止をする。 - 特許庁

A reference area S including a part of the test pattern is set on the read image expressing the content of an image of the read image data, and a comparison area C1 to be compared with the reference area on the read image is set.例文帳に追加

読取画像データの画像内容を表す読取画像上でテストパターンの一部を含む基準領域Sを設定し、読取画像上で基準領域と比較する比較領域C1を設定する。 - 特許庁

When making a reference line (Fig.17(A)) thick, a reference pattern is determined so that at least one dot onto which ink is not discharged exists between dots onto which ink is discharged (Fig.17(B)-Fig.17(D)).例文帳に追加

基準ライン（図１７（Ａ））を太らせる場合に、インクが吐出されるドット同士の間に少なくとも１つのインクが吐出されないドットが存在するように基準パターンを決定する（図１７（Ｂ）〜図１７（Ｄ））。 - 特許庁

Reference patterns (B) and (C), which are not elliptical (A) but are obtained by reducing intensity in the vicinity of a contact point where an edge image makes contact with a tangental line perpendicular to an edge direction, are generated as a reference pattern.例文帳に追加

参照パターンとして、単なる楕円（Ａ）ではなく、エッジ画像のエッジ方向に垂直となる接線との接点付近の強度を小さく設定して得られた参照パターン（Ｂ）（Ｃ）を作成する。 - 特許庁

A table holding means 115 holds a pattern table for specifying a plurality of reference values indicating the corresponding relationship between lottery values for selecting variation patterns and the variation patterns, together with the reference sequence.例文帳に追加

テーブル保持手段１１５は、変動パターンを選択するための抽選値と変動パターンとの対応関係を示す複数の参照値がその参照順序とともに規定されたパターンテーブルを保持する。 - 特許庁

It obtains a reference image 2' corresponding to the optical proximity effect correction mask and a reference image 3' corresponding to the OPC pattern after converting a format of the EB data 2 (after OPC) and the EB data 3 (after SUB).例文帳に追加

ＥＢデータ（ＯＰＣ後）２とＥＢデータ（ＳＵＢ後）３のフォーマット変換を行った後、光学近接効果補正マスクに対応する参照画像２’と、ＯＰＣパターンに対応する参照画像３’を得る。 - 特許庁

A reference line pattern is configured by determining a reference line in each variation cycle whose object is the case that the number of times of executing the variation cycle is the largest (in the case of "4 times") while accompanied by the continuous performance.例文帳に追加

基準ラインパターンは、連続演出を伴う中で変動サイクルの実行回数が最も多い場合（「４回」の場合）を対象とする各変動サイクルでの基準ラインを定めて構成するようにした。 - 特許庁

A table holder 115 holds a pattern table wherein a plurality of reference values showing correspondence of lottery values for selecting variation patterns with the variation patterns are stipulated together with their reference order.例文帳に追加

テーブル保持手段１１５は、変動パターンを選択するための抽選値と変動パターンとの対応関係を示す複数の参照値がその参照順序とともに規定されたパターンテーブルを保持する。 - 特許庁

A data transfer unit 21 extracts a reference clock from one of a plurality of synchronization pattern inserting data, and transfers all the data with respect to the reference clock to generate transferred data.例文帳に追加

データ乗り換え部２１は、伝送遅延差が生じている、複数の同期パターン挿入データの１つから、基準クロックを抽出し、基準クロックに対して、全データを乗り換えて、乗り換えデータを生成する。 - 特許庁

Wiring pattern 251 connecting an electrode 221 on a reference terminal side of the interdigital transducer 212 with an electrode 226 on a reference terminal side of the interdigital transducer 213 on the piezoelectric substrate 208 is provided.例文帳に追加

くし型電極部２１２の基準端子側の電極２２１と、くし型電極部２１３の基準端子側の電極２２６とを圧電基板２０８上にて接続する配線パターン２５１を設ける。 - 特許庁

At the point in time that all the toner patterns P1 to P10 have been read, the calculation of an amount of color misalignment between a reference color and a non-reference color is started based upon data about each color toner pattern detected.例文帳に追加

そして、全てのトナーパターンＰ１〜Ｐ１０を読み終えた時点で、検出された各色のトナーパターンのデータに基づいて、基準色と非基準色との色ずれ量の算出を開始する。 - 特許庁

Then, a data extraction part 54 extracts the data from the pixel value of the data after the expansion processing is performed by the filter processing part 53 with the pixel value corresponding to the reference pattern for the data extraction as a reference.例文帳に追加

そして、データ取出部５４は、データ取り出し用基準パターンに対応する画素値を基準として、フィルタ処理部５３によって膨張処理された後のデータの画素値からデータを取り出す。 - 特許庁

To surely detect defects by surely equalizing an image quality condition of an image to be inspected and a reference image as pre-conditioning a pattern inspection through comparison of the image to be inspected which is a multi-valued image with the reference image.例文帳に追加

多値画像である被検査画像と参照画像との比較によるパターン検査の前処理として両画像の画質条件を確実に等しくすることにより確実に欠陥を検出する。 - 特許庁

Eight compact thermosensitive resistors 11-n and eight compact reference resistors 12-n are arranged in a checker pattern and connected one another to be one thermosensitive resistor row and reference resistor row (Fig. (a)).例文帳に追加

８個の小型感熱抵抗体１１−ｎと８個の小型基準抵抗体１２−ｎを市松様に配置し、各々連結することで１の感熱抵抗体列、基準抵抗体列とした（ａ）。 - 特許庁

In the method, the shape of the surface to be inspected is measured on the basis of an interference pattern between reflected light from the surface to be inspected and reflected light from a reference surface, using an optical system having the reference surface.例文帳に追加

参照面を有する光学系を用いて、被検面からの反射光と参照面からの反射光との干渉パターンに基づいて被検面の形状を測定する方法である。 - 特許庁

A control part 3 determines the number of extreme values shown in the sensor data as the extreme values, compares the determined number of extreme values with the number of reference extreme values, and adjusts the size of the image pattern to a size capable of acquiring the number of reference extreme values.例文帳に追加

制御部３は、センサデータが極値を取る極値数を求め、求めた極値数を基準極値数と比較して、画像パターンのサイズを基準極値数を得ることができるサイズに調整する。 - 特許庁

A scale 12 is equipped with not only an incremental pattern 31 formed at array pitches Pi having equal intervals of light and shade, and an absolute pattern 32 expressing an absolute position by a pseudo random pattern, but also a position reference pattern 33 having a prescribed phase relation to the absolute pattern 32 and formed at array pitches Pr (>Pi) having equal intervals of light and shade.例文帳に追加

スケール１２は、明暗の等間隔の配列ピッチＰｉで形成されたインクリメンタルパターン３１と、擬似ランダムパターンにより絶対位置を表現したアブソリュートパターン３２とに加え、アブソリュートパターン３２に対し所定の位相関係を有し且つ明暗の等間隔の配列ピッチＰｒ（＞Ｐｉ）で形成された位置基準パターン３３とを備える。 - 特許庁

A gap pattern setting unit 120 sets a gap pattern on the basis of a gap parameter or the changed gap length, and a measuring unit 130 generates a gap by using the set gap pattern and measures the reference signal in a physical layer to be input during the gap.例文帳に追加

ギャップパターン設定部１２０は、ギャップパラメータ及び変更ギャップ長に基づいて、ギャップパターンを設定し、測定部１３０は、設定されたギャップパターンを用いてギャップを作成し、ギャップにおいて入力される物理レイヤの基準信号を測定する。 - 特許庁

In a patterning step, a pattern on a second substrate is formed on the second substrate by imprinting a pattern of the second template where the displacement from an underlayer side pattern already formed on the second substrate is less than a predetermined reference value.例文帳に追加

パターン形成ステップは、第２の基板に既に形成されている下層側パターンとの間の位置ずれ量が所定の基準値以下となる第２のテンプレートのパターンを転写して前記第２の基板上に第２の基板上パターンを形成する。 - 特許庁

The data creating part 4 for deforming the model reads pattern data corresponding to the specified road location from a pattern model storage part 5, and creates data for deforming the model by processing the extracted parameter data while making reference to the pattern data.例文帳に追加

モデル変形用データ生成部４は、指定された道路箇所に対応するパターンデータをパターンモデル格納部５から読み出し、当該パターンデータを参照しつつ上記抽出されたパラメータデータを加工することで、モデル変形用データを生成する。 - 特許庁

(1) In a direction going toward the data part from the servo part of each track, a distance from a servo pattern to be a reference of timing matching for starting to detect the data pattern to a data pattern closest to the servo part is natural number times as long as resolution in a detector.例文帳に追加

（１）各々のトラックのサーボ部からデータ部に向かう方向において、データパターンの検出を開始するタイミング合わせの基準となるサーボパターンから、サーボ部に最も近いデータパターンまでの距離が、検出器における分解能の自然数倍である。 - 特許庁

Shape information of the inspection aspheric surface 8a is acquired by a shape analyzer 41 based on a shape deviation from the reference pattern, of a deformed pattern image acquired by projecting the pattern image onto the inspection aspheric surface 8a and imaging it by an imaging system 3.例文帳に追加

このパターン像が被検非球面８ａに投影されて撮像系３により撮像された変形パターン像の、基準パターンからの形状偏差に基づき、形状解析装置４１において被検非球面８ａの形状情報が求められる。 - 特許庁

To provide a visual inspection method and device for eliminating the need of the exact positioning for a master pattern, for eliminating erroneous determination of determining a nondefective as a defective, and for restraining an increase of the kinds of reference pattern portions prepared as the master pattern.例文帳に追加

マスタパターンの厳密な位置合わせを不要とし、良品を不良品と誤判定することのなく、しかもマスタパターンとして用意すべき基準パターン部分の種類の増大を抑制できる外観検査方法および装置を提供する。 - 特許庁

The data creating part 4 for deforming the model reads pattern data corresponding to the specified road location from a pattern model storage part 5 and creates data for deforming the model by processing the extracted parameter data while making reference to the pattern data.例文帳に追加

モデル変形用データ生成部４は、指定された道路箇所に対応するパターンデータをパターンモデル格納部５から読み出し、当該パターンデータを参照しつつ上記抽出されたパラメータデータを加工することで、モデル変形用データを生成する。 - 特許庁

The correction unit 14 corrects the template created by the creating unit 9 based on the information of the pseudo pattern when it is determined that there is the pseudo pattern, and creates a corrected template whose degree of matching with the pseudo pattern is lower than the reference value.例文帳に追加

補正部１４は、偽パターンが存在すると判断された場合に、偽パターンの情報に基いて、生成部９によって生成されたテンプレートを補正して、偽パターンとのマッチング度が基準値を下回る補正されたテンプレートを生成する。 - 特許庁

Then, fluctuation quantity of the dancer respective parts from their reference positions and the read dance pattern are composed together and consequently, a three-dimensional CG is formed.例文帳に追加

そして、踊り手の各個所の基準位置からの変化量と読みだ出された踊りパターンを合成し、３次元ＣＧを作成する。 - 特許庁

The pattern matching inspection is performed with respect to the inspection target image imaged at every inspection target product using the obtained reference image.例文帳に追加

得られた基準画像を用いて、検査対象の製品毎に撮像される検査対象画像についてパターンのマッチング検査を行う。 - 特許庁

To provide a fixture for body to be drawn, enabling positioning of an accurate and a quick drawing pattern to a mark that is a reference.例文帳に追加

基準となるマークに対する正確かつ迅速な描画パターンの位置決めを可能にする被描画体用の治具を提供とする。 - 特許庁

The stereogram pattern is constituted so that the marks 19 may be seen stereoscopically at a position different from the reference surface of the plate 3.例文帳に追加

ステレオグラムパターンは、警報表示用シンボルマーク１９が文字板３の基準面と異なる位置に立体視されるように構成されている。 - 特許庁