「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

In addition, the amplitude of the detected output signal is compared with a reference value, thus judging as to whether the junction state between the test pin 17 and pattern 17a is confirming.例文帳に追加

さらに、検出された出力信号の振幅を基準値と比較し、テストピン１７とパターン１７ａとの接合状態の良否を判定する。 - 特許庁

A groove 90 and a supporting area 96 are provided for a driving pulley, and the reference mark of a display belt 52 and a pattern mark 60 travels on a groove 90.例文帳に追加

駆動プーリ４４には溝９０と支持域９６が設けられており、表示ベルト５２の基準マーク５８及び図柄マーク６０は溝９０上を走行する。 - 特許庁

A picked-up image obtained by being picked up and the reference image are collated by pattern matching to detect a shift amount of the picked-up image corresponding to the correction application cell.例文帳に追加

撮像して得られた撮像画像と基準画像とをパターンマッチングで照合し、補正適用セルに対応する当該撮像画像のずれ量を検出する。 - 特許庁

The business form processor detects the reference position in a pattern in the input business form image, and recognizes the size information of the region 2.例文帳に追加

帳票処理装置は、入力した帳票画像中のパターンにおける基準位置を検出すると共に領域２のサイズ情報を認識する。 - 特許庁

A correlation evaluation section 7 evaluates, regarding each of a plurality of evaluation patterns, the correlation between processed reference areas selected by the relevant evaluation pattern.例文帳に追加

相関評価部７は、複数の評価パターンのそれぞれに関して、これによって選択された処理済参照領域間の相関を評価する。 - 特許庁

To manufacture a panel plate used for light emitting panel device and having a pattern for decoration etc., at low cost without reference to its amount of production.例文帳に追加

発光パネル装置に用いる、装飾等のパターンを有するパネル版を、少量生産であってもまた大量生産であっても、低コストで生産する。 - 特許庁

When illuminating light from the illumination light source 15 changes, sensor data 18a from a CCD line sensor 18 is subjected to density conversion for comparing it with a reference pattern.例文帳に追加

ＣＣＤラインセンサ１８からのセンサデータ１８ａは、照明光源１５からの照明光が変化した場合には、濃度変換して基準パターンと比較する。 - 特許庁

The first and second display images are the same images including a reference pattern of a predetermined shape having luminance different from that of a background image.例文帳に追加

第１の表示画像及び第２の表示画像は、背景画像の輝度と異なる輝度を有する所定形状の基準パターンを含む同一の画像である。 - 特許庁

The connection information is compared with at least one pattern stored in the direct table at the address to find reference information for the received packet.例文帳に追加

接続情報は、受信パケットに関する参照情報を見つけるために、ダイレクト・テーブル内のそのアドレスに保管された少なくとも１つのパターンと比較される。 - 特許庁

When reversal of the encoder is detected from a pulse pattern, a reference position is determined and a value of a counter is incremented from the point to detect the swing angle of the antenna.例文帳に追加

パルスパターンからエンコーダの反転を検出すると、基準位置を決定し、そこからカウンタの値をカウントアップしていき、アンテナの振り角を検出する。 - 特許庁

According to them, the positions of corresponding pixels of the reference image and check image are found and an image obtained by similarity conversion is collated through pattern matching processing.例文帳に追加

これらに基づいて基準画像と検査画像の対応する画素の位置が求められ、相似変換の結果の画像をパターンマッチング処理して、照合を行う。 - 特許庁

The control part 3 then calculates a processing pattern from tool route information, and predicts a machining resistance in reference to the machining resistance database 29.例文帳に追加

次に、制御部３は、工具経路情報から加工パターンを算出し、切削抵抗力データベース２９を参照して切削抵抗力を予測する。 - 特許庁

To provide a molding die of an optical element having a mark serving as measurement reference capable of correct shape evaluation of a stepped diffraction pattern.例文帳に追加

階段状となる回折パターンの形状評価を正確に行うことができる測定基準としてのマークを有する光学素子の成形金型を提供する。 - 特許庁

The alignment pattern in the device-forming region is detected through rough alignment based on the reference position provided in the external side of the device-forming region (S15).例文帳に追加

そして、デバイス形成領域外に設けられた基準位置に基づきおおよそのアライメントをしてデバイス形成領域内のアライメント・パターンを検出する（S15）。 - 特許庁

Then, by reselecting the game display pattern on the basis of the respective determination results, the appearance ratios by the respective parameters are brought closer to the stipulated value to be the reference.例文帳に追加

そして、各判定結果に基づきゲーム表示パターンを再選択することで、各パラメータによる出現率を対応する基準となる規定値に近づける。 - 特許庁

The interference fringe pattern is formed, by the interference of a reflected wave front from the face to be inspected of the measuring object with a reflected wave front from the reference face.例文帳に追加

干渉縞パターンは、測定対象物の被検面からの反射波面と参照面からの反射波面との干渉によって形成される。 - 特許庁

When the count value of a time shortening counter matches with a time shortening end reference value when a special pattern game is started, an under-time-shortening flag is cleared to be in an off-state.例文帳に追加

特図ゲームが開始されるときに、時短カウンタのカウント値が時短終了基準値と合致すると、時短中フラグがクリアされてオフ状態となる。 - 特許庁

When the special pattern selection table is set as the reference table, a time counting means 200 counts an elapsed time from a time when setting the table.例文帳に追加

計時手段２００は参照テーブルとして特殊パターン選択テーブルが設定された場合に当該テーブルが設定されてからの経過時間を計時する。 - 特許庁

The mounting substrate 101 and the wiring pattern on the reverse surface of the semiconductor chip 105 have reference marks 106 and 111 for alignment, respectively.例文帳に追加

実装基板１０１及び半導体チップ１０５裏面にある配線パターンは、それぞれアライメント用の基準マーク１０６及び１１１を有している。 - 特許庁

When the symmetric axis of the moire pattern included in an image taken by a camera is made coincident to the reference line, the rotation value of a stepping motor is attained.例文帳に追加

カメラによって撮像された画像に含まれるモアレパターンの対称軸が基準線に一致した時、ステッピングモータの回転量が取得される。 - 特許庁

Light from a light source 21 passes through a collimator lens 22, the reference scale 10, and the scan plate 23, and a vernier striped pattern is detected by a detector array 24.例文帳に追加

光源２１からの光は、コレメートレンズ２２、基準尺１０および走査板２３を通過して、検出器配列２４により、バーニヤ縞模様が検出される。 - 特許庁

This suppresses the measuring error from growing in the base line measurement using the reference mark WM_1, WM_2, WM_3, WM_4 and the measuring pattern ST.例文帳に追加

したがって、基準マークＷＭ_１，ＷＭ_２，ＷＭ_３，ＷＭ_４及び計測パターンＳＴを用いたベースライン計測では計測誤差の発生が抑制される。 - 特許庁

To obtain stable image density by accurately detecting a reference pattern for density detection irrelevantly to a surface state of a transfer belt or an intermediate transfer body.例文帳に追加

転写ベルトあるいは中間転写体の表面状態に関わらず濃度検知用基準パターンを正確に検出して安定した画像濃度を得る。 - 特許庁

The screen luminance of a pattern projected on the screen is measured, and when a measured luminance level is lower than a reference value, the exchange of the projection light source is instructed.例文帳に追加

スクリーンに写し出されたパターンのスクリーン輝度を測定し、基準値を下回る測定輝度レベルのとき、投影用光源の交換を指示する。 - 特許庁

A dot pattern of 1 bit/dot print data is compared with a plurality of reference dot patterns for each m×n dot matrix in order to detect a dot to be interpolated.例文帳に追加

１ドットあたり１ビットの印刷データによるドットパターンをm×nドットマトリックス毎に複数の参照ドットパターンと比較して補間対象ドットを検出する。 - 特許庁

Then, with the positioning holes 10a as a reference, an internal electrode pattern 12 is formed on the surface of the ceramic green sheet 11 by screen printing.例文帳に追加

次に、上記の位置決め孔１０ａを基準として、スクリーン印刷によってセラミックグリーンシート１１の表面上に内部電極パターン１２を形成する。 - 特許庁

To accurately and quickly perform previous calibration processing to accurately read a reference pattern formed on an intermediate transfer body without causing the productivity to deteriorate.例文帳に追加

中間転写体に形成する基準パターンを正確に読み取るための事前の校正処理を正確かつ速やかに生産性を低下させずに実行する。 - 特許庁

The plate patterns 24 and the reference data patterns 26 are compared in the subsequent pattern inspection step S28 and the dissidence of both patterns is defected as the defect patterns.例文帳に追加

その後のパターン検査工程Ｓ２８にて、プレートパターン２４と基準データパターン２６とを比較して、両パターンの不一致を欠陥パターンとして検出する。 - 特許庁

Accordingly, the toner adhesion in development of a reference pattern is increased so that a higher toner density is intentionally wrong detected, consequently reducing the toner density.例文帳に追加

これにより、基準パターン現像時のトナー付着量を増加させ、トナー濃度が高めであると意識的に誤検知させ、結果的にトナー濃度を低くする。 - 特許庁

Toner is stuck to the P-sensor pattern by set bias, and a toner stuck amount is detected by a P-sensor 10 so as to obtain the toner density control reference value.例文帳に追加

設定バイアスでＰセンサパターンにトナーを付着させ、トナー濃度制御基準値を求めるためにトナー付着量をＰセンサ１０で検出する。 - 特許庁

To solve a problem that an increase in the number of reference tables only for selecting a specific variation pattern at a certain specific timing, causes the imminence of ROM and is objectionable.例文帳に追加

特定の変動パターンをある特定のタイミングで選択させるためだけに参照テーブルの数を増やすのはＲＯＭ切迫の原因となり好ましくない。 - 特許庁

REFERENCE VALUE SETTING METHOD, PATTERN DETERMINING METHOD, ALIGNMENT TESTER, SEMICONDUCTOR APPARATUS MANUFACTURING SYSTEM, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING FACTORY AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加

基準値設定方法、パターン判定方法、アライメント検査装置、半導体装置製造システム、半導体製造工場および半導体装置の製造方法 - 特許庁

In the state of holding the piezoelectric substrate 1 on a collet, the reference position of a conductor pattern on the piezoelectric substrate 1 with respect to the collet is found by an image processor.例文帳に追加

圧電基板１をコレットに保持した状態において、コレットに対する圧電基板１の導体パターンの基準位置を画像処理装置により求める。 - 特許庁

A reference beam, which is spatially modulated and diffracted by an interference pattern formed on the holographic memory, is received by a photodetector 130.例文帳に追加

参照光はホログラフィックメモリに形成されている干渉パターンによって空間的に変調され、かつ回折されて、フォトディテクタ１３０で受光される。 - 特許庁

First, the known pattern is read by applying the first reference light to be subjected to equalization processing, and a tap coefficient thus obtained is stored (S1 to S3).例文帳に追加

まず、既知パターンを第１の参照光を照射して読み出して等化処理を行い、それにより得られたタップ係数を記憶する（Ｓ１〜Ｓ３）。 - 特許庁

The inkjet recording system comprises an arrangement for determining the recording position of a dot at the time of binary recording with reference to a mask pattern when multipass recording is performed.例文帳に追加

マルチパス記録を実行する際のマスクパターンを参照することによって、２値記録を行う際のドットの記録位置を定める構成を具備する。 - 特許庁

The reference image data of the background pattern of printing paper 800 are respectively stored in a memory 133 and variable data at every printed matter is successively stored in a memory 131.例文帳に追加

印刷用紙８００の背景絵柄の基準画像データはメモリ１３３に各々記憶され、印刷物ごとの可変データは順次メモリ１３１に記憶される。 - 特許庁

To provide a means for selecting a reference image corresponding to an initiation timing of loading of an inspection image, and a means effectively inspecting any pattern.例文帳に追加

検査画像の取り込み開始タイミングに一致した基準画像を選択する手段と、どのような絵柄の検査にも有効な手段を提供する。 - 特許庁

The image reader 300 has an original-base glass 302 with a fitted white board as a color reference board and a laser-speckle pattern reading unit 310.例文帳に追加

画像読取装置３００は、色基準板としての白板３０４を設ける原稿台ガラス３０２と、レーザスペックルパタン読取ユニット３１０を有する。 - 特許庁

Determination is made, based on a type of encoding of the decompressed block and a position of the corresponding reference frame, or a given topology pattern and a size of the frame memory.例文帳に追加

これはこの圧縮解除ブロックの符号化タイプと対応参考フレームの位置、或いは付与されたトポロジーパターンとフレームメモリの容量によりなされる。 - 特許庁

This method is to measure the relative position of the patterns produced on the substrate by a step mode, using a reference mark overlaid on the device pattern.例文帳に追加

デバイス・パターン上に重畳している基準マークを使用して、基板上にステップ・モードにより現像したパターンの相対的位置を測定するための方法。 - 特許庁

On an inner circumferential side area, the SSW controller 22 specifies the RWO from a read value and reference value of a radial pattern written onto a recording surface.例文帳に追加

内周側領域において、ＳＳＷコントローラ２２は、記録面に書き込んだラディアル・パターンの読み取り値と基準値とから、ＲＷＯを特定する。 - 特許庁

To provide a method for voice recognition having higher recognition performance than conventional one without increasing largely quantity of operation by calculating similarity which is not calculated between a reference pattern of tree structure and an input pattern because a reference pattern of which similarity is not calculated by a tree structure dictionary exists and recognition performance is deteriorated by performing fuzzy weighting operation.例文帳に追加

ツリー構造辞書では類似度が算出されない標準パタンがあり、認識性能の劣化があるため、ツリー構造の標準パタンと入力パタン間で算出されなかった類似度を、ファジー重み付け演算することにより算出し、演算量を大幅に増加させることなく、従来と比較してより認識性能の高い音声認識方法を提供する。 - 特許庁

A pattern measurement computer 50 receives a reference radio signal transmitted from the directions of a plurality of azimuth angles of an electronic control director array antenna apparatus 100 by each radiation pattern, where a plurality of sets of different reactance values of each variable reactance element are set, measures the power of each received reference radio signal, and obtains a power pattern for each azimuth angle for each set.例文帳に追加

パターン測定コンピュータ５０は、電子制御導波器アレーアンテナ装置１００の複数の方位角の方向から送信される基準無線信号を各可変リアクタンス素子のリアクタンス値の互いに異なる複数のセットが設定された各放射パターンで受信し、受信された各基準無線信号の電力を測定し、各セット毎の各方位角に対する電力パターンを得る。 - 特許庁

When the dispersion of the calculated distribution density in the circumferential direction is determined to exceed a preset reference value, the distribution density of the travel tracks is calculated with a rocking delay time for the acceleration pattern changed so that the preset acceleration pattern is changed into an acceleration pattern where the dispersion in the circumferential direction is a reference value or smaller.例文帳に追加

算出された分布密度の円周方向のばらつきが予め設定された所定の基準値を超えると判断されたときに、加減速パターンの揺動遅延時間を変化させた場合について走行軌跡の分布密度を算出し、既定の加減速パターンを円周方向のばらつきが基準値以下となる加減速パターンに変更するように構成される。 - 特許庁