「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

When authenticating the user, the user selects and inputs character symbols from the reference image in an order according to the selection pattern set by himself/herself.例文帳に追加

ユーザ認証時に、ユーザは、自らが設定した選択パターンに従って、参照画面から文字記号を順番に選択し、入力する。 - 特許庁

Reference patterns close to a recognition object pattern are detected by a candidate detecting part 13 and repeatedly narrowed down by a candidate narrowing part 14.例文帳に追加

認識対象パターンに近い参照パターンを候補検出部１３で検出し、これらを候補絞込部１４で繰り返し絞り込む。 - 特許庁

The measuring point position calculation part calculates the position of the measuring point in each display image based on the reference pattern in the imaging range.例文帳に追加

測定点位置算出部は、撮像範囲内の基準パターンを基準に、各表示画像内における測定点の位置を算出する。 - 特許庁

An image for correction with the same pattern as an image for reference consisting of respective colors Y, M and C prepared in advance, is printed on the printing paper.例文帳に追加

予め用意されたＹ、Ｍ、Ｃ各色からなる参照用画像と同じパターンの補正用画像を印画用紙に印画する。 - 特許庁

The ECU 14 detects the driving pattern of the driver by a sensor 16 on the basis of the reference time data, and stored in the data base.例文帳に追加

ＥＣＵ１４は、標準時間データに基づき、センサ１６で車両運転者の運転パターンを検出し、データベースに記憶する。 - 特許庁

A mask generation part 40 specifies an area unfit for stereoscopic processing in a reference image 24 of the object and prepares a mask pattern 28.例文帳に追加

マスク生成部４０は、対象物の基準画像２４においてステレオ処理に不向きな領域を特定し、マスクパターン２８を作成する。 - 特許庁

To prevent quality degradation of a pattern image of information light reproduced from interference fringes generated by deviation of a radiation position of reference light.例文帳に追加

参照光の照射位置のズレにより、干渉縞から再生される情報光のパターン像の質が低下することを防止する。 - 特許庁

When the variation Pb is less than the variation decision reference value Po, the caution warning based on a short pattern in a short cycle is issued (S11).例文帳に追加

又、変化量Ｐｂが変化量判定基準値Ｐｏ未満のときは短い周期のショートパターンによる注意警報を発する(S11)。 - 特許庁

In the right lower corner of the circuit board 1 for the camera, a reference pattern 1a on which the positioning of the image pickup element 2 is based is formed.例文帳に追加

カメラ用回路基板１の右下隅に、撮像素子２を位置決めする際の基準となる基準パターン１ａを形成する。 - 特許庁

A pattern (pitch) of a stripe image generated, based on the ratio of this number to the number of white images in the reference zoom state, is corrected and plotted.例文帳に追加

この個数と基準ズーム状態時の白画像個数との比に基づいて生成するストライプ画像のパターン（ピッチ）を補正描画する。 - 特許庁

A defective region color determination unit 7 creates a reference position list based on a change pattern representing a change in the calculated profile value.例文帳に追加

欠陥部位色判定部７は、算出されたプロファイル値の変化を表す変化パターンに基づいて、基準位置リストを作成する。 - 特許庁

Feature vector data is obtained from biometrics data of many and unspecified persons by the SOM method instead of reference data, and collation based on a matching pattern is included.例文帳に追加

参照データに代えて、ＳＯＭ法により不特定多数のバイオメトリクスデータを特徴ベクトルデータとし、マッチングパターンによる照合も含む。 - 特許庁

The acquisition device obtains a correlation value, on the basis of the sample signal and a reference pattern and accumulates the correlation value for each sampling period.例文帳に追加

捕捉装置は、サンプル信号と参照パターンとに基づいて相関値を求め、当該相関値をサンプリング周期ごとに累積加算する。 - 特許庁

To prevent a rapid load variation to a cleaning device when a reference pattern toner image formed on an intermediate transfer belt is cleaned.例文帳に追加

中間転写ベルトに形成する基準パターントナー像をクリーニングする際に、クリーニング装置に急激な負荷変動が生じないようにする。 - 特許庁

A telephone number conversion module 3 is controlled so that consecutive numerals corresponding to a specified reference pattern are read aloud in a specified pausing way.例文帳に追加

電話番号変換モジュール３が、所定の基準パターンに該当する連続数字は、所定の区切り方で読み上げるように制御する。 - 特許庁

A workstation 3 has the reference picture of this sample LSI 21 and information on a Penrose tile pattern transferred to this.例文帳に追加

画像処理用ワークステーション３はこの試料ＬＳＩ２１の参照画像とこれに転写されたペンローズタイルパタンの情報を有している。 - 特許庁

The comparison determining part 17 compares the difference in the luminance with a reference value to detect the abnormal resistance value portion in the wiring pattern.例文帳に追加

比較判定部１７で、この輝度差を基準値と比較することにより、配線パターンの抵抗値異常個所の検出が行われる。 - 特許庁

The pattern 3 is expressed in a linearly symmetric form with a longitudinal crease 5 on one of longitudinal directions of the envelope E1 as the reference.例文帳に追加

絵柄３は、封筒Ｅ１の一方側の長手方向の折り辺部５を基準とする線対称形状となるよう表されている。 - 特許庁

The system comprises a projection system (14), operable to project a fringe pattern (18) having a reference mark onto the object (12).例文帳に追加

このシステムは、基準マークを有する干渉縞パターン（１８）を物体（１２）上に投影するように動作可能な投影システム（１４）を備える。 - 特許庁

On the other hand, one of the reference signal inputted to an image processing block and an image signal is selected by a selector to be transmitted to a pattern creation part.例文帳に追加

一方、ある画像処理ブロックに入力される基準信号と画像信号をセレクタで１つ選び、パターン生成部に送る。 - 特許庁

Assuming that there exists no fixed pattern noise at all, the reference image is a uniform image and all the inspection images have uniformly a black level.例文帳に追加

ここで仮に固定パターンノイズが全くないとすれば、基準画像は均一な画像となり、検査画像はどれも均一に黒レベルとなる。 - 特許庁

The ideal pattern generation part 30 extracts and compares *>3 reference unit patterns Pi included in an inspected image S and selecting as the gradation value of the ideal pattern PR a gradation value regarding one of reference unit patterns Pi for every corresponding pixel according to specific reference, e.g. the selection of the 2nd gradation value from the smallest value to generate the ideal pattern PR.例文帳に追加

理想パターン生成部３０は、被検査画像Ｓに含まれる３つ以上の基準単位パターンＰｉを抽出して比較し、たとえば下から２番目の大きさを有する階調値を選択する旨などの所定の基準に基づいて対応画素毎に基準単位パターンＰｉのうちの１の単位パターンに関する階調値を理想パターンＰＲの階調値として選択することにより、理想パターンＰＲを生成する。 - 特許庁

A reference position of a measurement position by a scanning electron microscope or the like is set based on position information of a reference pattern on an image which is formed at a position apart from the measurement position and obtained by a scanning electron microscope or the like and information of the position relationship between a reference pattern detected based on a design data and the measurement position.例文帳に追加

上述のような問題を解決するため、測定個所から離間した位置に形成され、走査電子顕微鏡等によって得られる画像上の基準パターンの位置情報と、設計データに基づいて検出される基準パターンと測定個所の位置関係の情報に基づいて、走査電子顕微鏡等による測定個所の基準位置を設定する。 - 特許庁

The positions of a pattern substrate and supporting means are so adjusted that the first reference mark disposed on the pattern substrate and a second reference mark disposed at the supporting means for supporting the substrate to be projected satisfy the prescribed relation in the first detecting means and the second reference mark when the prescribed relation is satisfied is detected by a second detecting means.例文帳に追加

パターン基板に設けられた第１基準マークと、被投影基板を支持する支持手段に設けられた第２基準マークとが、第１検出手段において所定の関係を満たすように、パターン基板と支持手段との位置を調整し、所定の関係を満たしたときにおける第２基準マークを第２検出手段によって検出する。 - 特許庁

A two-dimensional code pattern 13 readable by a reader 3 is provided with: a central dot 21 showing the center of a circle; a reference direction dot 24 positioned outside the circle; and numerical values 22 and 23 positioned on the circumference of the circle in angular directions corresponding to numeric values encoded into the pattern with the central dot 21 and the reference direction dot 24 as a reference.例文帳に追加

読取装置３で読取可能な二次元コードパターン１３は、円の中心を示す中心ドット２１と、円の外側に位置する基準方向ドット２４と、円の円周上であって且つ中心ドット２１と基準方向ドット２４とを基準として、そのパターンにコード化される数値に応じた角度方向にある数値ドット２２，２３と、を有する。 - 特許庁

In a method of manufacturing a semiconductor device, exposure is performed to form a resist pattern differing from a pattern in a chip region in an exposure range that includes a non-effective reference chip region adjacent to an effective reference chip region and does not include any effective chip regions and effective reference chip regions in a reference exposure process using a reduction projection type aligner in a photolithography process.例文帳に追加

本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法においては、フォトリソグラフィの工程において、縮小投影型露光装置を用いた基準露光工程において、有効基準チップ領域に隣接する無効基準チップ領域を含み、かつ有効チップ領域および有効基準チップ領域を含まない露光範囲で、チップ領域のパターンとは異なるレジストパターンを形成するように露光を行う。 - 特許庁

To execute ion beam machining by allowing a reference object to be always recognized in process of the machining to carry out accurate drift correction even when a minute hole or a minute pattern is used as the reference object in correcting the drift of an irradiation position of an ion beam using the reference object.例文帳に追加

参照対象を用いてイオンビームの照射位置のドリフトを補正する際に、参照対象として微細穴や微細パターンを用いた場合でも、加工途中で参照対象を常に認識できるようにし、高精度のドリフト補正をし、イオンビーム加工を行なう。 - 特許庁

A reference wave phase control section 23 controls the phase of the output reference wave of a reference wave generation section 22 so that the above integrated value level becomes maximum or minimum, and a change in the integrated value level is made maximum at the before/after the specific pattern of wobble.例文帳に追加

参照波位相制御部２３は、上記の積算値レベルが最大又は最小となるように、参照波発生部２２の出力参照波の位相を制御することで、積算値レベルの変化をウォブルの特定のパターンの前後で最も大きくする。 - 特許庁

Reference design patterns in a plurality of types are subjected to correction processes using a mathematical model in a plurality of times for the respective parameters to calculate a plurality of corrected reference design patterns on each reference design pattern of a plurality of types.例文帳に追加

複数種類の標準設計パターンそれぞれに対して、数式モデルを用いた補正処理を複数のパラメータの値それぞれで複数回行うことにより、複数種類の標準設計パターンそれぞれ毎に複数の補正後標準設計パターンを算出する。 - 特許庁

The arrangement pattern designed under the same or similar design conditions is confirmed to requested design conditions by indicating the selected reference arrangement pattern to a person in charge of the design.例文帳に追加

選出した基準配置パターンを設計担当者に示すことで、要求される設計条件に対して同じまたは類似の設計条件で設計された配置パターンを確認させることができる。 - 特許庁

As a result, the unused light can be distributed as the diffusive light distribution pattern WP to be effectively utilized without changing (reducing) the quantity of light of the reference light distribution pattern LP for low beam.例文帳に追加

この結果、ロービーム用の基準配光パターンＬＰの光量を変えずに（減らさずに）、使用されていなかった光量を拡散配光パターンＷＰとして振り分けて有効利用することができる。 - 特許庁

The average concentration in relation to the respective small dot patterns is obtained, a small dot pattern wherein the value thereof is set in a reference range and closest to the average concentration of the determined large dot pattern is determined (S114).例文帳に追加

またそれぞれの小ドットパターンに関して平均濃度を求め、それらの値が基準範囲にありかつ決定した大ドットパターンの平均濃度に最も近い小ドットパターンを決定する（Ｓ１１４）。 - 特許庁

The video processing apparatus 2 finds a correlation ratio between the generated pattern data and the reference pattern data in abnormality, and immediately generates an alarm signal in a communication apparatus 5 if not less than a predetermined correlation ratio.例文帳に追加

そして、ビデオ処理装置２は、生成されたパタンデータと異常時の基準パタンデータとの相関率を求めて、所定の相関率以上の場合には直ちに通信装置５に警報信号を発生する。 - 特許庁

When the reference image macroblock M1 is moved for searching in a vertical direction, a searching pattern generating section 13 establishes extended searching for the searching pattern to extend the searching movement range bridged over between fields.例文帳に追加

探索パターン発生部１３は、参照画マクロブロックＭ１を垂直方向に探索移動させる場合、探索パターンに対して、フィールド間をまたいで探索移動範囲を広げる拡張探索を設定する。 - 特許庁

The control device 20 calculates a gear shift pattern of the vehicle 10 with reference to a predetermined gear shift pattern (A map 21a) on the basis of an accelerator operating amount PA memorized in a memory 21 in advance.例文帳に追加

制御装置２０は、そのメモリ２１に予め記憶されているアクセル操作量ＰＡに基づく所定の変速パターン（Ａマップ２１ａ）を参照しつつ車両１０の変速パターンを算出する。 - 特許庁

According to plural (three) unit patterns (e.g., PA, PB, PC) contained in an inspection image S formed by a repeated pattern, a reference image PI is automatically generated as an ideal pattern.例文帳に追加

繰り返しパターンで構成される被検査画像Ｓに含まれる複数（３つ）の単位パターン（たとえばＰＡ、ＰＢ、ＰＣ）に基づいて、理想パターンとしての参照画像ＰＩを自動的に生成する。 - 特許庁

In (c) showing a pattern for measuring an amount of displacement, the sub-scanning length of a reference color pattern is extended and, therefore, an output from a detection sensor is the same as that in the case where sub-scanning displacement does not occur.例文帳に追加

本発明の位置ずれ量測定パターンである（ｃ）では、基準色パターンの副走査長さを延長したため、検出センサからの出力は、副走査位置ずれがない場合と同様となる。 - 特許庁

A pattern comparator 108 detects one pattern of pairs likely to be erroneously detected out of information patterns demodulated by a Viterbi decoder 105 by referring to a reference table 109.例文帳に追加

パターン比較器１０８は、参照テーブル１０９を参照して、ビタビ復号器１０５によって復調された情報パターンから、互いに誤検出される可能性があるペアのパターンの何れかを検出する。 - 特許庁

A plurality of template patterns are created from the reference image by a template pattern creating unit 400, matching of the processing image and the respective patterns is performed in a camera shake calculating unit 600, and a moving vector is calculated for each pattern.例文帳に追加

テンプレートパターン作成部400で、基準画像から複数のテンプレートパターンを作成し、カメラ揺れ算出部600で処理画像と各パターンのマッチングを行ない、パターン毎に移動ベクトルを算出する。 - 特許庁

If the carbon pattern 21 is immersed in water when the vehicle is submerged, its resistance value increases and the carbon pattern potential Vc exceeds a reference potential Vr, so that the submergence detection signal WS is output from the submergence determining circuit 22.例文帳に追加

水没時にカーボンパターン２１が浸水するとその抵抗値が増加し、カーボンパターン電位Ｖｃが基準電位Ｖｒを超えて、水没判定回路２２より水没検出信号ＷＳが出力される。 - 特許庁

To provide a rapid pattern matching architecture of a reference template or a pattern, and data, allowing selection of a plurality of algorithms, and realizing low power consumption.例文帳に追加

本発明の課題は、上記問題点に鑑み、基準テンプレートまたはパターンとデータとの迅速であり、複数のアルゴリズムを選択可能な低消費電力を実現するパターンマッチングアーキテクチャを提供することである。 - 特許庁

A reference speed level is plurally set at A and B levels, and a speed pattern is changed to a pattern during transition of forming a step-wise portion when a speed of the carriage reaches the set A level during the slow up.例文帳に追加

基準速度レベルをＡ，Ｂ複数レベル設定し、スローアップ時にキャリッジの速度が設定されたＡレベルに達したときに階段状部分（定速）を作る移行時のパターンに変更する。 - 特許庁

The reference unit refers to, per sub-region, pieces of lighting pattern data of the light sources which correspond to positions of sub-regions within the display, among a plurality of pieces of lighting pattern data of the light sources which are preliminarily held.例文帳に追加

参照部は、あらかじめ保持されている光源の複数の点灯パターンデータより、表示領域内での小領域の位置に応じた光源の点灯パターンデータを小領域ごとに参照する。 - 特許庁

A performance determination means 132 determines performance contents according to even the temporal position of the symbol variation and the kind of the limitation pattern selection reference in addition to the variation pattern in the limitation period.例文帳に追加

演出決定手段１３２は、限定期間においては、変動パターンに加えて、限定パターン選択基準の種類および図柄変動の時間的位置にも応じて演出内容を決定する。 - 特許庁

To print a pattern for specifying detecting reference positions (positioning of an XY coordinate) in a not discharging pattern of a full multiinkjet printer so as to minimize the influence such as the malfunction of a nozzle drive block.例文帳に追加

フルマルチインクジェットプリンタの不吐検出パターン内の検出基準位置（ＸＹ座標の位置決め）を特定する図形を、ノズル駆動ブロックの故障等の影響をできるだけ少なくなるように印字する。 - 特許庁