「reference pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To allow calculation of a difference value corresponding to one-to-multiple between an example sentence pattern and a word string of a text sentence without depending on pattern automatic extraction technology, and to translate an input sentence with high accuracy with a small calculation amount by use of an obtained reference parallel translation pattern.例文帳に追加

パターン自動抽出技術に依存することなく、例文パターンとテキスト文の単語列間で一対複数に対応した相違値の算出を可能とし、求められた参照対訳パターンを用いて、少ない計算量で精度良く入力文を翻訳できるようにする。 - 特許庁

When the remaining charged amount M lowers to less than the reference remaining amount Mref, in a step S4, a present shift pattern is determined whether it is a first pattern adopted when the remaining charged amount is sufficient or a second pattern adopted when the remaining charged amount is not sufficient.例文帳に追加

充電残量Mが基準残量Mrefを下回っていればステップＳ４へ進み、現在の変速パターンが、充電残量が十分な場合に採用される第１パターンおよび充電残量が不十分な場合に採用される第２パターンのいずれであるかが判定される。 - 特許庁

Intensities among the corresponding respective cells are compared sequentially from the center of the image, a new code is generated and allocated when the pattern is varied by a factor such as a reflectance of an object to bring the intensity among the cells into a threshold value ore more, so as to correct the stripe pattern of the reference stripe pattern memory 111.例文帳に追加

画像の中心から順に対応する各セル間の強度を比較し、対象物の反射率などの要因によってパターンが変化してセル間の強度が閾値以上異なった場合には新たなコードの生成、割り付けを行い、基準ストライプパターンメモリ１１１のストライプパターンを補正する。 - 特許庁

To provide a technology which quickly detects an obstacle on a crosswalk even when position and direction of an image pattern of the crosswalk in an image taken by a vehicle-mounted camera are not coincident with position and direction of a reference pattern representing the image pattern of the crosswalk on which no obstacle exists.例文帳に追加

車載カメラによる撮影画像の横断歩道部分の画像パターンの位置方向が、障害物が存在しない横断歩道部分の画像パターンである基準パターンの位置方向と合わないときにも横断歩道上の障害物を早期に検出できる技術を提供する。 - 特許庁

At the timing when encountering downfall by a drawing and completing the execution of N symbol variation operations after the termination of the probability variation game, a variation pattern selection table for reference is changed to a second variation pattern selection table 33B or a fourth variation pattern selection table 33D.例文帳に追加

そして、転落抽選に当選し、確率変動遊技が終了してからＮ回の図柄変動動作の実行が終了したタイミングで、参照用の変動パターン選択テーブルが、第２変動パターン選択テーブル３３Ｂまたは第４変動パターン選択テーブル３３Ｄに変更される。 - 特許庁

A module board MCB, wherein an IC chip and a passive component are mounted, has a monolayer wiring structure where a conductive pattern 36S used for signal transmission and a conductive pattern containing a conductive pattern 36G for connecting to the reference electrically are stuck to an insulating board 37.例文帳に追加

ＩＣチップおよび受動素子が実装されるモジュール基板ＭＣＢを絶縁性基板３７に信号伝達に用いられる導体パターン３６Ｓおよび基準電位と電気的に接続する導体パターン３６Ｇを含む導体パターンを貼付した単層の配線構造とする。 - 特許庁

A monochromatic image of the nondefective printed board is acquired, and the acquired monochromatic image is divided into each pattern region on reference to each registered pattern region, and the inspection standard used at the inspection time of the printed board is produced relative to each divided pattern region and registered (S5).例文帳に追加

良品のプリント基板のモノクロ画像を取得し、その登録されている各パターン領域を参照してその取得したモノクロ画像を各パターン領域に分割し、この分割させた各パターン領域ごとに、プリント基板の検査時に使用する検査基準を作成し、登録する（Ｓ５）。 - 特許庁

In the detection of a fingerprint, a pattern data representing the pattern of the fingerprint detected is loaded and when an input fingerprint data is compared with a registered finger print data, authentication is made in reference to the pattern data to enable the wiping out of errors attributed to the patterns detected, thereby improving the authentication function of the fingerprints.例文帳に追加

指紋を検出する際、その検知形態を表す形態データを取り込み、入力指紋データと登録指紋データとの比較の際に、形態データを参照して認証することにより、検知形態による誤差を払拭させることができ、指紋の認証機能を向上させている。 - 特許庁

A subtraction/comparator circuit 63 subtracts the sums P1-P5 with each other and compares the result with a reference value th1 to discriminate a rugged pattern of image density denoted by the sums P1-P5 and AND discrimination sections 65a, 65b AND the result so as to discriminate whether or not the pattern corresponds to a particular ten thousand lines pattern.例文帳に追加

減算・比較回路６３は加算値Ｐ１〜Ｐ５を互いに減算して基準値ｔｈ１と比較することで、加算値Ｐ１〜Ｐ５が示す画像濃度の凹凸パターンを判定し、ＡＮＤ判定部６５ａ，６５ｂでＡＮＤをとることで、特定の万線パターンに該当するか否かを判定する。 - 特許庁

A variation pattern determination means 115 of a Pachinko game machine 10 determines a variation pattern in reference to one of a plurality of kinds of limitation pattern selection references for performing performances corresponding to execution timing of the symbol variation in a limitation period after a special game end.例文帳に追加

ぱちんこ遊技機１０の変動パターン決定手段１１５は、特別遊技終了後の限定期間において、図柄変動の実行タイミングに応じた演出を行うための複数種類の限定パターン選択基準のうちいずれかを参照して変動パターンを決定する。 - 特許庁

A pattern for measurement configured of a reference phase transmitting part 3e and a phase difference transmitting part 3f whose phase difference with the reference position transmitting part 3e is in a degree other than 180° is projection-exposed to the surface of a semiconductor wafer applied with a resist simultaneously with a pattern to be exposed, and developed so that resist patterns for measurement can be formed.例文帳に追加

基準位相透過部３ｅ及び基準位相透過部３ｅとの位相差が１８０度以外の位相差透過部３ｆで構成された測定用パターンを、露光対象のパターンと同時にレジストを塗布した半導体ウェーハの表面へ投影露光し、現像処理して測定用レジストパターンを形成する。 - 特許庁

Since a pattern of the reference point in a mask for original image formed by preparation processing of a mask for original image corresponds to a pattern of the reference point in a mask for shrink image, distribution of reflectivity obtained from a shrink image is extremely close to distribution of reflectivity obtained from an original image.例文帳に追加

元画像用マスク準備処理により生成された元画像用マスクによれば、元画像用マスクにおける参照ポイントのパターンと、縮小画像用マスクにおける参照ポイントのパターンとが対応しているので、縮小画像から得られる反射率の分布が、元画像から得られる反射率の分布と極めて近くなる。 - 特許庁

In a reference pattern extraction method, a reference pattern having a unique signal feature is extracted in a region to be measured having an area that is smaller than that of a prescribed region optionally set into the prescribed region on an object having a plurality of prescribed regions where essentially identical machining is made.例文帳に追加

実質的に同一の加工が施された複数の所定領域を有する物体上の該所定領域内に任意に設定される該所定領域よりも小さい面積を有する被計測領域内でユニークな信号特徴を有する基準パターンを抽出する基準パターン抽出方法である。 - 特許庁

Closely to a position to drive the top end part of the nail 32 on the play panel surface 12, a reference pattern 36 is provided corresponding to a position and a form of the head 32A of the controlled nail 32 vertically to the play panel surface 12 and the reference pattern 36 is offset from the driving position just for the required nail control.例文帳に追加

遊技盤面１２の釘３２先端部打ち込み位置近傍には、調整後の釘３２の頭部３２Ａを遊技盤面１２に対して垂直方向から投影した位置及び形状に対応する基準模様３６が設けられ、基準模様３６は釘調整が必要な分だけ上記打ち込み位置からオフセットされている。 - 特許庁

A memory 27 of the battery system 11 stores a predetermined charging pattern according to the kind of the battery 12, and a reference value generation circuit 26 generates a reference value of charging, based on the quantity of electricity detected by a detector 25 for detecting the quantity of electricity momentarily and a charging pattern stored in the memory 27.例文帳に追加

電池システム１１のメモリ２７には、電池１２の種類に応じて予め定められた充電パターンが記憶され、基準値発生回路２６は電気量検出器２５で時々刻々検出される電気量及びメモリ２７に記憶された充電パターンに基づいて充電の基準値を発生する。 - 特許庁

The display purpose light source of the display device 12 is blinked according to a blink pattern corresponding to the selected device or blinked according to the blink pattern corresponding to the operation in the case of accepting the prescribed operation on the basis of the cross-reference between the devices and the blink patterns or on the basis of the cross-reference between the prescribed operations and the blink patterns.例文帳に追加

また、機器と点滅パターンとの対応、又は、所定の操作と点滅パターンとの対応に基づいて、表示器１２の表示用光源を、選択された機器に対応する点滅パターンで点滅、又は、所定の操作を受付けた場合は前記操作に対応する点滅パターンで点滅させる。 - 特許庁

The reference image generation part 3 calculates gradation values of respective pixels according to the number of subpixels belonging to patterns expanded in the respective pixels and regards the frequency values, obtained by dividing the gradation values by the number of gradation steps, as the width of the patterns expanded in the pixels to calculate the pattern width of the measured pattern and reference data.例文帳に追加

参照画像生成部３は、各画素内に展開されたパターンに属するサブ画素数に基づいて各画素の階調値を算出し、階調値を階調ステップ数で割った回数値をその画素内に展開されたパターンの幅として、被測定パターンと参照データのパターン幅を算出する。 - 特許庁

A conversion table 106a in which header data patterns are made to correspond to reference codes is prepared, an MPEG data format of an MPEG signal is analyzed, a GOP header is extracted, and the GOP header is converted into pattern data of a reference code.例文帳に追加

ヘッダデータのパターンと参照コードとを対応付けした変換表１０６ａを用意し、ＭＰＥＧ信号のＭＰＥＧデータフォーマットを解析して、ＧＯＰヘッダを抽出し、ＧＯＰヘッダを参照コードのパターンデータへ変換する。 - 特許庁

A digital data processor 1 can reduce the amount of data by converting time-base reference data outputted by a simulator into quasi-time-base reference data through sequential processing and then compressing the repetition of data of the same pattern.例文帳に追加

デジタルデータ処理装置１は、準逐次処理によって、シミュレータによって出力された時間軸基準のデータを準時間軸基準データに変換することにより、同一パターンのデータの繰り返しを圧縮し、データ量を削減可能である。 - 特許庁

A pixel counter 335 performs the count-up with reference to a pattern generation reference signal sent by a horizontal synchronization detection unit 333 and generates output signals H_ON and H_CNT based on the counted value and the setting information held in the register 331.例文帳に追加

画素カウンタ３３５は、水平同期検出部３３３から送出されてくるパターン生成基準信号を基準にカウントアップし、カウントした値と、レジスタ３３１に保持された設定情報とに基づいて、出力信号H_ON,H_CNTを生成する。 - 特許庁

When an analog input signal Vin has a feature of EYE pattern, a reference voltage generating circuit 21 outputs (m) ((m) is an integer of ≥2) reference voltages having different voltage values respectively corresponding to the bit accuracy of a digital code Dout'.例文帳に追加

アナログ入力信号ＶinがＥＹＥパターンの特徴を有する場合、基準電圧発生回路２１は、各々異なる電圧値を有し、デジタルコードＤout’のビット精度に応じたｍ（ｍは２以上の整数）個の基準電圧を出力する。 - 特許庁

The device is equipped with a light source which outputs laser light, an information light irradiating unit which irradiates a medium with information light, and a reference light irradiating unit which irradiates the medium with reference light to form a specified speckle pattern thereon.例文帳に追加

レーザ光を出力する１つの光源と、情報光を媒体に照射する情報光照射部と、特定のスペックルパターンが媒体に形成されるように、参照光を照射する参照光照射部とを備える。 - 特許庁

The monitor receives the reference signal pattern from a computer through the connection by an analog signal signal in the blanking period of the signal and adjusts the signal on the basis of the detected deviation from a corresponding control value of the reference signal.例文帳に追加

モニタは、たとえば、信号のブランキング期間中に、アナログ表示信号で接続を介してコンピュータから基準信号パターンを受け取り、基準信号の対応する制御値からの検出された偏差に基づいて信号を調整する。 - 特許庁

A reference lighting time specifying section 104 specifies the reference lighting time of each block from the dark potential distribution and a medium sensitivity distribution of a photoreceptor drum, a light amount distribution relative to the main scanning direction of a laser beam and the output dither pattern.例文帳に追加

基準点灯時間特定部１０４は、感光体ドラムの暗電位分布、及び中間感度分布、レーザービームの主走査方向に対する光量分布、並びに出力ディザパターンから各ブロックの基準点灯時間を特定する。 - 特許庁

In a retrieval meta-information creating process in a step S102, document data is read and reference bibliographic information and reference sentences are extracted from the document data based on the extraction pattern data registered in the step S101.例文帳に追加

ステップＳ１０２における検索用メタ情報作成処理では、書籍データが読み込まれ、ステップＳ１０１で登録された抽出パターンデータに基づいて、書籍データの中から参照書誌情報と参照文が抽出される。 - 特許庁

A figure pattern consisting of a plurality of (e.g. four) concentric circles is formed on a reference sample WP and an image (scanned image) is formed based on an electron signal obtained by scanning the reference sample WP with an electron beam.例文帳に追加

基準試料ＷＰの表面に、複数（例えば４つ）の同心円からなる図形パターンを形成し、この基準試料ＷＰを電子線でスキャンすることによって得られる電子信号に基づいて画像（スキャン画像）を形成する。 - 特許庁

A reference signal having the same pattern as a signal to which a frequency band limit equal to that which the signal of the M-series signal generator 10 receives on its propagation route is given is outputted from a reference signal generator 11'.例文帳に追加

参照信号発生器１１’からは、Ｍ系列信号発生器１０の信号が、その伝播経路において受けたものと同等の周波数帯域制限を施した信号と同じパターンの参照信号が出力されている。 - 特許庁

A reference signal of the pattern same to that of a signal applied with a frequency band limitation equivalent to that of the signal of the M line signal generator 10 received in a propagation route is output from a reference signal generator 11'.例文帳に追加

参照信号発生器１１’からは、Ｍ系列信号発生器１０の信号が、その伝播経路において受けたものと同等の周波数帯域制限を施した信号と同じパターンの参照信号が出力されている。 - 特許庁

At this time, based on the position of the own rolling stock measured by a position measurement portion 11, a target charge amount of an electrical power storage device 8 is determined, based on a position-reference charge amount pattern 22 from a position-reference charge amount database 12.例文帳に追加

このとき、位置計測部１１が計測した自車の位置に基づき、位置−基準充電量データベース１２からの位置−基準充電量パターン２２に基づいて蓄電装置８の目標充電量を決定する。 - 特許庁

The film thickness measuring device has an imaging part 32 which acquires a plurality of monochromatic images corresponding to a plurality of wavelengths, respectively, and a plurality of reference monochromatic images which indicate a pattern on a reference substrate are acquired by the imaging part 32.例文帳に追加

膜厚測定装置は、複数の波長にそれぞれ対応する複数の単色画像を取得する撮像部３２を有し、撮像部３２により参照基板上のパターンを示す複数の参照単色画像が取得される。 - 特許庁

The layout apparatus extracts each of a first pattern graphic and a second pattern graphic forming the same node from the graphic of the respective two layers, extracts an AND graphic in which the first pattern graphic and the second pattern graphic are ANDed, and generates a contact via in a prescribed shape according to a prescribed inclusion reference inside the AND graphic.例文帳に追加

レイアウト装置は、各２つの層の図形データから同一ノードを形成する第１パターン図形及び第２パターン図形をそれぞれ抽出し、第１パターン図形及び第２パターン図形を論理積処理した論理積図形を抽出し、論理積図形内に、所定の内包基準に従って所定形状のコンタクトビアを生成する。 - 特許庁

The patterns of a plurality of products are respectively imaged before pattern matching inspection is performed and, after the position correcting processing is performed with respect to a plurality of the taken-in pattern images, superposing processing and the binarization processing related to the brightness levels in the respective pixels of the superposed pattern image are performed to obtain the reference image used in the inspection of the product pattern.例文帳に追加

パターンのマッチング検査を行う前の複数の製品から、パターンをそれぞれ撮像し、取り込まれた複数のパターン画像に対して位置補正処理を行った後、重ね合わせ処理を行い、重ね合わされたパターン画像の各画素において輝度レベルに関する２値化処理を行い、製品パターン検査に用いる基準画像を得る。 - 特許庁

The diagnosing region of the infrared piping is heated and irradiated, in a predetermined irradiation pattern and a temperature change distribution pattern is measured by using an infrared camera, while a wall thickness distribution is estimated on the basis of a reference temperature change distribution pattern, the coefficient of internal heat transmission and the temperature change distribution pattern, and the deterioration of the piping is diagnosed on the basis of the wall thickness distribution estimated.例文帳に追加

赤外線配管診断する部位に対し、所定の照射パターンで加熱照射し、赤外線カメラを用いてに基づいて温度変化分布パターンを測定し、基準温度変化分布パターン、内部熱伝達係数及び温度変化分布パターンに基づいて肉厚分布を推定し、当該推定肉厚分布に基づいて配管劣化を診断する。 - 特許庁

A pattern setting part 26 reads the control pattern of the air conditioning equipment, actually existing in the past, and a determination result in accordance with current operation environment, sets a new control pattern adequate to the current operation environment with reference thereto, and drives an air-conditioner 12 to condition air with the newly set control pattern during current temperature control of an air-conditioned space.例文帳に追加

パターン設定部２６は、現在の運転環境に基づいて、過去に実在した空調設備の制御パターン及び判定結果を読み出し、それを参考にして現在の運転環境に適した新たな制御パターンを設定し、空調空間の今回の温度調節時に新たに設定した制御パターンでエアコン１２を駆動し空調調整を行う。 - 特許庁

To provide a printer which can enhance the quality of a composite pattern by forming a printing pattern to be a preliminarily set predetermined positional relation to at least two reference marks on a working cloth, and forming an embroidery pattern and the printing pattern to be a preliminarily set predetermined positional relation to the working cloth.例文帳に追加

加工布において少なくとも２つの基準マークに対して予め設定された所定の位置関係となるように印刷模様を形成し、加工布に刺繍模様と印刷模様とを予め設定された所定の位置関係となるように形成し、これら複合模様の品質を高めることができる印刷装置を提供する。 - 特許庁

As an offset pattern having a given offset amount corresponding one-to-one to the production information and other information contents in regard to a reference pattern such as a cross target pattern, a dot pattern, for example, is provided in an externally visible information writing position P that is also used as a further peripheral information writing position P for a peripheral circuit section 52.例文帳に追加

基準パターンとしての例えば十字ターゲット模様に対して、製造情報およびその他情報内容と一対一に対応した所定のオフセット量を持たせたオフセットパターンとしての例えばドット模様を、外部から視認可能な情報書込位置Ｐであって周辺回路部５２のさらに周辺の情報書込位置Ｐに設けられる。 - 特許庁

A pattern data adjusting part 11 generates or corrects injection pattern data so that a relative ratio of the number of jetting times per reference region of the liquid from each nozzle opening becomes a desired increase/decrease ratio corresponding to the distance.例文帳に追加

パターンデータ調整部１１は、各ノズル開口からの液体の基準領域あたりの吐出回数の相対的割合が前記距離に対応する所望増減割合となるように、噴射パターンデータを生成または修正する。 - 特許庁

According to the pattern assigned by the pattern assigning circuit 18, a table reference circuit 20 generates orthogonal transformation coefficient data corresponding to a higher-order components to be inserted to the right side and lower side of an orthogonal transformation coefficient block.例文帳に追加

テーブル参照回路２０は、パターン割当回路１８により割り当てられたパターンに従い、直交変換係数ブロックの右側及び下側に挿入されるべき高次成分に相当する直交変換係数データを生成する。 - 特許庁

The clamping piece 46 is brought into pressure contact with the solder peak pattern 2, by clamping the printed circuit board 1 on the reference supporting surface 42a carried at the periphery of the forming position of the solder peak pattern 2 at the clamping piece 46 with the clamping screw 5.例文帳に追加

半田盛りパターン２の形成箇所の周囲を基準支持面４２ａに載架したプリント基板１を締付け片４６に締付けねじ５で締め付けることによって、半田盛りパターン２に締付け片４６を圧接させる。 - 特許庁

A material ID determination part 133 obtains a material ID 902 corresponding to the failure pattern and a command 903 to be executed to collect it in reference to a related information table 144 by the extracted failure pattern.例文帳に追加

資料ＩＤ決定部１３３は、抽出した障害パターンにより関連情報テーブル１４４を参照して、前記障害パターンに対応する資料ＩＤ９０２と、それを収集するために実行すべきコマンド９０３を取得する。 - 特許庁

Check patterns CP1-CP3 consisting of a gradation pattern are printed by the not yet adjusted printer and the gradation pattern image is scanned by the sensor S thus specifying the position x where the density matches to the reference density.例文帳に追加

その未調整のプリント装置によってグラデーションパターンからなるチェックパターンＣＰ１〜ＣＰ３を印刷するとともに、このグラデーションパターン画像をセンサＳにより走査して、基準濃度と濃度の一致する位置ｘを特定する。 - 特許庁

When a foreign substance adjacent to the alignment mark 6 is erroneously recognized, the misidentification detecting pattern 7 is entered in a recognition image 9 to reduce a matching rate with a reference pattern 10 of a recognition apparatus, and as a result, the misidentification caused by the foreign substance can be prevented.例文帳に追加

アライメントマーク５近傍の異物を誤って認識した際に、認識画像９中に誤認識検出パターン７が入り認識装置の基準パターン１０とのマッチング率が低下し、異物による誤認識を回避できる。 - 特許庁

If a pattern corresponding to the second mask pattern changes in size owing to temporal variation in PPE in a device mass-production process, the intermediate film or resist film thickness is changed to a value at which the size change is reduced by reference to the database.例文帳に追加

デバイス量産工程においてＰＰＥの経時変化により第２マスクパターンに対応するパターンの寸法が変動した場合、データベースを参照し、中間膜又はレジストの膜厚を寸法変動が低減するような値に変更する。 - 特許庁

After canceling the inclination of the repetitive pattern formed on a work by the angular alignment, the intersection of streets in a vicinity of a center of the work is determined as the reference position for setting the machining range by the pattern matching.例文帳に追加

角度アライメントによって被加工物に形成された繰り返しパターンの傾きをうち消した後、パターンマッチングによって、被加工物の中心近傍にあるストリートの交点を、加工範囲設定のための基準位置として定める。 - 特許庁

Meanwhile, in a PWM processing section, a latent image is modified in pulse width with reference to a PWM pattern table in which the print color data before the gradation conversion is made to correspond to the PWM pattern.例文帳に追加

そして、濃度補正処理部１４７及びディザ処理部１５１で印刷色データの階調が変換され、階調変換後の印刷色データからオブジェクト生成部１５３とレンダリング部１５５において潜像画像が形成される。 - 特許庁